光学信息记录介质的记录和再现方法技术

本发明专利技术提供了一种光学信息记录介质的记录和读出方法，该光学信息记录介质包括：记录层14，该记录层14的厚度等于或大于2λ/n，并且被设计为通过记录光束RB的照射而发生折射率的变化，其中λ为该记录光束RB的波长，n为所述记录层14的折射率；以及邻接层（中间层13），该邻接层设置在与所述记录光束进入所述记录层的入射侧相对的一侧，所述方法包括以下步骤：在记录信息时，用记录光束RB照射光学信息记录介质，同时使焦点位置以偏移量d由所述记录层14与所述邻接层间的界面18向所述入射侧移动，由此使记录位置处的所述记录层14的折射率发生变化，从而对记录点M进行记录，其中所述偏移量d满足ω0＜d＜3ω0，其中ω0为将要记录于所述记录层14中的记录点的半径；以及通过使用读出光束照射所述光学信息记录介质，同时使该读出光束聚焦于所述界面18，从而读取所述信息。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
近年来，为了在光学信息记录介质的多个层中记录信息，研究了这样的方法利用诸如双光子吸收之类的多光子吸收反应使光学信息记录介质中所含的记录材料发生光学变化(参见(例如)专利文献I)。对于利用多光子吸收反应的光学信息记录介质，与广泛使用的利用单一记录层的常规光学信息记录介质类似，考虑到读取信息时在记录层的上下界面处反射的反射光发生相互干涉(这被称作干涉效果)，以使得记录部分处的反射率与非记录部分处的反射率之间的差值(即，在记录层的上下界面处反射并且相互干涉，然后返回到 光学拾波器的光束的比率的差值)较大的方式，确定记录材料在记录区域处的折射率变化和记录层的厚度。在专利文献I所公开的信息记录介质中，考虑了膜厚度与反射率之间的关系(如该文献中图2所示)，段建议记录层的厚度优选为约λ/4η (其中λ为读取光束的波长，η为记录层的折射率)，或厚度更薄，为约5nm至50nm。专利文献2公开了未利用以上文献所利用的干涉效果的另一光学信息记录介质。根据该已知的光学信息记录介质，在记录层下方设置了荧光发光层，该荧光发光层所发出的光穿过记录层而被检测到，由此读取信息。引用列表专本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.13 JP 2010-1585821.一种在光学信息记录介质中记录信息并随后由该光学信息记录介质读取信息的方法，该介质包括记录层，该记录层的厚度等于或大于2 λ /n,并且被设计为通过记录光束的照射而发生折射率的变化，其中λ为该记录光束的波长，η为所述记录层的折射率；以及邻接层，该邻接层设置在与所述记录光束进入所述记录层的入射侧相对的一侧，所述方法包括以下步骤在记录信息时，用所述记录光束照射所述光学信息记录介质，同时使焦点位置以偏移量d由所述记录层与所述邻接层...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐佐木俊央，望月英宏，北原淑行，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：
国别省市：