【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于X光成像应用
技术介绍
X光成像技术是现代医学、工业检测、安全检查的基本技术手段之一。荧光材料在X光成像应用中始终起到重要作用,以钨酸盐为主的X射线荧光增感屏,具有稳定、简单、廉价的优点。以氟氯化钡存储类X射线荧光材料,实现了数字化图像。以稀土硫化物为主的X射线及时成像类荧光材料,实现了快捷简单直观的数字化图像。以往的专利及学术研究已经有大量公开,如中国专利 85100247、200610155887. 7、99115874.1 ,201080046176. O、200980128751. 9,美国专利 US8343379、US7476411 等。以Gd202S、Y202S添加Tb是现有X射线稀土发光材料的基本体系,中国专利200910160773. 5 中主体成份 Gd202S:Tb,中国专利 201110251515. 5 使用了 Y202S: Tb。为了改善颜色与亮度现有技术通过改变主激活剂实现,如中国200980128751. 9中添加了 Nd,中国201110251457. 6添加了 Eu等。以上方法均是在其它用途的发光材料基础 ...
【技术保护点】
一种X射线实时高清晰成像荧光材料,其特征是:基质材料为Y、Gd、Lu中的一种,?其中添加含有Tb的酸性化合物的主激活剂,添加含有Dy的酸性化合物中的共激活剂,使用水热合成法,在温度230度,保持时间2?5小时;再烘干,制备出纳米50?300纳米的发光材料;该材料在X射线激发下,发射640nm可见光。
【技术特征摘要】
1.一种X射线实时高清晰成像荧光材料,其特征是基质材料为Y、Gd、Lu中的一种,其中添加含有Tb的酸性化合物的主激活剂,添加含有Dy的酸性化合物中的共激活剂,使用水热合成法,在温度230度,保持时间2-5小时;再烘干,制备出纳米50-300纳米的发光材料;该材料在X射线激发下,发射640nm可见光。2.如权利要求1所述一种X射线实时高清晰成像荧光材料,基质材料使用硫酸或硝酸溶解,在基质材料每克重量中,添加主激活剂Tb的浓度是1X10_2-1X10_3 ;在基质材料每克重量中,添加共激活剂Dy的浓度是1X10_2-1X10_3。3.如权利要求1所述一种X射线实时高清晰成像荧光材料,酸性化合物为硫酸或硝酸。4.如权利要求1所述一种X射线实时高清晰成像荧光材料,水热合成法使用封闭高压反应釜,稀释剂使用硫酸。5.一种X射线实时高清晰成像荧光材料,其特征是基质材料为Y、Gd、Lu中的一种,其中添加含有Tb的酸性化合物的主激活剂,添加含有Dy的酸性化合物中的共激活剂,使用硫酸或硝酸溶液溶解,加草酸沉底,去水,干燥,在1100度硫气氛中烧结,保持时间2-4小时,制备出颗粒在0. 8-5微米的...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑岩,边静宇,余锡宾,赵谡玲,
申请(专利权)人:上海洞舟实业有限公司,
类型:发明
国别省市:
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