一种对基板进行摩擦取向的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例提供一种对基板进行摩擦取向的装置，包括：承载基板的基台；位于所述基台的上方的至少两个辊；用于控制所述辊在转动状态下与所述基板接触，并对所述基板进行摩擦取向操作的控制单元；受所述控制单元控制，用于使所述辊和所述基板相对运动的驱动结构。将Rubbing装置的辊增加为至少两个，基板经过至少两次摩擦取向操作，若前面的辊在对基板进行摩擦取向后，基板上出现了缺陷(mura)，由于后续的辊在该缺陷处进行正常的摩擦取向，因而后续的各次摩擦取向会消除这一缺陷，从而防止基板加电后出现亮度不均匀。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液晶显示器基板取向技术，特别是指一种对基板进行摩擦取向的>J-U ρ α装直。
技术介绍
摩擦取向(Rubbing)工艺是制造薄膜晶体管液晶显示器(TFT-1XD)过程的一道重要工序，位于成盒工艺之前，一般会在扭曲阵列(TN，Twisted Nematic)模式、平面切换(IPS, In plane switching)和边缘场切换(FFS,Fringe fieldswitching)模式中用到；包括:转动一个套有摩擦布(Rubbing布)的辊，对已经涂覆取向液的薄膜晶体管(TFT，ThinFilm Transistor)阵列基板或彩色滤光片(CF, Color Filter)基板进行取向操作。由于辊的转速，基板的运动速度，摩擦布的各个参数等一系列因素的互相作用，摩擦取向操作会出现不均匀，这种不均匀会造成基板加电压后的整体亮度出现不均匀，由于这种亮度不均勻是由Rubbing工艺造成的,称之为摩擦缺陷(Rubbing Mura)。现有技术存在如下问题:现有的Rubbing装置只有一个辊3对基板2进行摩擦取向操作。而在摩擦工艺中由于存在系统误差和机械误差，系统误差和机械误差会导致辊的摩擦取向操作出现不均匀，这种不均匀会对基板产生不良的影响；且由于辊的圆周运动存在周期性，造成摩擦取向操作的力度存在周期性的变化，以上原因均会导致摩擦后的成品的基板如图1所示，加电压后出现亮度不均匀。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种对基板进行摩擦取向的装置，用于解决现有技术中，由于存在系统误差和机械误差，以及辊的圆周运动存在周期性，造成摩擦取向操作的力度存在周期性的变化，导致摩擦后的成品的基板，加电压后出现亮度不均匀的缺陷。为解决上述技术问题，本技术的实施例提供一种对基板进行摩擦取向的装置，其特征在于，包括:承载基板的基台；位于所述基台的上方的至少两个辊；用于控制所述辊在转动状态下与所述基板接触，并对所述基板进行摩擦取向操作的控制单元；受所述控制单元控制，用于使所述辊和所述基板相对运动的驱动结构。具体的，每一个所述棍为圆柱体，其外表面套设有摩擦布。具体的，所述摩擦布具有一个缝制后所形成的合缝。具体的，相邻的两个辊之间的间距b=(N+l/n)a，其中N是满足N ^ I的正整数，η是辊的总数目，a是所述基板在所述辊转动一周的时间内相对于所述辊行进的距离。具体的，所述辊的总数目η为3。具体的，所述基台包括用于控制基板在基台上保持匀速运动的传动装置。具体的，所述驱动结构为机械衔接所述控制单元和所述辊的转动轴。本技术的上述技术方案的有益效果如下 :将Rubbing装置的辊增加为至少两个，基板经过至少两次摩擦取向操作，若前面的辊在对基板进行摩擦取向后，基板上出现了缺陷(mura)，由于后续的辊在该缺陷处进行正常的摩擦取向，因而后续的各次摩擦取向会消除这一缺陷，从而防止基板加电后出现亮度不均匀。附图说明图1表示受到不均匀摩擦取向操作导致加电压后出现亮度不均匀的基板的表面；图2表示本技术提供的对基板进行摩擦取向的装置的结构示意图；图3表不棍的圆柱体外表面包裹有摩擦布；图4表示相邻的两个辊之间的间距结构示意图；图5表示辊的总数目为三的装置结构示意图。具体实施方式为使本技术要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。图2表示本技术提供的对基板进行摩擦取向的装置的结构示意图。本技术实施例提供一种对基板2进行摩擦(Rubbing)的装置，如图2所示，包括:承载基板2的基台I ;位于所述基台I的上方的至少两个辊3 ；用于控制所述辊3在转动状态下与所述基板2接触，并对所述基板2进行摩擦取向操作的控制单元4 ;受所述控制单元4控制，用于使所述辊3和所述基板2相对运动的驱动结构7。