壳体及其制备方法技术

一种壳体，其包括基材，其特征在于：该壳体还包括形成于基材表面的基底陶瓷层、形成于基底陶瓷层表面的透明陶瓷层；基底陶瓷层与透明陶瓷层之间还设置有图案层，且该图案层嵌入于基底陶瓷层中，该图案层由陶瓷组成。所述壳体表面呈现具有陶瓷质感的图案，提高了壳体的外观竞争力。此外，本发明专利技术还提供一种所述壳体的制备方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
为了使电子装置的金属外壳具有吸引力的外观，目前主要通过镭射雕刻、化学蚀刻等方法在金属壳体上形成图案。然而，该种方法制作的图案，视觉效果不强，且不能呈现出独特的质感，难以吸引消费者的眼球。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种有效解决上述问题的壳体。另外，还有必要提供一种上述壳体的制备方法。—种壳体，其包括基材，该壳体还包括形成于基材表面的基底陶瓷层、形成于基底陶瓷层表面的透明陶瓷层；基底陶瓷层与透明陶瓷层之间还设置有图案层，且该图案层嵌入于基底陶瓷层中，该图案层由陶瓷组成。一种壳体的制备方法，其包括如下步骤: 提供基材； 采用静电喷涂及高温烧结工艺在基材的表面形成基底陶瓷层； 在基底陶瓷层表面形成图案层，将陶瓷花纸的花膜均匀贴在基底陶瓷层的表面并进行高温烧结处理； 采用静电喷涂及高温烧结工艺在基材的表面形成透明陶瓷层。本专利技术所述壳体通过在金属材质的基材上依次形成基底陶瓷层、图案层及透明陶瓷层，能使所述壳体表面呈现具有陶瓷质感的图案，提高了壳体的外观竞争力；且形成于基材表面的各膜层具有良好的化学稳定性，耐磨性，可有效提高壳体的使用寿命。附图说明图1为本专利技术一较佳实施例的壳体的剖视图。主要元件符号说明

【技术保护点】
一种壳体，其包括基材，其特征在于：该壳体还包括形成于基材表面的基底陶瓷层、形成于基底陶瓷层表面的透明陶瓷层；基底陶瓷层与透明陶瓷层之间还设置有图案层，且该图案层嵌入于基底陶瓷层中，该图案层由陶瓷组成。

【技术特征摘要】
1.一种壳体，其包括基材，其特征在于:该壳体还包括形成于基材表面的基底陶瓷层、形成于基底陶瓷层表面的透明陶瓷层；基底陶瓷层与透明陶瓷层之间还设置有图案层，且该图案层嵌入于基底陶瓷层中，该图案层由陶瓷组成。2.按权利要求1所述的壳体，其特征在于:该基材的材质为不锈钢或钛合金。3.按权利要求1所述的壳体，其特征在于:该基底陶瓷层由氧化物陶瓷组成，该基底陶瓷层包括质量百分含量分别为60-70%的氧化硅、15-20%的氧化铝、5-10%的色素原料、5_6%的氧化钾、4-6%的氧化钠、0.4-0.6%的氧化镁、0.2-0.4%的氧化铁、0.2-0.4%的氧化I丐；其中，该色素原料为氧化钛、三氧化铁、四氧化三铁或氧化钴中的一种。4.按权利要求1所述的壳体，其特征在于:该图案层由氧化物陶瓷组成，该图案层包括质量百分含量分别为60-70%的氧化硅、15-20%的氧化铝、5-10%的色素原料、5_6%的氧化钾、4-6%的氧化钠、0.4-0.6%的氧化镁、0.2-0.4%的氧化铁、0.2-0.4%的氧化I丐；其中，该色素原料为氧化钛、三氧化铁、四氧化三铁或氧化钴中的一种。5.按权利要求1所述的壳体，其特征在于:该透明陶瓷层由氧化物陶瓷组成，该透明陶瓷层包括质量百分含量分别为75-85%的氧化硅、5-12%的氧化铝、5-8%的氧化钾、4_6%的氧化钠、0.4-0.6%的氧化镁、0.2-0.4%的三氧化铁、0.2-0.4%的氧化钙。6.按权利要求1所述的壳体，其特征在于:该基底陶瓷层的厚度为0.15-0.18mm。7.按权利要求1所述的壳体，其特征在于:该透明陶瓷层的厚度为0.0...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱永刚，
申请(专利权)人：深圳富泰宏精密工业有限公司，
类型：发明
国别省市：