一种准分子激光器环形腔调节装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术属于准分子激光技术领域，提供了一种准分子激光器环形腔调节装置和方法。所述装置包括参考光源，用于产生校准所用参考光束；反射镜，小孔光阑和屏。所述方法尤其适用于环形腔调节参考光与准分子激光同轴方法。该方法以放电腔在两密封窗口外的荧光光斑中心为基准确定放电腔光轴位置，通过调整环形腔内两面反射镜来使参考光绕环形腔一周后与其刚进入耦合镜的二次反射光在近点与远点光斑重合，从而实现准分子激光器环形腔腔体的调整。本发明专利技术克服了传统方法的局限性，将环形腔的调节简化为腔外两光束重合的调节，调节精度高，不需要拆除密封窗口，不需要额外的测量仪器，操作简单。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于准分子激光
，提供了。
技术介绍
ArF准分子激光器现在仍然是光刻机主要光源。随着光刻节点的不断减小，单腔结构的准分子激光器很难同时满足光刻对光源功率和线宽的要求。国外公司首先采用 MOPA(Master oscillator power amplifier)技术来解决这个矛盾。但这种技术要求大能量的放电激励使MO (Master oscillator)腔的寿命明显偏低。另外，放大腔输出受MO和 PA (power amplifier)同步抖动影响较大。Cymer公司开发了环形腔技术(Recirculating ring technology)来解决MOPA技术所带来的问题。改进的结构使得功率放大腔工作在更高的饱和状态，每个脉冲都在腔中得到了多程放大，从而减小了放电的不稳定性对输出的影响，脉冲能量稳定性提高了1. 5倍。相比传统的双腔结构，种子能量的变化对输出能量变化的影响减小；主振荡腔所需要的能量大大减小，延长了主振荡腔与线宽压缩模块的寿命； 脉冲宽度增加。单独的脉冲气体激光器环形腔为外腔，一般由放电腔、2-3面反射镜和输入输出耦合镜构成。为了能使种子光注入后本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种准分子激光器环形腔调节装置，激光器环形腔包括放电腔(7)、耦合镜(1)、第一反射镜(4)、第二反射镜(5)和第三反射镜(6)，其特征在于，该装置包括参考光源(8)、第四反射镜(9)、第五反射镜(10)、小孔光阑(11)和屏(12)；参考光源(8)位于激光器环形腔的耦合镜(1)的外侧，第四反射镜(9)和第五反射镜(10)均位于参考光源(8)与所述耦合镜(1)之间光路上，在参考光源(8)所发射的参考光在耦合镜(1)反射光所形成的光路上放置有所述小孔光阑(11)和屏(12)；调整第四反射镜(9)、第五反射镜(10)，以及第二反射镜(5)和第三反射镜(6)的位置使环形腔内各部件所形成的光路为闭合光...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：胡守岩，朱剑平，胡耀文，徐勇跃，左都罗，王新兵，陆培祥，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：