【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于无机纳米材料合成领域,具体涉及一种三维花状水杨酸根插层的层状氢氧化物纳米材料及其制备方法。
技术介绍
近年来,控制合成三维纳米材料(three-dimensional nanomaterials) 一直是材料科学研究的热点之一。由于其具有的一些特殊的物理化学性质,将会在电磁学、电子学、催化、水处理和能源存储方面有很好的应用前景。层状金属氢氧化物是一类典型的阴离子型层状材料,由相互平行且带正电荷的层板组成,层间由平衡阴离子及水分子构成。此类材料由于其独特的晶体结构和物化特性使其在离子交换、吸附、催化、高分子改性、光学材料、磁学材料、电学材料等许多领域展现出极为广阔的应用前景。目前,成功的合成三维有序的层状金属氢氧化物花状纳米材料的报道有文献:L.Wang 等人 Hui Wang et al, Ind.Eng.Chem.Res.2010,49:2759 - 2767,以海藻酸钠为导向剂制备了花状碳酸根插层的N1-Al双金属氢氧化物纳米材料。文献:Deyi Wang等人 DY Wang et al, Trans.Nanoferrous Met.Soc.C ...
【技术保护点】
一种三维花状水杨酸根插层的层状氢氧化物纳米材料,其化学通式为:[M2+1?xM3+x(OH)2]X+(An?)x/n·mH2O,其中M2+为二价金属阳离子Co2+、Ni2+中的一种或两种、M3+为三价金属阳离子Al3+,An?为层间阴离子CO32?,NO3?,Cl?;X为M3+/(M2++M3+)的摩尔比值,且0≤X<0.5;m为层间自然形成的结晶水分子数;该材料是颗粒均匀的纳米粉末,其直径在1?2μm,其微观结构为花状结构,花瓣为均匀生长的纳米薄片,该纳米片的厚度为5?20nm。
【技术特征摘要】
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