光分解型配向膜的制备方法、液晶显示基板和装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光分解型配向膜的制备方法、液晶显示基板和装置，属于液晶显示配向膜技术领域，其可解决现有的光分解型配向膜会导致液晶显示装置出现对比度低、漏光、残像等不良的问题。本发明专利技术的光分解型配向膜的制备方法包括：在基板上形成光分解型配向材料的膜层；用线偏振光照射所述膜层使部分光分解型配向材料分解，得到形成有光分解型配向膜的基板；用清洗剂清洗所述基板上的光分解型配向膜。本发明专利技术的液晶显示基板和装置中包括上述方法制备的光分解型配向膜。本发明专利技术可用于各种模式的具有光分解型配向膜的液晶显示装置，尤其是具有分解产物分子较大的光分解型配向膜的液晶显示装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于液晶显示配向膜
，具体涉及一种光分解型配向膜的制备方法、液晶显示基板和装置。
技术介绍
配向膜是液晶显示装置中的重要结构，其分别设在阵列基板和彩膜基板的相对侧面上，用于使与其接触的液晶材料发生特定取向(即使液晶分子按特定方向排布)，从而用于显示。为使配向膜产生所需的配向效果，传统做法是用带绒毛的摩擦布沿特定方向摩擦(Rubbing)配向膜,使配向膜产生特定方向的沟槽，从而与其接触的液晶分子会沿沟槽的方向取向。但是，摩擦过程中会产生大量的碎屑(如配向膜碎屑、摩擦布碎屑)而污染液晶、弓I起缺陷，且摩擦中的机械力、静电等作用还可能破坏基板上的显示结构，同时摩擦的均匀度也难以保证；因此，摩擦取向法效果不佳，达不到高像素液晶显示装置的要求。由于摩擦取向的缺点，故光配向技术受到了越来越高的重视。光配向材料中包括具有配向性的光敏基团，在经过线偏振光(通常为紫外光)照射后，光配向膜中部分方向的光敏基团会发生反应而失去配向性，从而剩余的光敏基团沿特定方向分布(即光配向膜产生各向异性)，可使液晶分子沿所需方向取向。根据受到光照后所发生反应的不同，光配向膜可分为光分解型配向膜、光异构本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光分解型配向膜的制备方法，其特征在于，包括：在基板上形成光分解型配向材料的膜层；用线偏振光照射所述膜层使部分光分解型配向材料分解，得到形成有光分解型配向膜的基板；用清洗剂清洗所述基板上的光分解型配向膜。

【技术特征摘要】
1.种光分解型配向膜的制备方法，其特征在于，包括: 在基板上形成光分解型配向材料的膜层； 用线偏振光照射所述膜层使部分光分解型配向材料分解，得到形成有光分解型配向膜的基板； 用清洗剂清洗所述基板上的光分解型配向膜。2.据权利要求1所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述清洗剂包括强氧化剂。3.据权利要求2所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述强氧化剂为臭氧、氟气、氯气、溴气、碘蒸气中的任意一种或多种。4.据权利要求3所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 清洗剂的组分全部为所述强氧化剂； 或 清洗剂为所述强氧化 剂与惰性载气的混合气体，所述强氧化剂在混合气体中的含量为lg/m3 500g/m3 ； 或 清洗剂为所述强氧化剂的水溶液，所述强氧化剂在水溶液中的浓度为lmg/L 1000mg/L05.据权利要求2所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述强氧化剂为过氧化氢。6.据权利要求5所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述清洗剂的组分全部为过氧化氢； 或 所述清洗剂为过氧化氢的水溶液，所述过氧化氢的水溶液中，过氧化氢与水的质量比为(I 70): 100。7.据权利要求2至6中任意一项所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述清洗时间为3秒 I小时。8.据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘锋，林准焕，肖印，张俊瑞，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：