【技术实现步骤摘要】
专利技术的背景本申请是1993年4月12日提交的美国专利申请No.08/045,165(此处将其结合进来作为参考并称为“母申请”)的部分继续申请,该申请是1992年3月31日提交的美国专利申请NO.07/865,039的部分继续申请(此处将其结合进来作为参考并称为该“039申请”),该申请是1990年11月9日提出的美国专利申请NO.07/611,198而现为美国专利NO.5,099,557(“557专利”)的部分继续申请,该申请本身又是1988年7月8日提交的美国专利申请NO.07/216,903而现为美国专利NO.5,024,968(“968专利”)的分案申请。本专利技术涉及到从表面清除物质。更确切地说,本专利技术涉及到用辐照地方法从衬底表面清除物质而不改变处于被清除物质下方或附近的待要保留在衬底上的物质的物理性质。从衬底表面有效地清除不希望有的物质,是许多重要的材料加工和产品制造工艺的一个关键步骤。如在本专利申请中所述,不希望有的物质(也可认为是沾污物)包括颗粒、不希望有的化学元素或化合物以及材料薄膜或材料层。颗粒可以是尺寸从亚微米到肉眼可见的细粒的分立物质。 ...
【技术保护点】
一种用来从衬底被处理表面选择性地清除基本连续的不希望有的材料层而不影响待要留在不希望有的材料附近或下方的被处理表面上的所需要材料的物理性质的方法,包含下列步骤:横跨上述不希望有的材料,引入一个基本上对上述衬底呈惰性的气体流;以及用空间和时间浓度足以从被处理表面释放不希望有的材料而不足以改变所需材料的物理性质的载能光子,辐照上述不希望有的材料。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:AC恩格斯伯格,DR费兹帕特克,
申请(专利权)人:大锅有限合伙人公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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