一种超分辨微分干涉相衬显微成像系统及显微成像方法技术方案

技术编号:8489103 阅读:212 留言:0更新日期:2013-03-28 07:38
本发明专利技术公开了一种超分辨微分干涉相衬显微成像系统,包括包含微分干涉相衬成像模块的显微镜,还包括光源、第Ⅰ透镜、第Ⅰ反射镜、空间光调制器、第Ⅲ透镜、挡光板、第Ⅳ透镜和CCD。同时,本发明专利技术还公开了基于该成像系统的显微成像方法。该成像系统及成像方法无需额外的样品制备过程,无光漂白效应和光毒性效应,且成像对比度高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显微成像
,特别涉及一种基于结构光照明的超分辨微分干涉相衬显微成像系统及成像方法。
技术介绍
基于结构光照明的超分辨显微成像系统能够提高显微成像的分辨率,现有技术中,主要包括两种成像系统。第一种是将结构光照明应用于荧光显微成像的成像系统,它具有较好的对比度,但是,其存在的主要问题如下1)要进行荧光成像,就需要对所观察的样品进行荧光标记,故需要额外的样品制备过程;2)在上述样品制备过程中,需要将染料或荧光团等物质增加到样品中,因而可能会引入一些副效应,如光漂白效应和光毒性效应。第二种是基于结构光照明的散射光成像系统,它无需对样品进行荧光标记,但是,它的成像对比度低,往往需要采用金纳米颗粒辅助成像,或者,需要具有一定对比度的样品来实现高对比度的成像,导致它的适用性较差,例如,在对没有任何处理的生物样品成像时,由于它的成像对比度低,所以无法适用。
技术实现思路
为了解决上述问题,本专利技术提出了一种无需额外的样品制备过程,无光漂白效应和光毒性等副效应,且成像对比度高的基于结构光照明的超分辨微分干涉相衬显微成像系统及成像方法。本专利技术提供的超分辨微分干涉相衬显微成像系统包本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超分辨微分干涉相衬显微成像系统,包括包含微分干涉相衬成像模块的显微镜,其特征在于,还包括光源、第Ⅰ透镜、第Ⅰ反射镜、空间光调制器、第Ⅲ透镜、挡光板、第Ⅳ透镜和CCD,所述空间光调制器的入射角度<10°,所述空间光调制器每个方向具有三个相位,所述挡光板用于阻挡0级光而允许+1级光和?1级光通过或者阻挡+1级光和?1级光而允许0级光通过,由所述光源发射的光依次经过第Ⅰ透镜、第Ⅰ反射镜、空间光调制器、第Ⅲ透镜、挡光板、第Ⅳ透镜后经过所述包含微分干涉相衬成像模块的显微镜后,图像由所述CCD接收。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:曾绍群陈建玲吕晓华
申请(专利权)人:华中科技大学
类型:发明
国别省市:

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