用于测量被检表面的形状的测量方法、测量设备和光学元件的制造方法技术

提供了可减少用于测量整个被检表面的形状的时间的测量方法或设备。多个测量范围中的每一个被设定为使得一个测量范围重叠至少另一测量范围的一部分以形成重叠区域，各测量范围是被检表面的一部分。然后，在多个测量范围中的第一测量范围中以第一分辨率测量被检表面的形状，并在第二测量范围中以第二分辨率测量被检表面的形状。通过使用得到的测量数据拼接多个测量范围中的被检表面的形状的数据，以计算被检表面的形状。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
在高倍率变焦透镜中，使用直径大于200mm的大孔径的透镜。为了测量这种透镜的表面形状或来自透镜的光的波前(wavefront)，作为测量设备的具有大孔径的干涉计和在干涉计中使用的基准透镜是必需的。由于基准透镜需要比要被测量的透镜大并且还需要具有被高精度加工的表面，因此，基准透镜难以制造，并且，需要很高的成本和很多的时间。因此，已经使用了用于使用多个较小的测量范围来测量被检表面(test surface)的技术(参见PTL1)。该方法通过对于各测量范围获取被检表面的一部分的形状的数据并执行用于拼接各个形状的运算处理(拼接)来计算整个被检表面的形状的数据。因此，实现小型化和低成本的基准透镜和测量设备。在PTLl中公开了被检表面的所有的测量范围(子孔径)具有相同的尺寸。还公开了通过根据测量被检表面中的具有最大的非球面量(amount of asphericity)的区域所必需的测量范围选择基准透镜并通过确定各测量范围来测量非球面。引文列表专利文献PTLl :美国专利 No. 695665
技术实现思路
技术问题在PTLl中公开的测量技术中，在具有大的非球面量的区域本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于测量被检表面的形状的测量方法，该测量方法包括 设定多个测量范围中的每一个使得被检表面的一部分被用作一个测量范围并且一个测量范围重叠至少另一测量范围的一部分以形成重叠区域的步骤； 在所述多个测量范围中的每一个中测量被检表面的形状的步骤；以及 通过拼接在测量步骤中获得的被检表面的形状的数据获得在所述多个测量范围上被检表面的形状的步骤， 其中，测量步骤包括 以第一分辨率在所述多个测量范围中的第一测量范围中测量被检表面的形状的步骤；以及 以与第一分辨率不同的第二分辨率在所述多个测量范围中的与第一测量范围不同的第二测量范围中测量被检表面的形状的步骤。2.根据权利要求1的测量方法，其中，通过使用与第一测量范围和第二测量范围中的每一个对应的系统误差，计算所述多个测量范围上的被检表面的形状。3.根据权利要求1或2的测量方法，其中，通过使得第一测量范围的尺寸与第二测量范围的尺寸相互不同，使得第一分辨率和第二分辨率相互不同。4.根据权利要求1 3中的任一项的测量方法，其中，通过使得在第一测量范围和第二测量范围中用于测量被检表面的形状的图像拾取元件所执行的测量中使用的像素的数量相互不同，使得第一分辨率和第二分辨率相互不同。5.根据权利要求1 4中的任一项的测量方法，其中，通过在第一测量范围或第二测量范围中在以小于等于用于测量被检表面的形状的图像拾取元件的像素尺寸的间距移动测量范围时测量被检表面的形状，使得第一分辨率和第二分辨率相互不同。6.根据权利要求1 5中的任一项的测量方法，其中，通过使用被检表面的形状的设计值设定第一分辨率和第二分辨率。7.根据权利要求1 6中的任一项的测量方法，其中，对于被检表面的至少一部分预先测量被检表面的形状，并且，通过使用通过该测量获得的数据设定第一分辨率和第二分辨率。8.一种用于测量被检表面的形状的测量方法，该测量方法包括 设定多个测量范围中的每一个使得一个测量范围重叠至少另一测量范围的一部分以形成重叠区域的步骤，各测量范围是被检表面的一部分； 在所述多个测量范围中的每一个中测量被检表面的形状的步骤；以及 通过拼接在测量步骤中获得的被检表面的形状的数据获得在所述多个测量范围上被检表面的形状的步骤， 其中，在测量步骤中， 对于在所述多个测量范围中的至少一个测量范围中被检表面的形状的测量数据执行抽取处理，并且，已被执行抽取处理的数据被用于拼接被检表面的形状的数据。9.根据权利要求1 8中的任一项的测量方法，其中，被检表面的第一测量范围中的非球面量比第二测量范围中的非球面量大，并且， 其中，第一分辨率比第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：大崎由美子，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：
国别省市：