测量辅助支架制造技术

技术编号:8644338 阅读:230 留言:0更新日期:2013-04-28 02:29
本实用新型专利技术公开一种测量辅助支架,其特征在于:所述的支架包括矩形的基准平台(1),在基准平台(1)内设置有与基准平台的一个边相平行的凹槽(2),在凹槽(2)的对侧设置有两个对称设置的支撑柱(3),这两个支撑柱(3)中心点的连线与凹槽(2)相平行。这是一种结构简单,设计巧妙,能够在不对制品进行破坏性分解的情况下,对其内部各部分尺寸进行测量的测量辅助支架。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种测量制品用的辅助工具,特别是一种测量辅助支架
技术介绍
在进行某些特殊结构或形状产品的测量时,由于制品的复杂性,一部分尺寸不能够直接测量,而需要利用切割工具将制品分解后才能够进行测量。这种测量方式存在诸多问题首先制品的分割需要一定的时间,降低了测量的速度;其次这种分解属于破坏性分害I],浪费了作为测量样品的制品;而且制品在分解过程中因受力而发生变形,造成测量尺寸存在误差;制品在分解时所使用的刀、锯等工具,对操作者来说存在安全隐患;制品分解过程会产生料屑,对周围环境造成影响,而某些特殊材料在分解时还会产生刺激性气味。因此现在需要一种能够解决上述问题的新型装置或方法来达到对制品进行测量。
技术实现思路
本技术是为了解决现有技术所存在的上述不足,提出一种结构简单,设计巧妙,能够在不对制品进行破坏性分解的情况下,对其内部各部分尺寸进行测量的测量辅助支架。本技术的技术解决方案是一种测量辅助支架,其特征在于所述的支架包括矩形的基准平台1,在基准平台I内设置有与基准平台的一个边相平行的凹槽2,在凹槽2的对侧设置有两个对称设置的支撑柱3,这两个支撑柱3中心点的连线与凹槽2相平行。本技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测量辅助支架,其特征在于:所述的支架包括矩形的基准平台(1),在基准平台(1)内设置有与基准平台的一个边相平行的凹槽(2),在凹槽(2)的对侧设置有两个对称设置的支撑柱(3),这两个支撑柱(3)中心点的连线与凹槽(2)相平行。

【技术特征摘要】
1.一种测量辅助支架,其特征在于所述的支架包括矩形的基准平台(1),在基准平台(I)内设置有与基准平台的一个边相平行...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘春波
申请(专利权)人:大连华录模塑产业有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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