一种PDP障壁新型再生方法技术

本发明专利技术公开了一种PDP障壁新型再生方法，该方法是指将障壁下层涂敷至障壁烧结炉前产生的障壁再生基板投入障壁烧结炉中进行烧结，然后将烧结后的障壁再生基板进行下线、将障壁膜层出现异常的再生基板和出现的障壁图形尺寸不良的再生基板也进行下线处理；然后将这些再生基板投入障壁刻蚀机进行刻蚀；最后将完全刻蚀后的再生基板进行下线后按正常屏工艺流程进行再次涂敷。本发明专利技术还公开了一种再生液—障壁刻蚀液硝酸，采用硝酸与障壁材料的无机粉末进行反应，最终使障壁材料与基板分离开，达到再生效果。本方法不仅解决了再生机对障壁干燥后的基板再生不完全的难题，同时能对障壁烧结后的不良基板进行再生，为公司降本做出了重要贡献。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及等离子显示屏障壁再生的方法，尤其是一种采用新技术手段替换再生机，从而使等离子显示屏障壁再生的方法，具体为一种PDP障壁新型再生方法，适用于障壁制作领域。
技术介绍
在PDP显示器中，障壁是构成PDP放电单元的基本要素，其高度和宽度直接影响放电空间的大小和控制驱动电路的动态范围，它们在全屏范围内的一致性更是决定显示器性能的重要指标。障壁的作用在于保证两块基板间的放电间隙，确保一定的放电空间；防止相邻单元间的光电串扰。主要技术要求对障壁的要求是高度一致(偏差在±5mm以内)，形状均匀。在保证障壁强度的前提下，障壁宽度应尽可能窄，以增大单元的开口率，提高器件亮度。障壁图形形成原理在后板后介质上分两次进行涂敷障壁，分别经过干燥后在进行烧结，其次在障壁膜层上涂敷一种负性感光胶，干燥后将所需要的障壁图形通过曝光母板，经过曝光、显影光刻技术转移到负性感光胶上，再通过刻蚀工艺，利用硝酸与未掩盖的障壁膜层进行化学反应，而被掩盖的障壁膜层则被保留下来，最后通过剥膜将感光胶剥离掉，便形成了障壁图形。在PDP行业障壁制作领域中，障壁涂敷难免会出现一些严重条纹、凹陷，凸起，混液等不良基板；障本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种PDP障壁新型再生方法，其特征在于：将障壁下层涂敷至障壁烧结炉前产生的障壁再生基板投入障壁烧结炉中进行烧结，然后将已烧结完毕后的障壁再生基板进行下线处理、将障壁烧结后障壁膜层出现异常的再生基板和障壁图形制作过程中出现的障壁图形尺寸不良的再生基板也进行下线处理；然后将烧结完毕的再生基板、膜层出现异常的再生基板和图形尺寸不良的再生基板投入障壁刻蚀机，通过障壁刻蚀机进行刻蚀；最后将完全刻蚀后的再生基板进行下线，然后按照正常屏工艺流程进行再次涂敷。

【技术特征摘要】
1.一种rop障壁新型再生方法，其特征在于将障壁下层涂敷至障壁烧结炉前产生的障壁再生基板投入障壁烧结炉中进行烧结，然后将已烧结完毕后的障壁再生基板进行下线处理、将障壁烧结后障壁膜层出现异常的再生基板和障壁图形制作过程中出现的障壁图形尺寸不良的再生基板也进行下线处理；然后将烧结完毕的再生基板、膜层出现异常的再生基板和图形尺寸不良的再生基板投入障壁刻蚀机，通过障壁刻蚀机进行刻蚀；最后将完全刻蚀后的再生基板进行下线，然后按照正常屏工艺流程进行再次涂敷。2.根据权利要求1所述的PDP障壁新型再生方法，其特征在于所述的将障壁再生基板投入障壁烧结炉中进行烧结，其烧结温度根据不同障壁材料而定，但满足能使障壁材料中的玻璃粉熔化并粘住浆料中的固体成分，其烧结温度控制在563 ± 3 °C。3.根据权利要求1所述的P...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘衍伟，高永刚，李新亮，
申请(专利权)人：四川虹欧显示器件有限公司，
类型：发明
国别省市：