【技术实现步骤摘要】
一种六方氮化硼二维超薄纳米片及其制备方法与应用
本专利技术属于纳米材料
,涉及一种六方氮化硼二维超薄纳米片及其制备方法与应用。
技术介绍
自2004年石墨烯问世以来,无机二维纳米材料由于其独特的物理及化学特性与潜在应用,已成为材料科学研究领域的热点,参见Adv. Mater. 2012,24,210。六方氮化硼具有耐高温、高导热率、耐辐射、耐腐蚀,高温润滑及优良的介电、绝缘性能,在各个领域尤其是宇航、国防、电子核工业有较好的应用,引起了人们广泛的研究兴趣。六方氮化硼纳米片具有和石墨烯相似的结构,B原子与N原子由Sp2杂化连接的单原子层构成,其基本结构单元为有机材料中最稳定的苯六元环,其理论厚度与石墨烯相当, 约为O. 33nm,是目前所发现的最薄的二维材料之一,参见Nanoscale2012,4,6908。其化学稳定性、热稳定性等性能比石墨烯更优良,因此在制备高导热陶瓷器件、导热绝缘聚合物复合材料、耐热固体润滑剂和润滑油脂添加剂等方面具有新颖的应用前景。例如,超薄的氮化硼纳米片填充物可以提高聚合物的导热和机械性能,参见Adv. Mater. 2009,21, ...
【技术保护点】
一种六方氮化硼二维超薄纳米片的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)将金属硼化物粉末与铵盐粉末混合,研磨均匀,密封于反应釜中,于400~700℃反应6~48小时;(2)步骤(1)的反应产物经酸洗除去副产物,然后再水洗、醇洗至中性,离心分离后经真空干燥,得到六方氮化硼二维超薄纳米片。
【技术特征摘要】
1.一种六方氮化硼二维超薄纳米片的制备方法,其特征在于包括以下步骤(1)将金属硼化物粉末与铵盐粉末混合,研磨均匀,密封于反应釜中,于400 700°C反应6 48小时;(2)步骤(I)的反应产物经酸洗除去副产物,然后再水洗、醇洗至中性,离心分离后经真空干燥,得到六方氮化硼二维超薄纳米片。2.根据权利要求1所述的六方氮化硼二维超薄纳米片的制备方法,其特征在于步骤 (O中所述的金属硼化物为六硼化钙、六硼化镧、硼化镁、硼化锆、硼化铬或硼化钛。3.根据权利要求1所述的六方氮化硼二维超薄纳米片的制备方法,其特征在于步骤(I)中所述的铵盐为氯化铵、溴化铵或硝酸铵。4.根据权利要求1所述的六方氮化硼二维超薄纳米片的制备方法,其特征在于步骤 Cl)中所述的金属硼化物与铵盐的摩尔比为1:2 12。5.根据权利要求1所述的六方氮化硼二维超薄纳米片的制备方法,其特征在于步骤(I)为将六硼化钙或六硼化镧粉末与铵盐粉末按摩尔比1...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑明涛,刘应亮,雷炳富,刘晓瑭,肖勇,董汉武,张浩然,
申请(专利权)人:华南农业大学,
类型:发明
国别省市:
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