喷嘴清洁方法和温水便座装置制造方法及图纸

技术编号:8678771 阅读:168 留言:0更新日期:2013-05-08 23:07
本发明专利技术公开了一种喷嘴清洁方法,用于清洁温水便座装置的喷嘴组件的喷嘴主体,包括定点清洗步骤,所述定点清洗步骤包括:使所述喷嘴组件的挡板相对于所述喷嘴主体处于预定的方位;由所述喷嘴主体上设置的人体清洗口喷出第一水流,所述第一水流被所述挡板内侧的反射部反射成预定的方向,利用反射的所述第一水流来清洗所述喷嘴主体。本发明专利技术还公开了一种实现前述喷嘴清洁方法的温水便座装置,包括喷嘴组件,所述喷嘴组件包括支架和安装于所述支架的喷嘴主体,在支架上设有在内侧具有反射部的挡板,所述反射部构成为:在所述喷嘴主体和所述挡板之间的相对方位改变的情况下,由所述喷嘴主体上设置的人体清洗口喷出的第一水流的反射方向发生改变。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关便座装置,特别有关一种温水便座装置及喷嘴清洁方法。
技术介绍
目前,在使用者便后能对使用者下身局部例如臀部及女性的前部进行冲冼的温水便座装置已广泛出现。温水便座装置包括主体部分和控制部分。主体部分包括:水箱,其储存并加热用于冲洗人体下身局部的水;喷嘴组件,其包括支架、支撑于支架并在前端部具有人体清洗口的喷嘴主体及驱动喷嘴主体伸缩移动的驱动装置;及便座和便圈,分别转动地连接于主体部分。控制部分包括:操作部,使用者根据需求通过操作部输入指令;和控制器,对温水便座装置的冲洗动作进行控制,能够根据所接收的指令启动对应的清洗程序。为了保证喷嘴组件的卫生性,现有的温水便座装置还具有能够对喷嘴主体进行清洁和除菌的喷嘴清洁结构。例如一种简单的喷嘴清洁结构包括设置在喷嘴组件的支架前端部的喷嘴清洗口及与该喷嘴清洗口相连通的喷嘴清洗管。喷嘴清洗管与温水便座装置的水箱连通。可在使用者进行人体下身清洗之后,通过喷嘴清洗口喷出水流来清洁喷嘴主体。另一种喷嘴清洁结构包括能够发射具有杀菌波长的光照装置,通过向喷嘴主体照射具有杀菌波长的光线来清洁喷嘴主体。当然,还有其它多种用来对喷嘴主体进行清洁的喷嘴清洁结构。现有技术当中的这些喷嘴清洁结构,虽然能对喷嘴主体进行一定程度上的清洁。但由于喷嘴主体及人体清洗口具有相对复杂的表面结构,喷嘴主体的前端部存在很多容易滋生细菌、且不容易被清洗到的间隙,前述的采用喷嘴清洗口喷水来清洁喷嘴主体的结构,由于水压或流量的关系,由喷嘴清洗口流出的水不能充分流过喷嘴主体的前端部特别是人体清洗口的前端侧,因此无法清洁到喷嘴主体的各个间隙和死角,无法充分地清洁喷嘴主体。另外,该结构没有对用于清洁喷嘴主体的水的水温进行控制,这也是导致清洁不够充分的原因。而光照装置虽然可以提供相对充分的清洁作用,但由于需要给光照装置的光源供电,在光源一旦发生绝缘不良时将会给使用者带来触电等安全方面的问题,存在安全隐患;并且使用具有杀菌波长的光线照射喷嘴主体,还会使喷嘴主体及其周围等光线能够照射到的零件(特别是塑料零件)表面发生加速老化的情况,长时间使用会出现喷嘴主体及其周围等产品表面开裂,甚至是脱落等不良情况。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种喷嘴清洁方法和温水便座装置,能够在确保电气完全性的前提下,彻底充分地对喷嘴主体进行清洁和除菌,达到更高的除菌等级,并且不会对喷嘴主体及其周边零件等造成老化等损伤。本专利技术一个实施方式提供一种喷嘴清洁方法,用于清洁温水便座装置的喷嘴组件的喷嘴主体,所述喷嘴清洁方法包括定点清洗步骤,所述定点清洗步骤包括:使所述喷嘴组件的挡板相对于所述喷嘴主体处于预定的方位;在所述预定的方位进行定点清洗,由所述喷嘴主体上设置的人体清洗口喷出第一水流,所述第一水流被所述挡板内侧的反射部反射成预定的方向,利用反射的所述第一水流来清洗所述喷嘴主体。