石英坩埚及其制造方法技术

技术编号:8805102 阅读:180 留言:0更新日期:2013-06-13 11:15
本发明专利技术提供具有强附着力的涂层的石英坩埚及其制造方法。所述石英坩埚包括具有内表面和外表面的石英玻璃本体,所述内表面构成用于容纳熔融材料或粉末材料的腔体;以及形成在所述石英玻璃本体的内表面上的第一涂层。所述第一涂层通过在预设温度下高温分解铝、镁、钙、钛、锆、镭、铬、硒、钡、钇、铈、铪、钽、锡或硅的化合物形成。所述第一涂层基本上由非均质材料组成,在所述透明玻璃本体和所述涂层的均质材料和非均质材料之间构成了界面。所述第一涂层具有较强的附着力,保证了所述涂层不会因手触摸、在石英坩埚中装入原材料或晃动较大的运输而轻易地脱落或移动。而且,外层的涂层增强了石英坩埚的机械强度,延长了其使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种石英坩埚,所述石英坩埚能经受高温,并能避免与置于其中进行熔融、转化或分解的材料发生物理或化学反应,尤其涉及一种具有涂层的,所述涂层具有强附着力。
技术介绍
石英坩埚被广泛地运用于容纳需要在高温下转化,如熔融或分解的材料。石英坩埚被设计成具有耐高温性、足够的机械性能和热学性能。最重要的是,要防止石英坩埚的内表面与容纳其中的材料发生物理或化学反应,避免某些杂质的产生。石英坩埚的典型应用是用于精细制备贵重金属或合金,如制备超合金。为避免在制备过程中产生某些杂质,现有技术,如专利号为US4723764的美国专利文件,公开了一些在石英坩埚的内壁上形成涂层的方法。其中一种方法包括:将浆料灌入石膏模型并进行风干,制成粉末烧结的熔融石英坩埚;然后,在所述坩埚内沉积氧化钇粉末基涂层,并在1200° C下对所述坩埚及所述涂层进行两个小时的烘烤。然而,用这种方法在石英坩埚内表面制作的涂层并不能解决涂层脱落及脱落的组分快速扩散的问题。利用提拉法工艺(Czochralsky process)制备单晶娃是石英 甘祸的重要应用之一。在一个典型的提拉法工艺中,多晶硅被装入坩埚中并在其中熔化,籽晶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:王璐孙雷雷劳伦·莫利斯保罗·萨古德
申请(专利权)人:圣戈班研发上海有限公司
类型:
国别省市:

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