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一种具有柱状晶形貌的掺氟二氧化钛薄膜的制备方法技术

技术编号:8674111 阅读:247 留言:0更新日期:2013-05-08 13:05
本发明专利技术涉及一种柱状晶形貌的掺氟二氧化钛薄膜的制备方法。该方法通过用溶胶-凝胶法在基板上逐次旋涂镀膜,然后对每层薄膜进行空气中热处理形成锐钛矿型柱状晶形貌的掺氟二氧化钛薄膜,其表现出更好的光催化性能。本发明专利技术制备工艺简单,不需要任何昂贵的设备,成本低,可以在任意形状的基板上镀膜,非常适合于二氧化钛光催化以及建筑节能镀膜玻璃的工业化应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ニ氧化钛薄膜的制备方法,尤其是ー种柱状晶形貌的掺氟ニ氧化钛薄膜的制备方法,属于功能薄膜材料

技术介绍
TiO2是一种宽禁带半导体,其禁带宽度一般为3.0-3.2 eV,在紫外光下有活性,能够产生大量的光电子和空穴,具有很强的氧化还原能力,同时成本低、原材料丰富而作为光催化物质被广泛的研究应用。但是TiO2自身的光生载流子很容易复合从而限制了其在エ业上的应用。目前很多人都是通过掺杂来降低其TiO2光生载流子的复合速率从而提高其光催化活性,其中TiOjfF引起了广泛的关注。但是大多数研究者通过制备TiO2: F粉末来研究其光催化性能,这种方法容易对水等造成污染而且还不容易被分离出来。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种成本低廉、操作简便、具有较好光催化性能的柱状晶形貌的掺氟ニ氧化钛薄膜的制备方法。本专利技术的目的是通过如下的技术方案实现的:柱状晶形貌掺氟ニ氧化钛薄膜的制备方法是通过用溶胶ー凝胶法在基板上多次镀膜热处理,使制备的掺氟ニ氧化钛薄膜生长出柱状晶形貌,从而有更好的光催化性能,具体包括如下步骤: 1)将掺氟ニ氧化锡薄膜基板清洗干净; 2)将钛酸四丁酯本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有柱状晶形貌的掺氟二氧化钛薄膜的制备方法,包括如下步骤:1)?将掺氟二氧化锡薄膜基板清洗干净;2)?将钛酸四丁酯和乙酸放入乙醇中,钛酸四丁酯:乙酸:乙醇的摩尔比为1:1.5:5?20,搅拌混合得到A溶液;将氟化铵、硝酸和水放入乙醇中,氟化铵:硝酸:水:乙醇的摩尔比为:?1?5:0.7:3.8:150?200,搅拌混合得到B溶液;3)?将步骤2)中的A溶液逐滴加入B溶液中,搅拌混合均匀,得到溶胶;4)?将步骤3)中得到的溶胶在室温下陈化至少22h,得到凝胶;5)?利用旋涂仪将凝胶旋涂在步骤1)的基板上,涂膜时其相对湿度为60%?70%,在70oC?100oC温度范围内干燥,挥发除去乙醇,得...

【技术特征摘要】
1.一种具有柱状晶形貌的掺氟ニ氧化钛薄膜的制备方法,包括如下步骤: 1)将掺氟ニ氧化锡薄膜基板清洗干净; 2)将钛酸四丁酯和こ酸放入こ醇中,钛酸四丁酯:こ酸:こ醇的摩尔比为1:1.5:5-20,搅拌混合得到A溶液;将氟化铵、硝酸和水放入こ醇中,氟化铵:硝酸:水:乙醇的摩尔比为:1-5:0.7:3.8:150-200,搅拌混合得到B溶液; 3)将步骤2)中的A溶液逐滴加入B溶液中,搅拌混合均匀,得到溶胶;...

【专利技术属性】
技术研发人员:宋晨路王菊刘涌韩高荣王慷慨苏婷杨振辉
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:

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