本专利技术另一实施方式提供另一种喷嘴清洁方法,用于清洁温水便座装置的喷嘴组件的喷嘴主体,所述喷嘴清洁方法包括以下步骤:温度控制步骤,将所述温水便座装置的水箱中的水控制在预定温度;及定点清洗步骤,使所述喷嘴主体向前伸出至某一突出位置,由所述喷嘴主体的前端部将所述喷嘴组件的挡板顶起至某一角度,在所述某一突出位置进行定点清洗,使所述喷嘴主体上设置的人体清洗口喷出控制在预定温度的所述水形成第一水流,所述第一水流被所述挡板内侧的反射部反射成预定的方向,利用反射的所述第一水流来清洗所述喷嘴主体。本专利技术一个实施方式提供一种实现前述喷嘴清洁方法的温水便座装置,包括主体部、设于所述主体部上的便圈和便盖,在所述主体部内设置喷嘴组件,所述喷嘴组件包括支架和支撑于所述支架的喷嘴主体,所述喷嘴主体的前端部设置人体清洗口,所述支架设有挡板,所述挡板的内侧具有反射部,所述反射部构成为:在由所述人体清洗口喷出的第一水流能被所述反射部反射的范围内,在所述喷嘴主体和所述挡板之间的相对方位改变的情况下,所述第一水流的反射方向发生改变。本专利技术一个实施方式提供一种喷嘴组件,包括支架和支撑于所述支架的喷嘴主体,所述喷嘴主体的前端部设置人体清洗口,在所述支架上设有挡板,所述挡板的内侧具有反射部,所述反射部构成为:在由所述人体清洗口喷出的第一水流能被所述反射部反射的范围内,在所述喷嘴主体和所述挡板之间的相对方位改变的情况下,所述第一水流的反射方向发生改变。本专利技术一个实施方式提供了一种喷嘴组件的支架,在所述支架上设置前述喷嘴组件中的挡板。本专利技术一个实施方式提供了一种前述喷嘴组件中的挡板,用于连接于喷嘴组件的支架的前端部。根据本专利技术的喷嘴清洁方法和温水便座装置,能够在喷嘴主体大致处于被挡板覆盖的收纳位置,根据使用者输入的喷嘴除菌指令,使挡板处于期望的方位,从而由喷嘴主体上设置的人体清洗口喷出来的第一水流能被挡板的反射部反射成适于清洁到喷嘴主体的前端部的任意缝隙的方向,可以充分、彻底地清洗喷嘴主体的前端部特别是人体清洗口附近的不易清洁的缝隙,并且圆筒状的喷嘴主体的前端部与挡板的内侧仅为点接触,所以利用充分的水量还能够充分的清洗到喷嘴主体的前端面,这样附着在喷嘴主体表面的诸如大肠杆菌、金黄色葡萄球菌等细菌将会被冲洗掉,清洗充分,能够达到更高的除菌等级。另外,不存在电气安全方面的隐患,也不涉及到对喷嘴组件及其周围的零部件造成老化的问题。附图说明图1为本专利技术实施方式I的温水便座装置的立体示意图。图2为实施方式I的温水便座装置的局部立体示意图。图3为实施方式I的喷嘴组件的立体示意图。图4为实施方式I的喷嘴主体处于待机状态下的侧视示意图。图5为实施方式I的喷嘴主体处于伸出状态下的侧视示意图。图6为实施方式I的喷嘴主体的人体清洗口喷出第一水流进行洗净时的示意图。图7为实施方式I的支架上的喷嘴清洗口喷出第二水流进行洗净时的示意图。图8为实施方式2的温水便座装置的一个实施例的喷嘴主体的横截面示意图。图9为实施方式2的温水便座装置的另一个实施例的喷嘴主体的横截面示意图。图10为实施方式2的温水便座装置的再一个实施例的喷嘴主体的纵截面示意图。图11为实施方式2的温水便座装置的又一个实施例的喷嘴主体的纵截面示意图。图12为实施方式4的温水便座装置的一个实施例的喷嘴组件的局部纵截面示意图。图13为实施方式4的温水便座装置的另一个实施例的喷嘴组件的局部纵截面示意图。图14为实施方式5、6的喷嘴清洁方法的流程图。图15为实施方式7的喷嘴清洁方法的流程图。图16为实施方式8、11的喷嘴清洁方法的流程图。图17为实施方式9、10的喷嘴清洁方法的流程图。图18为喷嘴清洁方法的动作示意图。图19为实施方式10的喷嘴清洁方法又一实施例的流程图。图20 25为喷嘴主体处于第一突出位置至第六突出位置的示意图。图26为实施方式10的详细说明图。具体实施例方式本专利技术提供了喷嘴清洁方法及温水便座装置。本专利技术还提供了温水便座装置的喷嘴组件、用于喷嘴组件的支架和挡板。由于挡板是支架的组成部分,支架是喷嘴组件的组成部分,而喷嘴组件是温水便座装置的组成部分。因此,为使申请文件更为简明,本专利技术将以描述温水便座装置的各实施方式的形式来进行说明。挡板、支架和喷嘴组件的各实施方式,均已包含在温水便座装置的各实施方式中,在此将不再单独描述。另外,在本专利技术中将描述主要本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种喷嘴清洁方法,用于清洁温水便座装置的喷嘴组件的喷嘴主体,其特征在于,所述喷嘴清洁方法包括定点清洗步骤,所述定点清洗步骤包括:使所述喷嘴组件的挡板相对于所述喷嘴主体处于预定的方位;以及在所述预定的方位进行定点清洗,由所述喷嘴主体上设置的人体清洗口喷出第一水流,所述第一水流被所述挡板内侧的反射部反射成预定的方向,利用反射的所述第一水流来清洗所述喷嘴主体。

