中空二氧化硅的喷烧装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种中空二氧化硅的喷烧装置，以解决目前缺少制备中空二氧化硅使用的喷烧设备的问题，涉及硅材料及材料改性生产设备领域，该装置包括相互连接的喷烧部分和集料部分，所述喷烧部分包括一端设置有物料出口的喷烧腔，所述喷烧腔与物料出口相对的一端设置有喷烧器，喷烧器中部设置了进料通道；所述集料部分下端设置出料口。本实用新型专利技术提供的中空二氧化硅的喷烧装置，结构设计简单，使用方便，适用于制备中空二氧化硅，中空二氧化硅等中空粉体材料通过喷烧器向上喷烧或水平方向喷烧，便于比重较小的中空二氧化硅收集。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

:本技术涉及硅材料及材料改性生产设备领域，尤其涉及一种中空二氧化硅的喷烧装置。技术背景:目前，纳米二氧化硅粉体材料已广泛应用于机械、日用化工、生物医药、建筑业、航空航天业、农业等领域，在声、光、电、磁及热力学等方面也呈现出奇异的特性，亦可广泛用于微电子、信息材料、涂料、橡胶、塑料、农作物种子处理剂、抛光剂、LED光扩散剂、高级耐火材料及造纸等方面。软硅是一种新型二氧化硅粉体材料，英文名称siliesoft,是一种粒径在0.1 30微米范围内的二氧化硅粉体材料，可广泛应用于机械、日用化工、生物医药、建筑业、航空航天业、农业等领域，在声、光、电、磁及热力学等方面也呈现出奇异的特性，亦可广泛用于微电子、信息材料、涂料、橡胶、塑料、农作物种子处理剂、抛光剂、LED光扩散剂、高级耐火材料及造纸等方面。而现代高新技术的发展对材料的化学组成及形态均提出了严格的要求，同时也对粉体材料的微细化、功能化、高纯化和精细化提出了更高的要求。软硅材料的颗粒表面具有多孔，有较大的内部空间，因而具有很好的吸附性，可用作制备新材料以及改性材料的基体。现有技术中，制备中空二氧化硅需要对处理后的二氧化硅进行喷烧，而目前还没有用于制备中空二氧化硅的喷烧设备
技术实现思路
:本技术的目的在于提供一种中空二氧化硅的喷烧装置，以解决目前缺少制备中空二氧化硅使用的喷烧设备的问题。本技术所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:一种中空二氧化硅的喷烧装置，其特征在于:该装置包括相互连接的喷烧部分和集料部分，所述喷烧部分包括一端设置有物料出口的喷烧腔，所述喷烧腔与物料出口相对的一端设置有喷烧器，喷烧器中部设置了进料通道；所述集料部分下端设置出料口。所述集料部分通过送料管连接喷烧部分的物料出口。所述喷烧腔竖直设置或水平设置，其中竖直设置的喷烧腔，喷烧器设置在喷烧腔底端，由于中空二氧化硅比重比较小，喷烧时可随热气流上浮，喷烧器设置在底端，便于收集中空二氧化硅产品。本技术提供的中空二氧化硅的喷烧装置，结构设计简单，使用方便，适用于制备中空二氧化硅，中空二氧化硅等中空粉体材料通过喷烧器向上喷烧或水平方向喷烧，便于比重较小的中空二氧化硅收集。附图说明:图1为第一实施例的结构示意图；图2为第二实施例的结构示意图。其中，1.喷烧部分；2.集料部分；11.物料出口 ；12.喷烧腔；13.进料通道；14.喷烧器；21.送料管；22.出料口。具体实施方式:为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例和附图，进一步阐述本技术。实施例一一种中空二氧化硅的喷烧装置:如图1所示，该装置包括相互连接的喷烧部分I和集料部分2，喷烧部分I包括一端设置有物料出口 11的喷烧腔12，喷烧腔12与物料出口 11相对的一端设置有喷烧器14，喷烧器14中部设置了进料通道13 ;集料部分2下端设置出料口 22，集料部分2通过送料管21连接喷烧部分I的物料出口 11，喷烧腔12竖直设置，喷烧器14设置在喷烧腔12底端，由于中空二氧化硅比重比较小，喷烧时可随热气流上浮，喷烧器14设置在底端，便于收集中空二氧化硅产品。实施例二一种中空二氧化硅的喷烧装置:如图2所示，该装置包括相互连接的喷烧部分I和集料部分2，喷烧部分I包括一端设置有物料出口 11的喷烧腔12，喷烧腔12与物料出口 11相对的一端设置有喷烧器14，喷烧器14中部设置了进料通道13 ;集料部分2下端设置出料口 22，集料部分2通过送料管21连接喷烧部分I的物料出口 11，喷烧腔12水平设置，喷烧器14沿水平方向喷烧。以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本技术的优选例，并不用来限制本技术，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。权利要求1.一种中空二氧化硅的喷烧装置，其特征在于:该装置包括相互连接的喷烧部分和集料部分，所述喷烧部分包括一端设置有物料出口的喷烧腔，所述喷烧腔与物料出口相对的一端设置有喷烧器，喷烧器中部设置了进料通道；所述集料部分下端设置出料口。2.根据权利要求1所述的中空二氧化硅的喷烧装置，其特征在于:所述集料部分通过送料管连接喷烧部分的物料出口。3.根据权利要求1或2所述的中空二氧化硅的喷烧装置，其特征在于:所述喷烧腔竖直设置或水平设置，其中竖直设置的喷烧腔，喷烧器设置在喷烧腔底端。专利摘要本技术提供一种中空二氧化硅的喷烧装置，以解决目前缺少制备中空二氧化硅使用的喷烧设备的问题，涉及硅材料及材料改性生产设备领域，该装置包括相互连接的喷烧部分和集料部分，所述喷烧部分包括一端设置有物料出口的喷烧腔，所述喷烧腔与物料出口相对的一端设置有喷烧器，喷烧器中部设置了进料通道；所述集料部分下端设置出料口。本技术提供的中空二氧化硅的喷烧装置，结构设计简单，使用方便，适用于制备中空二氧化硅，中空二氧化硅等中空粉体材料通过喷烧器向上喷烧或水平方向喷烧，便于比重较小的中空二氧化硅收集。文档编号C01B33/12GK202945066SQ20122063759公开日2013年5月22日 申请日期2012年11月28日 优先权日2012年11月28日专利技术者蒋学鑫, 蒋玉楠 申请人:蚌埠鑫源石英材料有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种中空二氧化硅的喷烧装置，其特征在于：该装置包括相互连接的喷烧部分和集料部分，所述喷烧部分包括一端设置有物料出口的喷烧腔，所述喷烧腔与物料出口相对的一端设置有喷烧器，喷烧器中部设置了进料通道；所述集料部分下端设置出料口。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋学鑫，蒋玉楠，
申请(专利权)人：蚌埠鑫源石英材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：