反应腔室制造技术

本发明专利技术提供了一种反应腔室，所述反应腔室包括：腔体；设置于所述腔体内的托盘；设置于所述腔体内的旋转结构，所述旋转结构通过筒状侧壁与所述托盘连接，所述旋转结构、托盘及筒状侧壁形成了一容置空间；设置于所述容置空间内用于加热所述托盘的加热器；及设置于所述容置空间内的隔热结构，所述隔热结构至少减少加热器与旋转结构之间的热交换。在本发明专利技术提供的反应腔室中，所述旋转结构不易损坏、使用寿命较长，从而能够降低设备维护投入。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及集成电路设备
，特别涉及一种反应腔室。
技术介绍
金属有机化学气相沉积(MOCVD)是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种化学气相沉积工艺。它以III族、II族元素的有机化合物和ν、νι族元素的氢化物等作为晶体生长的反应气体，以热分解反应方式在蓝宝石衬底或其他衬底上进行外延沉积工艺，生长各种II1-V族、I1- VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的外延材料层。请参考图1，其为现有技术的MOCVD设备的反应腔室的结构示意图。如图1所示，反应腔室I包括腔体10 ;设置于所述腔体10内的托盘11，所述托盘11用以承载待处理的半导体晶片或介质基片；驱动所述托盘11转动的旋转结构14，所述旋转结构14通过筒状侧壁16与所述托盘11连接，并且所述旋转结构14、托盘11及筒状侧壁16形成了一容置空间；加热器12，所述加热器12置于所述容置空间内，并且所述加热器12通过支撑结构13保持稳定。然而，现有技术的反应腔室中，所述旋转结构通常在没有达到其设计时的使用寿命之前就已经损坏，从而大大增加了设备维护投入。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种反应腔室，以解决现有反应腔室中的旋转结构极易损坏的问题。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种反应腔室，所述反应腔室包括:腔体；设置于所述腔体内的托盘；设置于所述腔体内的旋转结构，所述旋转结构通过筒状侧壁与所述托盘连接，所述旋转结构、托盘及筒状侧壁形成了一容置空间；设置于所述容置空间内用于加热所述托盘的加热器；及设置于所述容置空间内的隔热结构，所述隔热结构至少减少加热器与旋转结构之间的热交换。可选的，在所述的反应腔室中，所述隔热结构为一隔热板，所述隔热板设置于所述加热器和旋转结构之间。可选的，在所述的反应腔室中，在所述加热器和旋转结构中，所述隔热板更靠近所述加热器。可选的，在所述的反应腔室中，所述隔热板与所述筒状侧壁之间具有一间隙，所述间隙的宽度为0.lmn~lOmm。可选的，在所述的反应腔室中，所述筒状侧壁上设置有排气孔，且所述排气孔位于所述隔热板和加热器之间区域的所述筒状侧壁。可选的，在所述的反应腔室中，所述排气孔的直径为0.lmn~lmm。可选的，在所述的反应腔室中，所述隔热板面向所述加热器的表面为一反射面，所述反射面反射所述加热器发出的热辐射。可选的，在所述的反应腔室中，所述反射面为镜面。可选的，在所述的反应腔室中，所述隔热板包括本体和嵌于本体的冷却管路或冷却腔，所述冷却管路或冷却腔中通有冷却液体或气体。可选的，在所述的反应腔室中，构成所述隔热板的材料为耐热材料。可选的，在所述的反应腔室中，构成所述隔热板的材料为钨、钥、钽、铌、钒、不锈钢、碳化硼、碳化硅及氮化硼中的一种或多种。可选的,在所述的反应腔室中,所述隔热板的厚度为lmnT5mm。可选的，在所述的反应腔室中，还包括一支撑柱，所述支撑柱穿过所述旋转结构连接所述加热器和所述隔热板，所述支撑柱用于支撑所述加热器和所述隔热板。可选的，在所述的反应腔室中，所述支撑柱上设置有冷却液体或冷却气体传输管道，所述冷却液体或冷却气体传输管道与所述隔热板的冷却管道或冷却腔相连。本申请专利技术人经过研究之后发现:现有反应腔室中的旋转结构在没有达到其设计时的使用寿命之前就已经损坏的原因在于，加热器与旋转结构之间存在明显的热交换，而这种热交换导致了旋转结构的温度超出了其安全工作的温度，由此导致了现有反应腔室中的旋转结构在没有达到其设计时的使用寿命之前就已经损坏。在本申请提供的反应腔室中设置有隔热结构，所述隔热结构至少减少加热器与旋转结构之间的热交换，由此，能够缓解所述加热器产生的热量对于所述旋转结构的温度的影响，从而降低所述旋转结构的损耗，提高所述旋转结构的使用寿命。附图说明图1是现有技术的MOCVD设`备的反应腔室的结构示意图；图2是本专利技术实施例的反应腔室的结构示意图。具体实施例方式以下结合附图和具体实施例对本专利技术提出的反应腔室作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。现有技术的反应腔室中，旋转结构通常在没有达到其设计时的使用寿命之前就已经损坏，从而大大增加了设备的维护投入。