访问设计规则和设计特征库的方法、系统和软件技术方案

本发明专利技术提供了用于设计集成电路或其他半导体器件同时通过与其上显示设计布局的GUI的交互直接访问设计规则和设计特征库的系统和方法。设计规则可以直接链接至图案库的设计特征并输入设计布局。设计规则可以在设计布局的同时或者在进行设计规则检测的同时被直接访问，并且在创建布局的过程中可以使用来自图案库的设计特征。

【技术实现步骤摘要】
访问设计规则和设计特征库的方法和系统
本公开涉及用于设计半导体器件布局的方法、系统和软件，具体地，涉及访问设计规则和设计特征库的方法、系统和软件。
技术介绍
可以使用电子设计自动化软件的各种形式来完成集成电路的设计，其允许电路设计者创建并数字化形成集成电路的形状和图案。集成电路和其他半导体器件由多个叠加材料层组成，每一层(即，每个器件层)都包括必须通过设计者与所有其他器件层(尤其是其上方和下方的层和特征)协作来生成的相关布局。集成电路设计必须符合多个不同的设计规则，包括与被设计的器件层相关联的规则以及与被设计的器件层与直下和直上器件层之间的相关关系相关联的规则。设计规则可以通过用户来建立，或者它们可以通过掩模铸造厂(foundry)来建立，其表示掩模铸造厂在生成光掩模的过程中可以接受的容限。设计规则还可以基于处理操作的能力通过器件制造设施(也被称为铸造厂)来发布。存在许多设计规则并且必须符合每一种设计规则，以创建光掩模组使得可以使用掩模组成功制造集成电路。作为先进技术的处理操作所发生的更窄工艺窗和更多布局依赖性效果的结果，与集成电路相关联的多个设计规则增加并且设计规则变得更加复杂。规则的总数对于电路设计者总体理解来说是挑战，但是根据传统实践，这必须在着手布局设计之前进行。根据目前的实践，设计者首先考虑包含大量且复杂的设计规则的设计规则手册，然后查询用于设计规则含义的铸造厂，然后开始设计布局。在执行初始设计布局实施之后，执行设计规则检查，并且电路设计者必须再次重复考虑设计规则手册和查询关于设计规则的铸造厂的步骤。通常要求多个设计工艺的反复。这产生了设计集成电路布局的耗时、昂贵且效率低的方式。期望解决这些限制和缺点，尤其考虑到用于当前世界各种应用的集成电路器件的流行性和扩散化。
技术实现思路
为解决上述问题，本专利技术提供了一种实体计算机可读存储介质，利用计算机程序码来编码，使得当通过处理器执行计算机程序码时，处理器执行设计方法，设计方法包括：设计半导体器件布局以及在图形用户界面(GUI)上显示半导体器件布局；当在GUI上显示半导体器件布局时，通过与GUI进行交互来访问设计规则；以及通过与GUI的交互来访问设计特征的库，并且将设计特征的至少一个直接输入半导体器件布局。其中，设计规则链接至库，以及其中，访问设计规则自动地进一步访问设计特征的库。其中，通过与GUI的交互来访问设计特征的库以及将设计特征的至少一个直接输入半导体器件布局包括：在设计半导体器件布局的过程中使用设计特征的至少一个。其中，访问设计规则包括：使设计规则显示在GUI上，并且访问库包括：使设计特征的库显示在GUI上，在设计特征的期望设计特征上定位光标，选择期望设计特征，以及将期望设计特征结合到半导体器件布局。其中，访问设计规则包括：使用物理输入设备控制光标在GUI上的半导体器件布局的显示器上的位置，在显示器中的特征上定位光标，以及通过点击光标来选择特征，从而使得设计规则显示在GUI上。其中，设计、访问设计规则、访问设计特征的库、和输入同时发生，并且方法进一步包括：执行设计规则检查并完成符合设计规则的布局；以及将所完成的布局传送至掩模铸造厂。