可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法技术

本发明专利技术提供一种可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法，主要解决了现有方法制备的涂料不具备亲水自清洁功能和减反射增透功能，同时，还需要在高温下进行固化的问题。该可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法包括以下步骤：1]取氨水、醇和去离子水混合后加热；2]再取有机硅源和醇混合得到混合液；3]将经步骤2制备的反应溶液一次性加入步骤1制备的混合液中反应等处理后即得到成品。该方法所形成的膜层均匀，表面纳米结构规则，粒子表面羟基密度大，因此透光率大幅提升，单面镀膜时透光率提升达到3%以上。同时具有良好的亲水自清洁性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及可在光伏玻璃、显示屏玻璃、普通玻璃、光学器件表面形成亲水自清洁减反射薄膜的涂料的制备方法。
技术介绍
表面光反射造成了光伏玻璃透光率下降、显示器清晰度下降以及各种光学器件表面的光能量损失。为了降低反射率，通常会在表面镀一层或多层减反射膜，镀膜的方法主要有磁控溅射、离子蒸镀、溶胶-凝胶法等。其中溶胶-凝胶法无需真空专有设备，工艺简单， 成本低，对基材尺寸无限制。自清洁功能对某些在户外使用的光学表面非常重要，因为空气中的灰尘会沉积在器件表面，造成光线散射。专利申请号为201010606834的专利给出了一种二氧化硅减反射膜制备方法，具体包括以下步骤配制浓度为O.1 2mol/L正硅酸乙酯乙醇溶液，加热至室温 100°C同时磁力搅拌；配制浓度为O.1 lmol/L的氨水溶液；氨水溶液逐滴滴加到乙醇与正硅酸乙酯的混合液中，滴加完成后继续搅拌I 12小时，形成胶体溶液。将固含量O. 5% 20% 的胶体溶液与固含量O. 5% 20%的成膜剂按体积比为I 9 I混合；以玻璃为基片，使用浸溃提拉法或旋涂法制膜，膜的层数为I 5层；将镀膜的玻璃片置于120°C烘箱中烘30 分钟，再本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1]取氨水、醇和去离子水混合后加热至30?90℃，氨水、醇、去离子水的体积比为1：10?60：0.5?5；2]取有机硅源和醇混合得到混合液，有机硅源和醇的体积比例为1：1?30；3]将经步骤2制备的反应溶液一次性加入步骤1制备的混合液中反应1?15min，步骤1制备的溶液与步骤2制备的反应溶液体积比为2：1?2，4]向步骤3制备的溶液中添加去离子水反应1?15min，添加量为总溶液体积的5?30%；然后再添加氨水反应，添加量为总溶液体积的0.5?8%；5]步骤4反应完成后，再反应1?6小时；6]步骤5反应完成后，去除氨气即得...

【技术特征摘要】
1.ー种可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤 1]取氨水、醇和去离子水混合后加热至30-90°C，氨水、醇、去离子水的体积比为1:10-60 :0. 5-5 ； 2]取有机硅源和醇混合得到混合液，有机硅源和醇的体积比例为1:1-30 ； 3]将经步骤2制备的反应溶液一次性加入步骤I制备的混合液中反应l_15min，步骤I制备的溶液与步骤2制备的反应溶液体积比为2 1-2, 4]向步骤3制备的溶液中添加去离子水反应l_15min，添加量为总溶液体积的5-30%；然后再添加氨水反应，添加量为总溶液体积的0. 5-8% ； 5]步骤4反应完成后，再反应1-6小时； ...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭昭龙，赵卫，赵海新，
申请(专利权)人：中国科学院西安光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：