【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于在较大制冷系统中、特别是在冷藏容器的制冷设备/单元中对抗细菌培养物、病毒、真菌培养物、霉菌和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的方法和装置，其中与利用二氧化钛处理的过滤器结合地，在操作期间利用UV光连续地辐照冷却空气；以及一种用于执行根据本专利技术的方法的装置。本专利技术还包括较大冷却设备，该较大冷却设备包括用于执行根据本专利技术的方法的装置。
技术介绍
较大冷却系统典型地通过冷却空气操作，已经被冷却为适宜温度的该冷却空气在完全或者部分密封的隔舱中通过风扇循环和再循环，在该隔舱中布置的货物的保存期限取决于被冷却到的特定温度。 对此的示例是冷却容器，其包括具有独立冷却系统的隔热容器，该独立冷却系统被典型地布置在该冷却容器的一端，其中冷却空气通过在冷凝器上的风扇并经由引出到冷却容器外壳内的管道循环，由此布置在其中的货物例如在运输期间被冷却至确定的温度。在本专利技术以下的说明书中，为了简化，与冷却容器一起描述本专利技术，但是，这应当不限制本专利技术，因为在具有经冷凝器循环的冷却空气循环的较大冷却设备，和通常的冷却设备和冷藏库中，用于本专利技术的原理...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.05.26 DK PA2010004631.一种用于在制冷设备/单元(4)中、特别是在冷却容器中的制冷设备/单元(4)中对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面(28)上形成和传播的方法，其中与利用二氧化钛处理的过滤器(12)结合地，在操作期间利用UV光照射冷却空气和冷凝器表面，其特征在于，在紧接所述制冷设备/单元操作停止的时间段中，利用由高频发生器产生的电磁辐射照射所述冷却空气和所述冷凝器。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述UV光的波长位于200-300nm范围内、典型地在240-270nm范围内、并且优选地波长位于250_260nm内。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述UV光具有在254nm处的波长。4.根据权利要求1-3中的任何一项所述的方法，其特征在于，UV光源的强度位于5-100W范围内、典型地在25-75W内、并且优选地在55-65W内。5.根据权利要求1-4中的任何一项所述的方法，其特征在于，所述UV光源的强度是大约 60W。6.根根据权利要求1-5中的任何一项所述的方法，其特征在于，所述UV光源由管状光源组成。7.根据权利要求1-6中的任何一项所述的方法，其特征在于，所述UV光源被布置在离具有二氧化钛的所述过滤器在范围l-200mm内、典型地20_140mm、并且优选地在范围40-60mm内的距离。8.一种用于执行根据权利要求1-7中的任何一项所述的方法的装置(2)，其特征在于，所述装置(2)包括紧邻冷凝器(28)安装的框架(6)，所述框架(6)包括充满二氧化钛的过滤器(12)，和离所述过滤器(12)—定距离的UV光源(20)，所述光源(20)被以如下方式与控制单元布置在一起:使得所述UV光源优选地与所述制冷设备/单元(4) 一起激活和关闭。9.根据权利要求8所...
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