一种优化CDSEM跑货顺序的方法技术

一种优化CDSEM跑货顺序的方法，包括：步骤S1：导出已完成跑货的批量产品之制程时间Twafer；步骤S2：计算单点制程时间Tpoint；步骤S3：将所述单点制程时间Tpoint导入自动派货系统；步骤S4：计算所述CDSEM量测机台的等待时间Twait；步骤S5：所述自动派货系统根据步骤S4所获得的等待时间Twait，以及所述自动派货系统所记录的批量产品的优先等级顺序优化所述CDSEM量测机台的跑货顺序。本发明专利技术所述的优化CDSEM跑货顺序的方法实现了CDSEM量测机台等待时间的量化，并结合所述自动派货系统记录的批量产品的优先等级顺序、测量点数量等相关信息，优化所述CDSEM量测机台的跑货顺序，不仅提高了所述CDSEM量测机台的利用率，而且减少了高等级批量产品在所述CDSEM测量站点的等待时间，极大的改善了生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体器件
，尤其涉及一种优化CDSEM跑货顺序的方法。
技术介绍
目前，在半导体器件制造中，采用关键尺寸扫描电子显微镜(Critical DimensionElectronic Microscope, (DSEM)测量制作在晶片上的图案的关键尺寸(CriticalDimension, CD)。随着半导体技术的发展,半导体器件的关键尺寸越来越小。为保证光刻或刻蚀后晶片上图案的准确性，经过曝光显影将光罩上的图案转移到晶片上以后，带有图案的晶片会放置在CDSEM机台，由CDSEM控制系统控制CDSEM机台测量光刻后图案的关键尺寸，CDSEM机台将得到的图案之关键尺寸反馈给CDSEM控制系统，以确定图案的关键尺寸是否符合大规模集成电路(Integrated Circuit, IC)设计要求,从而了解光刻或者刻蚀的准 确性。但是，目前⑶SEM系统造价昂贵，成本过高，而半导体公司所购置的有限数量CDSEM利用率较低，不能满足实际生产与研发需求。如何合理的安排CDSEM系统的跑货顺序，将关系到CDSEM机台的利用率及高等级批量跑货进度。故，如何合理有效地优化CDSEM机台跑本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种优化CDSEM跑货顺序的方法，其特征在于，所述方法包括：执行步骤S1：利用CDSEM测量处方浏览器软件导出已完成跑货的批量产品之制程时间Twafer；执行步骤S2：计算单点制程时间Tpoint；通过量测程式的设定，并结合所述CDSEM测量处方浏览器软件导出的已完成跑货的批量产品之制程时间Twafer，并依据公式计算所述单点制程时间Tpoint；执行步骤S3：将所述单点制程时间Tpoint导入自动派货系统，所述自动派货系统可导入所述CDSEM测量处方浏览器软件输出的数据并进行计算，同时所述自动派货系统可对相关信息进行记录，所述相关信息包括批量产品的优先等级顺序、测量点数量；执行步骤S4：计算...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：夏婷婷，朱骏，马兰涛，张旭升，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：