本发明专利技术的平面面板显示器用玻璃基板由下述玻璃形成，且热收缩率为75ppm以下；以摩尔%表示，上述玻璃含有：55～80%的SiO2、3～20%的Al2O3、3～15%的B2O3、及3～25%的RO(MgO、CaO、SrO及BaO的合计量)，实质上不含As2O3及Sb2O3，且失透温度为1250℃以下。其中，上述所谓热收缩率是指：使用实施升降温速度为10℃/分、于550℃下保持2小时的热处理后的玻璃基板的收缩量，利用下式求出的值。热收缩率(ppm)={热处理后的玻璃基板的收缩量/热处理前的玻璃基板的长度}×106。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
近年来,薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)型液晶显示器及有机电致发光(Electro Luminescence,EL)显示器等薄型且耗电较少的平面面板显示器被广泛用作行动设备等的显示器。对于这些显示器用的基板，通常使用玻璃基板。TFT中存在非晶硅(a-Si)-TFT与多晶硅(p-Si)-TFT。从可实现超高精细且美丽的画面、可实现显示器的高耐久性、可实现显示器的薄型/轻量化、及可实现低消耗电力化等方面出发，P-S1-TFT优于a-S1-TFT。但是，以往在p-S1-TFT的制造中需要高温处理。因此，制造P-S1-TFT时玻璃基板产生热收缩及热冲击，故无法使用二氧化硅玻璃以外的玻璃。结果，难以于液晶显示器中应用p-S1-TFT。然而，近年来开发出了降低了热处理温度的低温多晶硅(Low TemperaturePoly-silicon，LTPS) TFT，从而可将p-S1-TFT应用于平面面板显示器。由此，即便为移动设备等小型设备的显示器，也可实现高精细且美丽的画面。但是，p-S1-TFT的制造中仍需要400 600°C的高温热处理。在以往的显示器用玻璃基板的情况下，大多情况下应变点不充分，容易产生以下问题:由于P-S1-TFT制造时的热处理而产生较大的热收缩，引起像素的间距偏差的问题。进而，近年来越发要求高精细化。因此，为了抑制此种像素的间距偏差，强烈要求减少显示器制造时的玻璃基板的热收缩。以往，已报告有考虑到此种热收缩的问题而开发出的显示器用玻璃基板(专利文献I 3)。[现有技术文献 ][专利文献][专利文献I]日本专利特开2002-3240号公报[专利文献2]日本专利特开2004-315354号公报[专利文献3]日本专利特开2007-302550号公报
技术实现思路
[专利技术要解决的问题]此处，玻璃基板的热收缩可通过提高以玻璃化转变点(以下简称为Tg)及应变点代表的低温黏性范围的特性(低温黏性特性)温度来抑制(以下，本说明书中，“低温黏性特性温度”以“Tg及应变点”为代表进行记载)。但是，若仅着眼于提高玻璃的Tg及应变点而进行玻璃组成的改良，则产生玻璃的耐失透性容易恶化的问题。另外，若耐失透性变差，即失透温度变高而液相黏度降低，则制法的自由度也降低。若失透温度变高而液相黏度降低，则例如产生使用溢流下拉法的玻璃基板的制造变困难的问题。因此，本专利技术的目的在于提供一种抑制了耐失透性的降低并且减小了热收缩量的平面面板显示器用玻璃基板，即便用于应用P-S1-TFT的显示器，也不产生像素的间距偏差的问题。[解决问题的技术手段]本专利技术的第I形成p-S1-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其由下述玻璃构成，且热收缩率为75ppm以下；以摩尔％表示，上述玻璃含有:55 80% 的 Si02、3 20% 的 Al2O3、3 15% 的 B203、及3 25% 的 RO (MgO、CaO、SrO 及 BaO 的合计量)， 实质上不含As2O3及Sb2O3,且失透温度为1250°C以下。其中，上述所谓热收缩率是指:使用实施升降温遮度为10°C /分、于550°C下保持2小时的热处理后的玻璃基板的收缩量，利用下式求出的值，热收缩率(ppm)={热处理后的玻璃基板的收缩量/热处理前的玻璃基板的长度} X IO6以下的“热收缩率”也同样地定义。另外，所谓“实质上不含As2O3及Sb2O3”，意指玻璃原料中不添加As2O3及Sb2O3为主成分的原料，As2O3及Sb2O3的含有率分别优选为0.1%以下，更优选为0.05%以下，进而优选为0.01%以下。以下，所谓“实质上不含某成分”含义与上述相同。本专利技术的第2形成p-S1-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其由下述玻璃构成的玻璃基板，且于Tg下保持30分钟后，以100°C /分冷却至Tg-100°C，放置冷却至室温后，实施升降温速度为10°C /分、于550°C下保持2小时的热处理后的上述玻璃基板的热收缩率为75ppm以下；以摩尔％表示，上述玻璃含有:55 80% 的 Si02、3 20% 的 Al2O3、3 15% 的 B2O3、及3 25% 的 RO (MgO、CaO、SrO 及 BaO 的合计量)，实质上不含As2O3及Sb2O3,且失透温度为1250°C以下。另外，本专利技术还提供一种形成p-S1-TFT的平面面板显示器用玻璃基板的制造方法，其包括:熔融步骤，将以下玻璃原料熔融而生成熔融玻璃，以摩尔％计,上述玻璃原料按成为 SiO2 为 55 80%、Al2O3 为 3 20%、B2O3 为 3 15%、RO (MgO、CaO、SrO, BaO 的合计量)为3 25%，实质上不含As2O3及Sb2O3,且失透温度为1250°C以下的玻璃的方式调配而成；成形步骤，将上述熔融玻璃成形为玻璃板；及缓冷步骤，将上述玻璃板缓冷； 并且上述玻璃板的热收缩率为75ppm以下。