一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法技术

技术编号:8588418 阅读:248 留言:0更新日期:2013-04-18 01:59
本发明专利技术公开了一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法,其特征在于:在制备太阳能真空管吸收涂层的过程中,首先采用渐变结构设计工艺参数,然后采用干涉工艺参数,使之在800至1000nm时出现一个波峰,造成太阳能真空管吸收涂层整体光反射率下降。本发明专利技术的优点效果是:该技术融合了干涉与渐变技术的优点,平均吸收各个波段的光,并且提高各个波段的吸收率。改良为新的光吸收技增加了光的吸收,使吸收涂层吸收率在92%以上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及太阳能太阳能真空管的制备方法,特别涉及一种。
技术介绍
目前制备真空管吸收涂层的技术为干涉技术或者渐变技术,干涉技术的吸收率要高于渐变技术,但干涉技术由于有干涉波峰,有一部分波长的光吸收较差,而渐变技术虽然对各个波段吸收较平均,但是各个波段的吸收值很差。
技术实现思路
本专利技术针对上述现有技术的不足,提供一种融合了干涉与渐变技术的优点,平均吸收各个波段的光,并且提高各个波段的吸收率的太阳能真空管吸收涂层的制备方法。本专利技术的技术方案是,其特征在于在制备太阳能真空管吸收涂层的过程中,首先采用渐变结构设计工艺参数,然后采用干涉工艺参数,使之在800至IOOOnm时出现一个波峰,造成太阳能真空管吸收涂层整体光反射率下降。本专利技术的优点效果是该技术融合了干涉与渐变技术的优点,平均吸收各个波段的光,并且提高各个波段的吸收率。改良为新的光吸收技增加了光的吸收,使吸收涂层吸收率在92%以上。具体实施例方式下面结合实施 例和实验数据对本专利技术作进一步的说明。实施例,在制备太阳能真空管吸收涂层的过程中,首先采用渐变结构设计工艺参数,然后采用干涉工艺参数,使之在800至IOOOnm时本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法,其特征在于:在制备太阳能真空管吸收涂层的过程中,首先采用渐变结构设计工艺参数,然后采用干涉工艺参数,使之在800至1000nm时出现一个波峰,造成太阳能真空管吸收涂层整体光反射率下降。

【技术特征摘要】
1.一种太阳能真空管吸收涂层的制备方法,其特征在于在制备太阳能真空管吸收涂层的过程中,首先采用渐变结构设计工艺...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡勤国邱殿阁
申请(专利权)人:山东耀国新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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