本专利技术还提供了一种用于设计半导体器件的方法，方法包括：设计半导体器件的布局以及使用电子设计自动化(EDA)系统在图形用户界面(GUI)上显示布局；当显示布局时，通过与GUI的交互访问设计规则；当显示布局时，通过与GUI的交互访问设计特征的库；以及通过从库中选择至少一个期望设计特征而输入来自设计特征的库的至少一个期望设计特征，并且通过与GUI的交互将至少一个期望设计特征输入布局。其中，访问设计规则包括：在布局的一部分上定位光标并点击鼠标，以及进一步包括：通过与GUI进行交互而检查布局是否符合设计规则。其中：访问设计规则包括在GUI上显示设计规则；访问设计特征的库包括在GUI上显示设计特征的库；以及设计规则为与掩模铸造厂和器件制造厂相关联的铸造厂工艺验证设计规则。其中，输入至少一个期望设计特征包括形成符合设计规则并包括设计特征的至少一个的最终布局，并且进一步包括使用最终布局形成光掩模组。该方法进一步包括：使用光掩模组来形成半导体器件。其中，设计半导体器件的布局以及使用电子设计自动化(EDA)系统在GUI上显示布局包括：向EDA系统的处理器提供实体计算机可读存储介质，实体计算机可读存储介质利用计算机程序码来编码，使得当通过处理器执行计算机程序码时，处理器能够使用户通过与GUI进行交互而使用EDA系统来执行设计半导体器件的布局、访问设计规则、访问设计特征的库以及输入来自设计特征的库的至少一个期望设计特征。其中，设计规则链接至设计特征，以及其中，访问设计规则和访问设计特征的库发生在设计之前。其中，访问设计规则、访问设计特征的库、以及输入来自设计特征的库的至少一个期望设计特征发生在设计期间。其中，访问设计规则包括使设计规则的表格显示在GUI上，并且进一步包括执行设计规则检查和完成布局。此外，还提供了一种电子设计自动化(EDA)系统，包括：处理器；图形用户界面(GUI)；实体计算机可读存储介质，利用计算机程序码进行编码，被配置为通过处理器来执行，以能够根据一种方法使用户使用EDA系统来设计半导体器件的布局，方法包括：执行半导体器件布局的设计并在GUI上显示半导体器件布局；通过与GUI进行交互而访问设计规则；通过与GUI进行交互而访问设计特征的库；以及通过与GUI进行交互而将设计特征的至少一个直接输入半导体器件布局。其中，定制设计规则链接至库，以及其中，访问设计规则进一步访问库。其中，设计规则与光掩模铸造厂和制造厂相关联。该EDA系统进一步包括：软件模块，接收实体计算机可读存储介质，并包括设计规则和设计库。其中，方法进一步包括：将设计规则的至少一个与半导体器件布局的至少一个特征进行比较，以及其中，访问设计特征的库包括：使库显示在GUI上；在设计特征的期望设计特征上定位光标；选择期望设计特征；以及将期望设计特征结合到半导体器件布局。附图说明当读取附图时，从以下详细中更好地理解本公开。应该强调的是，根据一般实践，附图的各种部件不是必须按比例绘制。相反，为了清楚可以任意增加或减小各种部件的尺寸。在说明书和附图中，类似的标号表示类似的部件。图1是示出根据本公开示例性实施例的系统和方法的示意图；图2是示出根据本公开示例性实施例的示例性方法的细节的流程图；图3示出了根据本公开示例性实施例的显示设计布局的一部分的GUI以及示意性示出了通过与GUI的交互访问的规则文件；以及图4示出了根据本公开示例性实施例的显示设计布局的一部分的GUI、被访问的规则文件的图形表示和具有设计特征被输入至GUI的设计布局的设计特征的图案库的图形表示。具体实施方式本公开提供了用于集成电路和其他半导体器件的设计的系统、方法以及实体(tangible)持久计算机可读存储介质，随着设计被实施和/或随着设计布局被显示在图形用户界面(GUI)上，可以通过与GUI的交互来直接访问设计规则。设计规则有利地链接至符合设计规则的图案库，并且来自图案库的特征可以用于创建设计布局或修改涉及布局。图案库还可以直接通过与GUI的交互来访问。