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴清洁方法,用于清洁温水便座装置的喷嘴组件的喷嘴主体,其特征在于,所述喷嘴清洁方法包括定点清洗步骤,所述定点清洗步骤包括: 使所述喷嘴组件的挡板相对于所述喷嘴主体处于预定的方位;以及 在所述预定的方位进行定点清洗,由所述喷嘴主体上设置的人体清洗口喷出第一水流,所述第一水流被所述挡板内侧的反射部反射成预定的方向,利用反射的所述第一水流来清洗所述喷嘴主体。2.根据权利要求1所述的喷嘴清洁方法,其特征在于, 使所述喷嘴组件的挡板相对于所述喷嘴主体处于预定的方位的步骤具体包括:使所述喷嘴主体向前伸出至第一突出位置,由所述喷嘴主体的前端部将所述挡板顶起至第一角度; 在所述预定的方位进行定点清洗的步骤具体包括:在所述第一突出位置进行定点清洗,使所述第一水流被所述挡板内侧的反射部反射,利用反射的所述第一水流清洗所述喷嘴主体。3.根据权利要求2所述的喷嘴清洁方法,其特征在于,在所述定点清洗步骤之前包括移动清洗步骤,所述移动清洗步骤包括: 驱动所述喷嘴主体移动;以及 在所述喷嘴主体移动的过程中,由所述喷嘴组件的支架上设置的喷嘴清洗口喷出第二水流来清洗所述喷嘴主体。4.根据权利要求3所述的喷嘴 清洁方法,其特征在于,驱动所述喷嘴主体移动的步骤中的所述移动为往复移动且持续预定时间,使所述喷嘴主体在一限定位置和一待机位置之间往复移动; 在所述限定位置上,所述喷嘴主体向前伸出的长度大于所述喷嘴主体在所述第一突出位置向前伸出的长度; 在所述待机位置上,所述喷嘴主体向前伸出的长度为零。5.根据权利要求3所述的喷嘴清洁方法,其特征在于,在所述移动清洗步骤之前包括温度控制步骤,所述温度控制步骤包括: 检测所述温水便座装置的水箱中的水的水温是否低于预定温度; 在检测到所述水温达到预定温度时,进行所述移动清洗步骤;以及 在检测到所述水温低于预定温度时,进行加热步骤,将所述水加热到预定温度后进行所述移动清洗步骤。6.根据权利要求5所述的喷嘴清洁方法,其特征在于,在所述温度控制步骤之前包括第一着座判断步骤,在判断为有使用者着座的情况下,停止对所述喷嘴主体进行的清洁操作;在判断为无使用者着座的情况下,进行所述温度控制步骤。7.根据权利要求6所述的喷嘴清洁方法,其特征在于,在所述移动清洗步骤和所述定点清洗步骤之前分别包括第二、第三着座判断步骤,在所述第一、第二和第三着座判断步骤的任意一个中判断为有使用者着座的情况下,停止对所述喷嘴主体进行的清洁操作;在所述第一、第二和第三着座判断步骤均判断为无使用者着座的情况下,将依序进行所述温度控制步骤、所述移动清洗步骤和所述定点清洗步骤。8.根据权利要求2所述的喷嘴清洁方法,其特征在于,所述定点清洗步骤还包括以下步骤: 使所述喷嘴主体向后缩回或向前伸出至另一突出位置,由所述喷嘴主体的前端部将所述挡板顶起至另一角度; 在所述另一突出位置进行另一定点清洗,使所述第一水流被所述挡板内侧的反射部反射,利用反射的所述第一水流清洗所述喷嘴主体。9.根据权利要求1 8中任意一项所述的喷嘴清洁方法,其特征在于,还包括喷嘴自动清洗步骤,所述喷嘴自动清洗步骤在使用者进行人体清洗之前和/或之后自动...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡一凡周燕文国木靖博
申请(专利权)人:松下家电研究开发杭州有限公司松下电器产业株式会社
类型:发明
国别省市:

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