液晶取向处理剂、液晶取向膜及液晶显示元件制造技术

本发明专利技术提供一种能够提供不易伴随摩擦处理而产生聚合物被膜的磨屑及损伤、长时间光照射后的电压保持率的下降得到抑制的液晶取向膜的液晶取向处理剂、由该液晶取向处理剂所得的液晶取向膜及液晶显示元件。一种液晶取向处理剂，它包含以下述式[1]表示的化合物(成分(A))和选自聚酰亚胺前体及聚酰亚胺的至少1种的聚合物(成分(B))。(化1)(X1是由脂肪族烃基或非芳香族类环烃基构成的2价有机基团，X2是单键、-O-、-NH-、-S-、-SO2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NHCO-、-CO-、苯环或环己烷环，X3是选自下述式[1-1]～[1-6]的至少1种)。(化2)(W1表示氢原子或苯环；W2是选自苯环、环己烷环及杂环的环状基团；(W3是具有1~18个碳的烷基、含氟烷基、烷氧基或含氟烷氧基)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及制作液晶取向膜时使用的液晶取向处理剂、使用该液晶取向处理剂的液晶取向膜以及液晶显示元件。
技术介绍
目前，液晶显示元件作为实现薄型和轻量的显示器件，正在被广泛使用。通常，对于液晶显示元件，为了决定液晶的取向状态而使用液晶取向膜。此外，除一部分的垂直取向型的液晶显示元件等外，该液晶取向膜在大部分情况下是通过对在电极基板上所形成的聚合物被膜的表面进行某种取向处理来制作的。作为聚合物被膜的取向处理方法，目前通常所使用的方法是，对该聚合物被膜表面使用以人造丝等为原材料的布施加压力进行摩擦、即进行摩擦处理的方法。作为消除由于伴随该摩擦处理而产生聚合物被膜的磨屑的问题的方法，提出了使用固化剂而提高耐磨擦性的方法:使用除了聚酰胺酸或聚酰亚胺中的至少I种的聚合物以外还含有特定的热交联性化合物的液晶取向处理剂的方法(例如参照专利文献I);使用含有含环氧基的化合物的液晶取向处理剂的方法(例如参照专利文献2)等。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利特开平9-185065号公报专利文献2:日本专利特开平9-146100号公报专利技术的揭示专利技术所要解决的技术问题近年来，为了缩短液晶显示本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.13 JP 2010-1587831.种液晶取向处理剂,它包含下述的成分(A)和成分(B), 成分(A):以下述式[I]表示的化合物； 成分(B):选自聚酰亚胺前体及聚酰亚胺的至少I种的聚合物； [化I]2.权利要求1所述的液晶取向处理剂，其特征在于，式[I]的X1中，所述2价有机基团所具有的不与氨基邻接的任意的-CH2-可以被-0-、-COO-、-0C0-、-CONH-、-NHCO-、-CO-、-S-,-S (0) 2-、-CF2-、-C (CF3) 2-、_C (CH3) 2-、_Si (CH3) 2_、_0Si (CH3) 2-、_Si (CH3) 20-、_0Si (CH3) 20_、环状烃基或杂环取代，与任意的碳原子连结的氢原子可以被碳数I 20的直链状烷基、碳数3 20的分支状烷基、碳数3 20的环状烃基、碳数I 10的含氟烷基、杂环、氟原子或羟基取代。3.权利要求1或2所述的液晶取向处理剂，其特征在于，式[I]的X2是单键、-0C0-、-NHCO-、苯环或环己烷环。4.权利要求1 3中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，式[I]的X3是具有以式[1-2]、式[1-4]、式[1-5]或式[1-6]表示的结构的基团。5.权利要求1 4中任一项所述的液晶取向处理剂,其特征在于,成分⑶是选自使二胺成分和四羧酸二酐成分反应而得的聚酰胺酸及使该聚酰胺酸脱水闭环而得的聚酰亚胺的至少I种聚合物。6.权利要求5所述的液晶取向处理剂，其特征在于，二胺成分是以下述式[2]表示的二胺化合物， [化3]7.权利要求6所述的液晶取向处理剂，其特征在于，以式[2]表示的二胺化合物占二胺成分中的5 80摩尔％。8.权利要求5 7中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，四羧酸二酐是以下述式[3]表示的四羧酸二酐； [化4]9.权利要求8所述的液晶取向处理剂，其特征在于，式[3]中的Z1是...

【专利技术属性】
技术研发人员：保坂和义，后藤耕平，三木德俊，片山雅章，园山幸司，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：
国别省市：