本专利技术进而还提供一种平面面板显示器用玻璃基板，其由下述玻璃构成，且热收缩率为75ppm以下；以摩尔％表示，上述玻璃含有:55 80% 的 Si02、3 20% 的 Al2O3、3 15% 的 B2O3、及3 25% 的 RO (MgO、CaO、SrO 及 BaO 的合计量)，实质上不含As2O3及Sb2O3,且失透温度为1250以下。[专利技术的效果]根据本专利技术，可提供一种具有优异特性的玻璃基板，其不使耐失透性恶化，即便用于应用P-S1-TFT的显示器的情况下，也可抑制由显示器制造时的热处理所致的热收缩而不产生像素的间距偏差问题。具体实施方式本实施的形态的显示器用玻璃基板由下述玻璃形成，以摩尔％表示，该玻璃含有55 80% 的 Si02、3 20% 的 Al203、3 15% 的 B203、及 3 25% 的 RO (MgO、CaO、SrO 及 BaO的合计量)，且失透温 度为1250°C以下。本实施的形态的显示器用玻璃基板具有75ppm以下、优选为60ppm以下的热收缩率。玻璃基板的热收缩率可通过提高玻璃的Tg及应变点来抑制。进而，玻璃基板的热收缩率不仅可通过利用玻璃组成的调整而提高Tg及应变点来减少，还可通过适宜调整玻璃缓冷时的条件而减小。若仅着眼于提高玻璃的Tg及应变点而进行玻璃组成的改良，则存在失透温度上升而耐失透性降低的情况。但是，本实施方式的玻璃基板通过适宜组合玻璃组成的调整与玻璃缓冷时的条件的调整，可实现热收缩率为75ppm以下、优选为60ppm以下。因此，可实现具备75ppm以下、优选为60ppm以下的热收缩率与1250°C以下的失透温度两方面的玻璃基板。如此，构成本实施方式的玻璃基板的玻璃具有优异特性，可良好地维持耐失透性，并且由平面面板显示器制造时的热处理所致的热收缩得到抑制而不产生像素的间距偏差的问题。进而，通过将失透温度抑制于1250°C以下，还可获得构成本实施方式的玻璃基板的玻璃容易使用下拉法而成形的效果。进而，构成本实施方式的玻璃基板的玻璃实质上不含As2O3及Sb2O3作为玻璃组成,故可降低环境负荷。另外，构成本实施方式的玻璃基板的玻璃可含有5%以下的ZnO作为可选成分。该情况下，优选为SiO2本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.07.01 JP 2011-147759;2012.03.15 JP 2012-059131.一种形成P-S1-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其由下述玻璃构成，且热收缩率为75ppm以下； 以摩尔％表示，上述玻璃含有:55 80% 的 SiO2、3 20% 的 A1203、 3 15%的B2O3、及 3 25% 的 R0, 所述玻璃实质上不含As2O3及Sb2O3,且失透温度为1250°C以下， RO 为 MgO、CaO、SrO, BaO 的合计量； 其中，上述所谓热收缩率是指:使用实施升降温速度为10°c /分、于550°C保持2小时的热处理后的玻璃基板的收缩量，利用下式求出的值， 热收缩率(PPm) ={热处理后的玻璃基板的收缩量/热处理前的玻璃基板的长度} X IO602.如权利要求1所述的形成P-S1-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其热收缩率为60ppm以下。3.如权利要求1或2所述的形成p-S1-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其中，上述玻璃的应变点为680°C以上。4.如权利要求1 3任一 项所述的形成p-S1-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其中，上述玻璃中，Si02、Al203、B203 & RO以摩尔％表示的含有率满足(Si02+2 X Al2O3) /(2 X B203+R0) >3.0 的关系。5.如权利要求1 4任一项所述的形成p-S1-TFT的平面面板显不器用玻璃基板,其中，上述玻璃中，SiO2及Al2O3以摩尔％表示的含有率满足Si02+2A1203 ^ 80% 的关系。6.如权利要求1 5任一项所述的形成p-S1-TFT的平面面板显不器用玻璃基板,其中，上述玻璃含有ZnO作为可选成分， 上述玻璃中，B203、RO及ZnO以摩尔％表示的含有率满足 B203+R0+Zn0<20% 的关系。7.如权利要求1 6任一项所述的形成p-S1-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其中，上述玻璃的液相黏度为104 5dPa s以上，利用下拉法将上述玻璃成形而获得。8.如权利要求1 7任一项所述的形成p-S1-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其为液晶显示器用玻璃基板。9.一种形成p-S1-TFT的平面面板显示器用玻璃基板的制造方法，其包括: 熔融步骤，将以下玻璃原料熔融而生成熔融玻璃，以摩尔％计，上述玻璃原料按成为SiO2为55 80%、Al2O3为3 20%、B2...
【专利技术属性】
技术研发人员：小山昭浩，阿美谕，市川学，
申请(专利权)人：安瀚视特股份有限公司，
类型：
国别省市：
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