根据本技术实施例所提供的技术方案，将Rubbing装置的辊3增加为至少两个，基板2经过至少两次摩擦取向操作，若前面的辊3在对基板2进行摩擦取向后，基板2上出现了缺陷(mura)，由于后续的辊3在该缺陷处进行正常的摩擦取向，因而后续的各次摩擦取向会消除这一缺陷，从而防止基板2加电后出现亮度不均匀。具体的，图3表不棍的圆柱体外表面包裹有摩擦布,如图3所不,每一个所述棍3的圆柱体外表面套设有摩擦布5。摩擦布5由矩形的一组对边交接形成，交接处具有一个缝制后所形成的合缝6。每一个棍3的圆柱体外表面包裹有摩擦布5,包括厚度参数、粗糙参数和接口缝制参数；处于展开状态的摩擦布5为矩形，其中的两个对边缝制后形成合缝6 ；摩擦布5包裹住辊3的圆柱体外表面后，对接的两边形成合缝6。具体的，基板2在基台I上处于匀速运动状态，具有第一速度Vl ；辊3具有第二速度V2，第二速度V2是描述辊3的圆周运动的速度，第二速度V2在辊3与基板2接触处的切线方向与第一速度的方向相同。第二速度V2为角速度，该角速度在不同的空间位置处的切线方向是不同的，例如，在辊3的顶端的切线方向与第一速度的方向相反，在棍3与基板2接触处的切线方向则与第一速度的方向相同。第一速度Vl是V毫米/秒，第二速度V2是g转/分钟；基板在辊转动一周的时间内相对于辊行进的距离是a=v*60/g=60v/g。图4表示相邻的两个辊之间的间距结构示意图，如图4所示，在一个优选实施例中，相邻的两个辊3之间的间距b=(N+l/n)a，其中N是满足N彡I的正整数，η是辊3的总数目，a是基板在辊转动一周的时间内相对于辊行进的距离。其中，基板在辊转动一周的时间内相对于辊行进的距离a，是同一个辊3在基板2上形成的两个mura之间的距离，由于(N+1/n)不会出现整数值，因此相邻的两个辊3之间若间距b，能够最大程度的保证各个辊3在基板2上形成的mura不会出现重叠。图5表示辊的总数目为三的装置结构示意图，如图5所示，在一个优选实施例中，辊3的总数目η为3。在一个优选实施例中,所述驱动结构7为转动轴,通过机械衔接使控制单元4精确控制辊的转速。具体的，所述控制单元4可以为电脑，通过驱动结构7达到精确控制辊的转速。应用实施例提供的技术方案，将Rubbing装置的辊3增加为至少两个，系统误差和机械误差在每一个辊3上的周期性作用不同，如图2所示，各个辊3依次对基板2进行摩擦取向，这一过程中，即便第一个辊3摩擦取向后在基板2上出现了 mura，但第二个辊3再次对基板2进行摩擦取向时，由于第二个辊3的合缝6在基板2上的落点位置与第一个辊3在基板2上的落点位置不相同，因此能够对之前出现的mura进行正常的摩擦取向，同理，之后的辊3也能够对之前出现的mura进行正常的摩擦取向，如此，则保证了 mura出现处在经过η个辊3的作用后，正常区域被正常摩擦取向η次，mura出现处可以被正常摩擦取向n_l次，从而降低了摩擦缺陷的影响。在一个应用场景中，基板2的运动速度是V毫米/秒,棍3的转速为g转/分钟，基板在辊转动一周的时间内相对于辊行进的距离为a=v*60/g=60v/g ；不失一般性，装置具有三个辊3，并且设定相邻两辊3之间的间距b= (N+l/3) a，N是满足N彡I的正整数。在保证摩擦缺陷不大于预定阈值的前提下，加快基台I的速度，可以提高传输基板2的第一速度,从而可以节省本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对基板进行摩擦取向的装置，其特征在于，包括：承载基板的基台；位于所述基台的上方的至少两个辊；用于控制所述辊在转动状态下与所述基板接触，并对所述基板进行摩擦取向操作的控制单元；受所述控制单元控制，用于使所述辊和所述基板相对运动的驱动结构。

【技术特征摘要】
1.一种对基板进行摩擦取向的装置，其特征在于，包括: 承载基板的基台； 位于所述基台的上方的至少两个辊； 用于控制所述辊在转动状态下与所述基板接触，并对所述基板进行摩擦取向操作的控制单兀； 受所述控制单元控制，用于使所述辊和所述基板相对运动的驱动结构。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于， 每一个所述辊为圆柱体，其外表面套设有摩擦布。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述摩擦布具有一个缝制后所形成的合缝。4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨亚锋，柳在健，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：