获得包含带涂层的基底的材料的方法技术

本发明专利技术的主题是获得包含基底的材料的方法，该基底在其至少一面上带有包含至少一个薄层的永久涂层，所述方法包含下列步骤：在所述基底的至少一面上沉积所述永久涂层；然后在所述永久涂层上直接沉积临时涂层，所述临时涂层包含至少一个可溶于溶剂中的薄层作为离基底最近的层，在该薄层上有至少一个功能层；然后对如此涂覆的基底施以热处理；和然后用所述溶剂处理所述涂覆的基底以从所述基底的表面上除去所述临时涂层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】获得包含带涂层的基底的材料的方法本专利技术涉及包含基底，尤其是玻璃基底的材料的领域，所述基底在其至少一面上带有包含至少一个薄层的永久涂层。通常，这样的材料必须经受旨在改进基底和/或永久涂层的性质的热处理。在玻璃基底的情况下，其可以例如是旨在通过在其表面中产生高压缩应力来机械增强基底的淬火热处理。这样的处理也可以改进永久涂层的某些性质，尤其是通过改进在该涂层内包含的薄层的结晶特性。例如，包含具有导电和低-E（低辐射）性质的银层的永久涂层在其结晶结构具有较高品质：尺寸较小的晶粒、晶界减少等时出现这些改进的性质。这同样适用于透明导电氧化物，根据其英文名称常称作“TCO”，例如氧化铟锡（ITO）或镓-掺杂或铝-掺杂的氧化锌。关于二氧化钛，通过用于允许提高其在锐钛矿形式下的结晶度的热处理改进其光催化性质。如专利申请WO2008/096089中所述，已知在淬火或退火炉中对带有这样的涂层的基底施以淬火或退火热处理，或例如使用火焰、等离子体炬或激光辐射施以快速退火处理。但是，永久涂层的某些层如果没有适当受保护，可能在热处理过程中劣化。例如，经受热淬火的TCO层必须暂时受保护以防氧化——任选使用氮化硅保护层。必须随后除去这种保护层，通常通过长时间和昂贵的蚀刻处理。可通过吸收红外辐射的层的存在改进某些层的快速退火处理，特别是在使用火焰或激光辐射处理的情况下如此。因此在永久涂层上布置包含这种吸收层的临时涂层是有用的。如果在退火过程中不除去临时涂层，其必须在处理后例如通过蚀刻法除去。本专利技术目的是通过提供更简单更便宜的方法来消除这些缺点。为此，本专利技术的一个主题是获得包含在其至少一面上带有包含至少一个薄层的永久涂层的基底的材料的方法，所述方法包含下列步骤：-在所述基底的至少一面上沉积所述永久涂层；然后-直接在所述永久涂层上沉积临时涂层，所述临时涂层包含至少一个可溶于溶剂中的薄层作为离基底最近的层，在该薄层上有至少一个功能层；然后-对如此涂覆的基底施以热处理；和然后-用所述溶剂处理所述涂覆的基底以从所述基底的表面上除去所述临时涂层。直接在永久涂层上存在可溶于溶剂中的层允许在热处理后或在后继步骤过程中通过使用所述溶剂的简单洗涤除去整个临时涂层。可以有利地在基底运输、切割和装卸步骤后实施除去临时涂层的步骤，该临时涂层因此能保护基底表面免受划伤。本专利技术的另一主题是包含在其至少一面上带有永久涂层的基底的材料，临时涂层直接位于所述永久涂层上，所述临时涂层包含至少一个可溶于溶剂中的薄层作为离基底最近的层，在其上有至少一个功能层。这种材料作为本专利技术的方法的实施过程中的中间产物而获得。在说明书下文中出现的优选特征既适用于本专利技术的方法，在适当情况下又适用于本专利技术的中间产物。该基底优选是玻璃板或玻璃-陶瓷板。其也可以是聚合材料板，例如聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）的板。该基底优选是透明无色的（其这时是明亮玻璃或超明亮玻璃）或有色的，例如蓝色、灰色或青铜色。该玻璃优选是钠钙硅类型，但其也可以是硼硅酸盐或铝硼硅酸盐类型的玻璃。有利地，该基底具有至少一个等于或大于1米、甚至2米或甚至3米的维度。该基底的厚度通常为0.5毫米至19毫米，优选0.7至9毫米，尤其是2至8毫米，甚至4至6毫米不等。该基底可以是平面或曲面的或甚至柔性的。该玻璃基底优选为浮法玻璃类型，即能通过由将熔融玻璃倒到熔融锡浴（“漂浮”浴）上构成的方法获得。在这种情况下，要处理的层可以同样好地沉积在基底的“大气”面和沉积在“锡”面上。术语“大气面”和“锡面”分别被理解为是指已经与在浮浴中的大气接触的和与熔融锡接触的基底面。锡面在表面上含有已扩散到玻璃结构中的少量锡。也可以通过在两个辊之间辊轧获得玻璃板，该技术特别能在玻璃表面上压印图案。