一种透明光学元件的快速激光预处理方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种透明光学元件的快速激光预处理方法及装置，具体是相对透明光学元件的表面和背面各设置一系列激光反射装置，预处理激光光束入射到透明光学元件表面并穿透待处理样品后从待处理样品背面出射，出射后的激光光束经后反射装置反射后再次照射到被处理样品背面上并穿透待处理样品后从待处理样品表面出射；如此类推，预处理激光光束经前反射装置和后反射装置的相互反射作用，使预处理激光光束多次经过透明光学元件，对元件的表面、背面和内部均进行并行的多次辐照预处理，从而大幅度提高透明光学元件激光预处理速度。本发明专利技术可以用于光学表面及亚表面缺陷修复、体内特性激光处理等多个领域，特别适用于对大口径透明光学元件进行快速激光预处理以提高其抗激光破坏能力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学材料激光预处理领域，具体是ー种透明光学元件的快速激光预处理方法及装置。
技术介绍
在强激光及其应用过程中，光学元件的吸收特性、缺陷分布及其抗损伤能力等都是系统能否正常运行的重要因素。在目前的技术条件下，对普通エ业应用的激光元件及系统，通常都是通过改进光学元件的加工エ艺来提高光学元件的光学性能包括抗激光破坏能 力。但是随着各种应用对激光输出能量或功率水平要求的提高，仅仅从传统的加工方法和エ艺上来进行改进在技术上已经变得越来越困难，并且成本昂贵。在ー些特殊应用中，如建立超大型强激光系统并且开发其应用，采用传统的加工方法和エ艺已经难以满足技术要求。通过激光预处理来提高光学元件的光学性能及其激光损伤阈值是ー种行之有效的方法。激光预处理技术通常是采用功率密度或能量密度略低于光学元件损伤阈值的激光束(亚阈值激光束)对光学元件进行100%覆盖的辐照处理。激光预处理过程能够有效清除光学元件表面的污染和表面、亚表面缺陷，从而提高元件的激光损伤阈值。一般在激光预处理过程中，为了达到更好的处理效果，需要采用强度依次増加的激光束对样品进行多次辐照处理，并且根据具体元件情况要对初始处理的激本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明光学元件的快速激光预处理方法，其特征在于：包括以下步骤：（1）、首先相对透明光学元件的表面设置一组前反射装置，相对透明光学元件的背面设置一组后反射装置；（2）、将预处理激光光束入射到透明光学元件表面的处理点1进行辐照预处理，预处理激光光束穿透待处理样品后从待处理样品背面的处理点1’出射，出射后的激光光束经后反射装置反射后再次照射到被处理样品背面上的处理点2’,并穿透待处理样品后从待处理样品表面的处理点2出射，出射后的激光光束经前反射装置反射后再次照射到被处理样品表面上的处理点3；如此类推，预处理激光光束经前反射装置和后反射装置的相互反射作用，多次经过透明光学元件，对透明光学元件表面的N...

【技术特征摘要】
1.一种透明光学元件的快速激光预处理方法，其特征在于包括以下步骤 (I )、首先相对透明光学元件的表面设置一组前反射装置，相对透明光学元件的背面设置一组后反射装置； (2)、将预处理激光光束入射到透明光学元件表面的处理点I进行辐照预处理，预处理激光光束穿透待处理样品后从待处理样品背面的处理点I’出射，出射后的激光光束经后反射装置反射后再次照射到被处理样品背面上的处理点2’，并穿透待处理样品后从待处理样品表面的处理点2出射，出射后的激光光束经前反射装置反射后再次照射到被处理样品表面上的处理点3 ;如此类推，预处理激光光束经前反射装置和后反射装置的相互反射作用，多次经过透明光学元件，对透明光学元件表面的N个处理点、背面的N个处理点和透明光学元件内部相应的两个处理点之间预处理光束经过的区域均进行了辐照预处理，其中，N > I。2.一种透明光学元件的快速激光预处理装置，包括有相对透明光学元件表面设置的激光光源，其特征在于还包括有相对透明光学元件表面设置的...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴周令，陈坚，吴令奇，
申请(专利权)人：合肥知常光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：