膜形成装置及膜形成方法制造方法及图纸

本申请的发明专利技术涉及一种膜形成装置及膜形成方法。其目的在于缩小占地面积并且缩短处理线的长度、且实现装置成本的降低及生产率的提升。本发明专利技术的膜形成装置包括：涂布处理机构(6)，沿水平方向搬送被处理基板(G)，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；第1加热处理机构(11)，在第1加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及第2加热处理机构(12)，在高于所述第1加热温度的第2加热温度下加热由所述第1加热处理机构加热过的所述基板。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，尤其是涉及一种在太阳能电池板的受光面形成抗反射膜的。
技术介绍
太阳能电池具有积层着η型硅与P型硅而成的半导体构造，如果对该半导体照射特定波长的光，那么因光电效应而产生电。该太阳能电池为了高效地吸收太阳光等光，通常以抗反射膜覆盖其板(称为太阳能电池板)的受光面。以往，作为在太阳能电池板上形成抗反射膜的方法，例如，如专利文献I所揭示，已知利用等离子CVD (Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)法而在所述板上形成含有氢的氮化硅膜的技术等。[
技术介绍
文献][专利文献][专利文献I]日本专利特开2005-340358号公报
技术实现思路
[专利技术要解决的问题]然而，在利用等离子CVD法形成抗反射膜的情况下，需要真空排气设备等，而导致设备成为大规模，因此，存在成本增大的课题。 作为解决所述课题的方法，存在以下方法，S卩，通过对太阳能电池板涂布特定的涂布液，且煅烧涂布膜，而形成抗反射膜。根据该方法，即便不是真空环境，也可在板上形成抗反射膜，从而可降低成本。作为通过所述涂布膜形成而在板上形成抗反射膜的装置，本申请案申请人以往一直使用如图11所示的布本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种膜形成装置，其通过对构成太阳能电池板的被处理基板涂布特定的涂布液，且煅烧所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，该膜形成装置的特征在于包括：涂布处理机构，沿水平方向搬送所述被处理基板，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；第1加热处理机构，在第1加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及第2加热处理机构，在高于所述第1加热温度的第2加热温度下加热由所述第1加热处理机构加热过的所述基板。

【技术特征摘要】
2011.10.12 JP 2011-2246201.ー种膜形成装置，其通过对构成太阳能电池板的被处理基板涂布特定的涂布液，且煅烧所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，该膜形成装置的特征在于包括 涂布处理机构，沿水平方向搬送所述被处理基板，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜； 第I加热处理机构，在第I加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及 第2加热处理机构，在高于所述第I加热温度的第2加热温度下加热由所述第I加热处理机构加热过的所述基板。2.根据权利要求1所述的膜形成装置，其特征在于包括 干燥缓冲机构，收纳利用所述涂布处理机构而形成着涂布膜的被处理基板，并且通过对所述涂布膜喷附特定的气流，而促进涂布膜中的溶剂的蒸发；且 依序由所述第I加热处理机构及所述第2加热处理机构对利用所述干燥缓冲机构而使涂布膜中的溶剂蒸发的所述基板进行加热处理。3.根据权利要求2所述的膜形成装置，其特征在干 所述干燥缓冲机构包括缓冲部，上下多段地设置着可收纳被处理基板的架部；及气流形成机构，从所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：坂井　光广，川口　义广，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：