人脸过曝的影像处理方法及其影像撷取装置制造方法及图纸

技术编号:8685859 阅读:220 留言:0更新日期:2013-05-09 05:23
本发明专利技术涉及一种人脸过曝的影像处理方法及其影像撷取装置。影像处理方法包括下列步骤。首先,撷取一待处理影像,并针对此待处理影像进行人脸检测程序,藉以定义出包括一或多个人脸的一人脸区域。接着,分析待处理影像中的人脸区域内的亮暗分布,并判断人脸区域内是否存在过曝区域。若是,对待处理影像进行数字影像处理藉以模拟出第一曝光影像与第二曝光影像。利用在第一曝光影像中与过曝区域相对应的区域与第二曝光影像进行影像混合,藉以产生一处理后影像。本发明专利技术可直接于一般消费型相机中实现上述改善人脸局部过曝现象的功能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ー种影像处理方法及其影像撷取装置,尤其涉及ー种处理人脸过曝现象的影像处理方法及其影像撷取装置。
技术介绍
随着科技的发展,相机、摄影机等各类影像撷取装置在生活中已扮演着不可或缺的角色,无论是日常生活或是工作环境都是影像撷取装置发挥其功能的舞台。由于市面上充斥着各式各样的影像撷取装置,因此影像撷取装置的功能多寡便成为消费者在购买时的考量之一。目前在相机领域里,一般在灯光复杂的环境中,对人像或人脸拍摄照片时,由于光线漫射的影响,极易造成脸部局部区域过度曝光,这种现象极易发生于一般油质的皮肤或是高度化妆的皮肤。举例来说,在太阳底下脸部的局部油面现象或高度化妆的区域反射性比较大,进而造成相片中相对应区域产生过曝;或者于较暗的环境中使用闪光灯时,若打闪的亮度或角度不适当,亦容易造成局部区域过曝而降低影像品质。目前解决上述相片局部区域过度曝光的问题,大部分都是利用外在的辅助工具来控制光线的强弱与方向以降低人脸局部过曝现象,亦有些是于拍摄完毕之后,利用个人电脑或笔记型电脑等搭配一般影像处理软件以人工方式对脸部影像做局部处理。然而,上述的解决方法皆须仰赖专业人士的处理或后制,对于一般本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种人脸过曝的影像处理方法,适用于一影像撷取装置,包括:撷取一待处理影像,并针对该待处理影像进行一人脸检测程序,藉以定义出包括至少一人脸的一人脸区域;分析该人脸区域内的影像亮暗分布,并判断该人脸区域内是否存在一过曝区域;若是,对该待处理影像进行数字影像处理藉以模拟出一第一曝光影像与一第二曝光影像;以及利用在该第一曝光影像中与该过曝区域相对应的区域与该第二曝光影像进行影像混合,藉以产生一处理后影像。

【技术特征摘要】
1.一种人脸过曝的影像处理方法,适用于一影像撷取装置,包括: 撷取一待处理影像,并针对该待处理影像进行一人脸检测程序,藉以定义出包括至少一人脸的一人脸区域; 分析该人脸区域内的影像亮暗分布,并判断该人脸区域内是否存在一过曝区域; 若是,对该待处理影像进行数字影像处理藉以模拟出一第一曝光影像与一第二曝光影像;以及 利用在该第一曝光影像中与该过曝区域相对应的区域与该第二曝光影像进行影像混合,藉以产生一处理后影像。2.根据权利要求1所述的人脸过曝的影像处理方法,其中分析该人脸区域内的影像亮暗分布,并判断该人脸区域内 是否存在该过曝区域的步骤包括: 分析并统计该人脸区域内的每一像素点的亮暗分布,进而产生一亮度分布图; 判断用以表达该亮度分布图的位元数是否超过一预设位元数;以及 若表达该亮度分布图的位元数超过该预设位元数,利用该待处理影像定义出该过曝区域。3.根据权利要求2所述的人脸过曝的影像处理方法,其中对该待处理影像进行数字影像处理藉以模拟出该第一曝光影像与该第二曝光影像的步骤包括: 分析该亮度分布图以撷取该待处理影像中较高位元部分的影像作为该第一曝光影像;以及 分析该亮度分布图以撷取该待处理影像中较低位元部分的影像作为该第二曝光影像。4.一种人脸过曝的影像处理方法,适用于一影像撷取装置,包括: 设定一第一曝光模式藉以撷取一第一待处理影像,并设定一第二曝光模式藉以撷取一第二待处理影像,其中,该第一曝光模式的曝光时间小于该第二曝光模式的曝光时间;对该第二待处理影像进行一人脸检测程序,藉以定义出包括至少一人脸的一人脸区域; 分析该人脸区域内的影像亮暗分布,并判断该人脸区域内是否存在一过曝区域;以及若是,利用在该第一待处理影像中与该过曝区域相对应的区域与该第二待处理影像进行影像混合,藉以产生一处理后影像。5.根据权利要求4所述的人脸过曝的影像处理方法,其中在撷取该第一待处理影像与该第二待处理影像后,还包括: 对该第一待处理影像与该第二待处理影像进行几何校正,藉以产生一第一校正后影像与一第二校正后影像,进而对该第二校正后影像进行该人脸检测程序。6.根据权利要求4所述的人脸过曝的影像处理方法,其中分析该人脸区域内的影像亮暗分布,并判断该人脸区域内是否存在该过曝区域的步骤包括: 分析并统计该人脸区域内的每一像素点的亮暗分布,进而产生一亮度分布图; 判断用以表达该亮度分布图的位元数是否超过一预设位元数;以及若判断表达该亮度分布图的位元数超过该预设位元数,利用该第二待处理影像定义出该过曝区域。7.一种处理人脸过曝的影像撷取装置,包括: 一影像撷取模组,用以撷取一待处理影像;一人脸检测模组,耦接至该影...

【专利技术属性】
技术研发人员:李运锦
申请(专利权)人:华晶科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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