特别对于在光伏领域中的应用，在永久涂层包含透明导电氧化物（TCO）层时，该基底优选由超明亮或极明亮玻璃制成，即其光透射或能量透射等于或大于90%，尤其是90.5%，更尤其是91%，甚至91.5%。通常缩写为“TL”的光透射根据ISO9050(2003)标准计算并换算至3.2毫米的玻璃厚度。缩写为“TE”的能量透射也根据ISO9050(2003)标准计算并换算至3.2毫米的玻璃厚度。这样的玻璃通常使用贫铁的原材料获得，以使在最终玻璃中的氧化铁含量为最多0.02%，尤其是0.01%。为了进一步优化这种透射，玻璃的氧化还原水平(rédox)（即以FeO表示的亚铁重量含量与以Fe2O3表示的总铁重量含量的比率）优选等于或小于20%，优选10%，甚至0。特别可通过使用氧化锑或氧化铈将铁氧化或通过如专利申请FR-A-2921356和FR-A-2921357中所教导地将重量含量0.1至2%的氧化钨和/或重量含量1.5至10%的氧化钾添加到玻璃中来获得这样的氧化还原水平或透射水平。也可以如国际专利申请WO2009/115725中所教导地在精制步骤后将氧化气体鼓入熔融玻璃中。在光伏应用中，玻璃基底的尺寸通常如下：对于1.6至6mm，尤其2.9至4mm的厚度时，0.6×1.2m2或1.1×1.3m2或2.2×2.6m2。永久涂层优选包含至少一个基于或由选自透明导电氧化物（TCO）、银和二氧化钛的材料构成的薄层。在TCO中，可以提到基于混合氧化铟锡（称作ITO）、基于混合氧化铟锌（称作IZO）、基于镓-掺杂或铝-掺杂的氧化锌、基于铌-掺杂的氧化钛、基于锡酸镉或锡酸锌或基于氟-掺杂和/或锑-掺杂的氧化锡的薄层。这些不同层用在其中需要透明性和导电性的许多系统中：液晶显示器（LCD）、光电或太阳能集热器、电致变色或电致发光器件等。与掺杂剂氧化物重量除以总重量对应的掺杂水平通常小于10%，或甚至5%。在铝掺杂的氧化锌的情况下，掺杂水平（即氧化铝重量除以总重量）优选小于3%。在氧化镓的情况下，掺杂水平可更高，通常5至6%。TCO层的厚度优选为2至1000纳米，尤其是50至800纳米，更尤其是150至600纳米。该永久涂层从玻璃基底开始可包含充当碱金属迁移阻隔的下层（尤其基于介电材料，如硅或铝的氮化物、氧化物或氮氧化物或它们的任何混合物）和随后TCO层。该下层尤其防止碱金属离子在淬火或退火热处理过程中或在光电池工作过程中在电场下的迁移的有害作用。薄银膜可以以如下身份使用：通过反射红外、热或太阳辐射，它们赋予该材料低辐射性或日光控制功能；导电性，它们还能获得导电材料，例如加热窗玻璃或电极。为了防止银氧化，介电层在永久涂层内围绕银层。所述银层或各银层的物理厚度优选为6至20纳米。该永久涂层优选从基底开始包含含有至少一个第一介电层的第一涂层、至少一个银层、任选的上阻隔层和含有至少一个第二介电层的第二涂层。该上阻隔层用于在后继层的沉积过程中（例如如果后继层在氧化或氮化气氛中沉积）和在可能的淬火或弯曲类型热处理过程中保护银层。银层也可以沉积在上阻隔层上并与上阻隔层接触。该叠层因此可包含围绕所述银层或各银层的上阻隔层和/或下阻隔层。阻隔层（下阻隔层和/或上阻隔层）通常基于选自镍、铬、钛、铌或这些各种金属的合金的金属。特别可提到镍-钛合金（尤其是包含大约50重量%每种金属的那些）或镍-铬合金（尤其是包含80重量%镍和20重量%铬的那些）。上阻隔层也可以由几个叠加层构成，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.27 FR 10561651.获得包含基底的材料的方法，该基底在其至少一面上带有包含至少一个薄层的永久涂层，所述方法包含下列步骤：-在所述基底的至少一面上沉积所述永久涂层；然后-在所述永久涂层上直接沉积临时涂层，所述临时涂层包含至少一个可溶于溶剂中的薄层作为离基底最近的层，在该薄层上有至少一个功能层，所述功能层是吸收波长为600至1200纳米的红外激光辐射的层；然后-对如此涂覆的基底施以热处理；旨在改进永久涂层的至少一个薄层的结晶的所述热处理选自用波长为600至1200纳米的红外激光辐射的快速退火处理，和然后-用溶剂处理所述被涂覆的基底以从所述基底的表面上除去所述临时涂层。2.如权利要求1中所述的方法，其中所述基底是玻璃板或玻璃-陶瓷板。3.如前述权利要求1或2所述的方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：A卡尔申科，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃厂，
类型：
国别省市：