而对于这一问题，本领域技术人员一直未曾找出其根本原因。也就是说，现有的反应腔室中旋转结构极易损坏的问题长期困扰着本领域技术人员，并且这一问题的存在，直接导致了大量设备成本的投入。为此，本申请专利技术人也投入了大量的时间与精力去研究这一问题。在经过了大量的研究之后，本申请专利技术人发现，导致这一严重问题的根本原因是:加热器与旋转结构之间存在明显的热交换，而这种热交换导致了旋转结构的温度超出了其安全工作的温度，从而导致旋转结构极易损坏，特别的，损坏的旋转结构远远没有达到其设计时的使用寿命。进一步的研究发现，通常的，旋转结构的安全工作温度(即在这一工作温度之下，旋转结构能够经过正常的磨损之后，达到/基本达到其使用寿命)在几十摄氏度，而加热器的工作温度经常会到一千摄氏度以上。加热器经过与旋转结构的热交换之后，能够将所述旋转机构加热到几百摄氏度，在这样一个长期高出安全工作温度的情况下，导致了旋转结构损坏。为此，本申请专利技术人提出了一种新的反应腔室，以解决现有技术中反应腔室所存在的问题。请参考图2，其为本专利技术实施例的反应腔室的结构示意图。如图2所示，所述反应腔室2包括:腔体20 ;设置于所述腔体20内的托盘21 ;设置于所述腔体20内的旋转结构24，所述旋转结构24通过筒状侧壁26与所述托盘21连接，所述旋转结构24、托盘21及筒状侧壁26形成了一容置空间28 ;设置于所述容置空间28内用于加热所述托盘21的加热器22 ;及设置于所述容置空间28内的隔热结构25，所述隔热结构25至少减少加热器22与旋转结构24之间的热交换。在所述反应腔室2中，由于增加了隔热结构25，所述隔热结构25能够至少减少了加热器22与旋转结构24之间的热交换，由此，相对于现有技术，本实施例中的加热器22对于旋转结构24的温度影响较低。从而能够减少高温对于旋转结构24的性能损害，进而可提高旋转结构24的使用寿命，进而也降低了设备维护投入。此外，通过增加所述隔热结构25不仅能够降低旋转结构24的损害，提高旋转结构24的使用寿命；同时，由于在加热器22与旋转结构24热交换的过程中，除了会导致旋转结构24温度的提高，也可能导致加热器22的温度降低，因此所述隔热结构25还有利于保持所述加热器22的温度，从而减少所述加热器22的热损耗。在本实施例中，所述隔热结构25为一隔热板，所述隔热板设置于所述加热器22和旋转结构24之间。所述隔热板可以阻挡所述加热器22对所述旋转结构24的辐射加热，从而减少所述加热器22与所述旋转结构24之间的热交换。在本实施例中，由于所述隔热结构25选择了一隔热板予以实现，因此，其实现起来非常方便、成本也相对较低廉。同时，将所述隔热结构25/隔热板设置于所述加热器22和旋转结构24之间，由此，可十分直接的减缓所述加热器22对于所述旋转结构24的加热作用。即通过上述结构及位置的排布，能够以低成本实现缓解所述加热器22和旋转结构24之间的热交本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反应腔室，其特征在于，包括：腔体；设置于所述腔体内的托盘；设置于所述腔体内的旋转结构，所述旋转结构通过筒状侧壁与所述托盘连接，所述旋转结构、托盘及筒状侧壁形成了一容置空间；设置于所述容置空间内用于加热所述托盘的加热器；及设置于所述容置空间内的隔热结构，所述隔热结构至少减少加热器与旋转结构之间的热交换。

【技术特征摘要】
1.一种反应腔室，其特征在于，包括:腔体；设置于所述腔体内的托盘；设置于所述腔体内的旋转结构，所述旋转结构通过筒状侧壁与所述托盘连接，所述旋转结构、托盘及筒状侧壁形成了一容置空间；设置于所述容置空间内用于加热所述托盘的加热器；及设置于所述容置空间内的隔热结构，所述隔热结构至少减少加热器与旋转结构之间的热交换。2.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述隔热结构为一隔热板，所述隔热板设置于所述加热器和旋转结构之间。3.如权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，在所述加热器和旋转结构中，所述隔热板更靠近所述加热器。4.如权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，所述隔热板与所述筒状侧壁之间具有一间隙，所述间隙的宽度为0.lmnTlOmm。5.如权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，所述筒状侧壁上设置有排气孔，且所述排气孔位于所述隔热板和加热器之间区域的所述筒状侧壁。6.如权利要求5所述的反应腔室，其特征在于，所述排气孔的直径为0.lmnTlmm。7.如权利要求2所述的反应 腔室，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄允文，李王俊，
申请(专利权)人：光达光电设备科技嘉兴有限公司，
类型：发明
国别省市：