【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及废液处理,特别是一种能够。
技术介绍
在一般工业工艺的过程中,常常会产生含有固含物的废液,例如光电业半导体工艺中切削硅晶块的程序,会使用线型刀片并搭配混有钻石或碳化硅(俗称金刚砂)磨粒的切削液,在刀片高速旋转下将硅晶块切割成硅芯片,而在切割硅晶块的过程中所产生的破片和碎屑,就会混杂在切削液中并逐渐累积(在一硅晶块切削废液中,约有40%的硅因为线型刀片的宽度而损耗),导致切削液固含物含量太高无法继续利用而成为废液,最终只能丢弃,不仅不利于环保且不符合经济效益。虽然现有技术中有将前述废液单纯通过滤布,尝试去除废液中的固含物,但现有滤布过滤方式无法将固含物中较具经济价值的碳化硅由废液中分离出来,且因固含物会阻塞滤布,导致过滤效果不明显。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种,能有效将废液中的碳化硅回收利用。为了实现上述目的,本专利技术提供了一种包括以下步骤(a)以过滤方式分离一废液中的固含物及液体,该固含物包含硅粉及碳化硅粉;(b)将该固含物与水混合为一第一混合液体;(C)以离心方式将该第一混合液体中的娃粉及水移除,保留碳化硅粉为主的第一阶段 ...
【技术保护点】
一种回收废液中的碳化硅的方法,其特征在于,包括以下步骤:(a)以过滤方式分离一废液中的固含物及液体,该固含物包含硅粉及碳化硅粉;(b)将该固含物与水混合为一第一混合液体;(c)以离心方式将该第一混合液体中的硅粉及水移除,保留碳化硅粉为主的第一阶段产物;(d)对该第一阶段产物进行至少一道沉降分离程序,以得到第二阶段产物,其中该沉降分离程序依序包含加水搅拌混合、静置沉降及移除悬浮液的步骤;(e)添加氢氧化钠溶液至该第二阶段产物中,氢氧化钠与硅反应生成偏酸硅钠并加以移除,得到第三阶段产物;及(f)将该第三阶段产物中残留的氢氧化钠及水去除,得到纯化后的碳化硅。
【技术特征摘要】
1.一种回收废液中的碳化硅的方法,其特征在于,包括以下步骤 (a)以过滤方式分离一废液中的固含物及液体,该固含物包含娃粉及碳化娃粉; (b)将该固含物与水混合为一第一混合液体; (C)以离心方式将该第一混合液体中的硅粉及水移除,保留碳化硅粉为主的第一阶段产物; (d)对该第一阶段产物进行至少一道沉降分离程序,以得到第二阶段产物,其中该沉降分离程序依序包含加水搅拌混合、静置沉降及移除悬浮液的步骤; (e)添加氢氧化钠溶液至该第二阶段产物中,氢氧化钠与硅反应生成偏酸硅钠并加以移除,得到第三阶段产物;及 (f)将该第三阶段产物中残留的氢氧化钠及水去除,得到纯化后的碳化硅。2.如权利要求1所述的回收废液中的碳化硅的方法,其特征在于,在步骤a中利用一过滤结构过滤分离该废液中的固含物及液体。3.如权利要求2所述的回收废液中的碳化硅的方法,其特征在于,该过滤结构包括一滤布及一助滤层。4.如权利要求3所述的回收废液中...
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