低反光增印保护膜制造技术

本实用新型专利技术公开一种低反光增印保护膜，包括一基材层，此基材层上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层，此基材层下表面通过有机硅压敏胶与一离型膜粘合连接；所述离型膜包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层的原纸层和薄膜层，此薄膜层和原纸层通过一胶粘剂层粘接；所述雾面抗静电涂层另一表面涂覆有离型剂涂层，此雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.821um～3.324um，离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部。本实用新型专利技术低反光增印保护膜解决了现有保护膜不能印刷文字、图案的问题，且能大大降低了吸附灰尘和杂质的几率，从而有效避免了静电引起的严重损失。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种增印保护膜，尤其涉及一种低反光增印保护膜。
技术介绍
薄膜面板例如手机触摸按键，薄膜开关等产品在搬运和使用过程中，其表面容易受到接触性污染或磨痕划伤，通常采用保护膜覆盖在其表面使之免受损伤和污染。保护膜一般由基材层和涂覆在该基材层上的胶粘剂层构成。当保护膜用来保护各种薄膜面板例如手机触摸按键，薄膜开关等产品的表面时，需要在保护膜上印刷文字、图案等。传统的保护膜一般都没有经过耐磨增印处理，因此很难在保护膜上进行印刷作业，其次，现有增印保护膜中虽然原纸或淋膜以后的纸的表面具有凹凸状的花纹结构，可以使得感压胶的胶面有一定的雾度，但是由于凹凸形状的不均匀，使得有机感压胶胶面的雾度不均匀，有反光发亮的现象。
技术实现思路
本技术提供一种低反光增印保护膜，此低反光增印保护膜解决了现有保护膜不能印刷文字、图案的问题，且能大大降低了吸附灰尘和杂质的几率，从而有效避免了静电引起的严重损失。为达到上述目的，本技术采用的技术方案是:一种低反光增印保护膜，包括一基材层，此基材层上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层，此基材层下表面通过有机硅压敏胶与一离型膜粘合连接；所述离型膜包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层的原纸层和薄膜层，此薄膜层和原纸层通过一胶粘剂层粘接；所述雾面抗静电涂层另一表面涂覆有离型剂涂层，此雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.821um 3.324um，离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部。上述技术方案中进一步改进的技术方案如下:1、上述方案中，所述雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.921um 或者 3.12 um。2、上述方案中，所述薄膜层为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。由于上述技术方案运用，本技术与现有技术相比具有下列优点:本技术低反光增印保护膜，其有利于油墨图案与保护膜粘接，满足了印刷文字、图案的需要；其次，保护膜中雾面抗静电涂层，阻抗值达到上IO9 IOki Ω/sp，大大降低了吸附灰尘和杂质的几率，从而有效避免了静电引起的严重损失。附图说明附图1为本技术低反光增印保护膜结构示意图；附图2为本技术离型膜结构示意图。以上附图中:1、基材层；2、增印涂层；3、有机硅压敏胶；4、离型膜；41、雾面抗静电涂层；42、原纸层；43、薄膜层；44、胶粘剂层；45、离型剂涂层；46、凸起部。具体实施方式以下结合附图及实施例对本技术作进一步描述:实施例1:一种低反光增印保护膜，包括一基材层1，此基材层I上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层2，此基材层I下表面通过有机硅压敏胶3与一离型膜4粘合连接；所述离型膜4包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层41的原纸层42和薄膜层43，此薄膜层43和原纸层42通过一胶粘剂层44粘接；所述雾面抗静电涂层41另一表面涂覆有离型剂涂层45，离型剂涂层45另一表面具有若干个凸起部46。上述雾面抗静电涂层I与离型剂涂层5接触的表面的粗糙度为2.921 um，上述薄膜层43为聚丙烯薄膜。实施例2:—种低反光增印保护膜，包括一基材层1，此基材层I上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层2，此基材层I下表面通过有机硅压敏胶3与一离型膜4粘合连接；所述离型膜4包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层41的原纸层42和薄膜层43，此薄膜层43和原纸层42通过一胶粘剂层44粘接；所述雾面抗静电涂层41另一表面涂覆有离型剂涂层45，离型剂涂层45另一表面具有若干个凸起部46。上述雾面抗静电涂层I与离型剂涂层5接触的表面的粗糙度为3.12 um，上述薄膜层43为聚氯乙烯薄膜。采用上述低反光增印保护膜时，其有利于油墨图案与保护膜粘接，满足了印刷文字、图案的需要；其次，保护膜中雾面抗静电涂层，阻抗值达到上IO9 IOki Ω/sp，大大降低了吸附灰尘和杂质的几率，从而有效避免了静电引起的严重损失。上述实施例只为说明本技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本技术的内容并据以实施，并不能以此限制本技术的保护范围。凡根据本技术精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本技术的保护范围之内。权利要求1.一种低反光增印保护膜，其特征在于:包括一基材层(1)，此基材层(I)上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层(2)，此基材层(I)下表面通过有机硅压敏胶(3)与一离型膜(4)粘合连接；所述离型膜(4)包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层(41)的原纸层(42)和薄膜层(43)，此薄膜层(43)和原纸层(42)通过一胶粘剂层(44)粘接；所述雾面抗静电涂层(41)另一表面涂覆有离型剂涂层(45)，此雾面抗静电涂层(41)与离型剂涂层(45)接触的表面的粗糙度为2.821um 3.324um,离型剂涂层(45)另一表面具有若干个凸起部(46)。2.根据权利要求1所述的低反光增印保护膜，其特征在于:所述雾面抗静电涂层(I)与离型剂涂层(5)接触的表面的粗糙度为2.921 um或者3.12 um。3.根据权利要求1所述的低反光增印保护膜，其特征在于:所述薄膜层(43)为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。专利摘要本技术公开一种低反光增印保护膜，包括一基材层，此基材层上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层，此基材层下表面通过有机硅压敏胶与一离型膜粘合连接；所述离型膜包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层的原纸层和薄膜层，此薄膜层和原纸层通过一胶粘剂层粘接；所述雾面抗静电涂层另一表面涂覆有离型剂涂层，此雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.821um～3.324um，离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部。本技术低反光增印保护膜解决了现有保护膜不能印刷文字、图案的问题，且能大大降低了吸附灰尘和杂质的几率，从而有效避免了静电引起的严重损失。文档编号B32B27/06GK202934876SQ201220532510公开日2013年5月15日 申请日期2012年10月17日 优先权日2012年10月17日专利技术者金闯, 张庆杰 申请人:斯迪克新型材料(江苏)有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低反光增印保护膜，其特征在于：包括一基材层（1），此基材层（1）上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层（2），此基材层（1）下表面通过有机硅压敏胶（3）与一离型膜（4）粘合连接；所述离型膜（4）包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层（41）的原纸层（42）和薄膜层（43），此薄膜层（43）和原纸层（42）通过一胶粘剂层（44）粘接；所述雾面抗静电涂层（41）另一表面涂覆有离型剂涂层（45），此雾面抗静电涂层（41）与离型剂涂层（45）接触的表面的粗糙度为2.821um～3.324um，离型剂涂层（45）另一表面具有若干个凸起部（46）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金闯，张庆杰，
申请(专利权)人：斯迪克新型材料江苏有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32