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一种PDP障壁新型再生方法技术
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文档序号:8594856
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本发明公开了一种PDP障壁新型再生方法,该方法是指将障壁下层涂敷至障壁烧结炉前产生的障壁再生基板投入障壁烧结炉中进行烧结,然后将烧结后的障壁再生基板进行下线、将障壁膜层出现异常的再生基板和出现的障壁图形尺寸不良的再生基板也进行下线处理;然后...
该专利属于四川虹欧显示器件有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过四川虹欧显示器件有限公司授权不得商用。
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