一种新的多模式A2/0氧化沟制造技术

技术编号:8588360 阅读:202 留言:0更新日期:2013-04-18 01:56
本发明专利技术涉及一种废水处理装置。本发明专利技术所述的一种新的多模式A2/0氧化沟,包括依次相连的粗格栅,配水井,细格栅及曝气沉砂池,A2/0氧化沟,二沉池,接触消毒池和高位井,其特征在于接触消毒池和高位井之间还设有高效沉淀池。本发明专利技术有效地降低了污水厂出水中TP含量,使污水厂实现了出水TP的稳定达标。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种废水处理装置。
技术介绍
多模式A2 / O氧化沟工艺是将A2 / O工艺与氧化沟工艺相结合的污水处理工艺,由于这种工艺有效地发挥了 A2 / O脱氮除磷与氧化沟工艺高效去除有机污染物的优点,日前得到越来越广泛的应用。申请人分析了某污水厂的多模式A2 / O氧化沟工艺在应用过程中遇到的问题,并且申请人对该污水厂运行稳定后的数据进行了分析,并根据各污染物的达标天数考察多模式A2 / O氧化沟工艺对污染物的处理效果。发现,在多模式A2 / O氧化沟工艺运行中,对C0D&、BOD5, NH3-N, TN的处理效果较好,对TP的处理效果不太理想,在442 d的监测过程中只有364 d达标,达标天数只占82. 3%,没有充分发挥A2 / O工艺的脱氮除磷优势。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种能降低出水中TP含量的新的多模式A2 / O氧化沟。本专利技术所述的一种新的多模式A2 / O氧化沟,包括依次相连的粗格栅,配水井,细格栅及曝气沉砂池,A2 / O氧化沟,二沉池,接触消毒池和高位井,其特征在于接触消毒池和高位井之间还设有高效沉淀池。本专利技术有效地降低了污水厂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新的多模式A2/0氧化沟,包括依次相连的粗格栅,配水井,细格栅及曝气沉砂池,A2/0氧化沟,二沉池,接触消毒池和高位井,其特征在于接触消毒池和高位井之间还设有高效沉淀池。

【技术特征摘要】
1.一种新的多模式A2 / O氧化沟,包括依次相连的粗格栅,配水井,细格栅及曝气沉砂池,A2 ...

【专利技术属性】
技术研发人员:周莉英
申请(专利权)人:陕西宣和通科技发展有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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