根据一个方面，本公开提供了一种利用计算机程本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种实体计算机可读存储介质，利用计算机程序码来编码，使得当通过处理器执行所述计算机程序码时，所述处理器执行设计方法，所述设计方法包括：设计半导体器件布局以及在图形用户界面(GUI)上显示所述半导体器件布局；当在所述GUI上显示所述半导体器件布局时，通过与所述GUI进行交互来访问设计规则；以及通过与所述GUI的交互来访问设计特征的库，并且将所述设计特征的至少一个直接输入所述半导体器件布局。

【技术特征摘要】
2011.10.31 US 13/285,5281.一种用于设计半导体器件的方法，所述方法包括：设计半导体器件布局以及在图形用户界面GUI上显示所述半导体器件布局；当在所述GUI上显示所述半导体器件布局时，通过与所述GUI进行交互来访问设计规则，通过与所述GUI进行交互而检查所述半导体器件布局是否符合所述设计规则；以及通过与所述GUI的交互来访问设计特征的库，并且将所述设计特征的至少一个直接输入所述半导体器件布局，其中，所述访问设计规则自动地进一步访问设计特征的所述库。2.根据权利要求1所述的用于设计半导体器件的方法，其中，所述设计规则链接至所述库。3.根据权利要求1所述的用于设计半导体器件的方法，其中，通过与所述GUI的交互来访问设计特征的库以及将所述设计特征的至少一个直接输入所述半导体器件布局包括：在设计所述半导体器件布局的过程中使用所述设计特征的所述至少一个。4.根据权利要求1所述的用于设计半导体器件的方法，其中，访问所述设计规则包括：使所述设计规则显示在所述GUI上，并且访问所述库包括：使所述设计特征的库显示在所述GUI上，在所述设计特征的期望设计特征上定位光标，选择所述期望设计特征，以及将所述期望设计特征结合到所述半导体器件布局。5.根据权利要求1所述的用于设计半导体器件的方法，其中，所述访问设计规则包括：使用物理输入设备控制光标在所述GUI上的所述半导体器件布局的显示器上的位置，在所述显示器中的特征上定位所述光标，以及通过点击所述光标来选择所述特征，从而使得所述设计规则显示在所述GUI上。6.根据权利要求1所述的用于设计半导体器件的方法，其中，所述设计、所述访问设计规则、所述访问设计特征的库、和所述输入同时发生，并且所述方法进一步包括：执行设计规则检查并完成符合所述设计规则的所述布局；以及将所完成的布局传送至掩模铸造厂。7.一种用于设计半导体器件的方法，所述方法包括：设计半导体器件的布局以及使用电子设计自动化EDA系统在图形用户界面GUI上显示所述布局；当显示所述布局时，通过与所述GUI的交互访问设计规则，通过与所述GUI进行交互而检查所述布局是否符合所述设计规则；当显示所述布局时，通过与所述GUI的交互访问设计特征的库；以及通过从所述库中选择至少一个期望设计特征而输入来自设计特征的所述库的所述至少一个期望设计特征，并且通过与所述GUI的交互将所述至少一个期望设计特征输入所述布局，其中，所述访问设计规则自动地进一步访问设计特征的所述库。8.根据权利要求7所述的用于设计半导体器件的方法，其中，所述访问设计规则还包括：在所述布局的一部分上定位光标并点击鼠标。9.根据权利要求7所述的用于设计半导体器件的方法，其中：所述访问设计规则包括在所述GUI上显示所述设计规则；所述访问设计特征的库包括在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈钦安，吴培滋，蔡宗杰，吴俊毅，丁至刚，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：