【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及从液晶制造エ序等所排出的含有过氧化氢的。
技术介绍
液晶制造エ序中的铜蚀刻处理,通常使用含有高浓度的过氧化氢的药剂。因此,从铜蚀刻エ序所排出的铜蚀刻废液中含有高浓度的过氧化氢,其过氧化氢浓度通常为I重量%以上,有时会有高至6重量%左右的情形。以往以来,由于过氧化氢浓度高的铜蚀刻废液,进行水处理较困难,因此,稀释后作为产业废弃物进行处理,但是如过氧化氢浓度高时,则在产业废弃物处理时有爆炸的危险性,即使供为废液处理时,仍然需要预先将过氧化氢加以处理。作为过氧化氢的处理方法,一般使用:活性炭、过氧化氢酶(catalase)、锰催化剂(manganese catalyst)等,但是如过氧化氢浓度在超过1000mg/L时,则有催化剂性能的低落或催化剂使用量増大等的课题。因此,如对过氧化氢浓度为I重量%以上的铜蚀刻废液,适用此种处理方法时,在实用上有问题。以往以来,作为含有高浓度的过氧化氢的铜蚀刻废液中所含的过氧化氢的处理方法,有人提出将铜蚀刻废液加热为60至80°C,并在该温度范围维持0.5至10小时的方法(专利文献I)。然而,该方法中,具有过氧化氢的分 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.09.08 JP 2010-2011581.一种铜蚀刻废液的处理方法,其特征在于,其包含将含有过氧化氢的铜蚀刻废液调整至PH4以上的工序。2.按权利要求1所述的铜蚀刻废液的处理方法,其中,其包含将通过前述将含有过氧化氢的铜蚀刻废液调整至PH4以上的工序所发生的SS进行固液分离的工序。3.按权利要求2所述的铜蚀刻废液的处理方法,其中,其包含将经固液分离的前述SS的一部分或全部添加于含有过氧化氢的铜蚀刻废液中的工序。4.按权利要求2或3所述的铜蚀刻废液的处理方法,其中,其包含将经固液分离的前述SS进行回收的工序。5.按权利要求1至4中 任一项所述的铜蚀刻废液的处理方法,其中,其包含将通过前述含有过氧化氢的铜蚀刻废液的处理所得到的处理水作为稀释水添加于前述含有过氧化氢的铜蚀刻废液中的工序。6.按权利要求1至5中任一项所述的铜蚀刻废液的处理方法,其中,前述含有过氧化氢的铜蚀刻废液的过氧化氢浓度为I重量%以上、且pH为3以下。7.按权利要求6所述的铜蚀刻废液的处理方法,其中,前述含有过氧化氢的铜蚀刻废液的过氧化氢浓度为I 10重量%、pH为I 3,并且,过氧化氢以外的成分含量为:铜0.1 1...
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