目标雷达散射截面测量与定标处理的方法技术

本发明专利技术提供一种目标雷达散射截面测量与定标处理的方法，包括：在t1时刻，测量获取安装定标体支架后的测试场背景回波SBC(f,t1)，SBC(f,t)=HC(f,t1).BC(f,t1)；在t2时刻，测量获取安装定标体后的定标体回波SC(f,t2)；在t2时刻，测量获取安装定标体后的定标体回波SC(f,t2)；在t3时刻，测量获取安装目标支架后的测试场背景回波SBT(f,t3)，SBT(f,t3)=HT(f,t3).BT(f,t3)；在t4时刻，测量获取安装目标后的目标回波ST(f,t4)；采用公式（1）进行定标处理。本发明专利技术可以解决外场测试中诸多时变因素导致的测量定标误差大的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及雷达信号处理技术，尤其涉及一种目标雷达散射截面(Radar CrossSection，简称RCS)测量与定标处理的方法。
技术介绍
RCS测量技术是研究目标雷达散射特性的重要手段之一。RCS可根据定标体的精确RCS值、不同距离条件下的定标常数和雷达 目标与定标体的回波信号来确定。目前，在测量雷达目标与定标体的回波信号时，通常需要采用金属支架支撑雷达目标与定标体。现有技术中，RCS测量的步骤为安放测定标体支架，测量此时的测试场背景回波Be(f);安装定标体，测量定标体回波Se(f);安放目标支架，测量此时的测试场背景回波Bt (f);安装目标，测量目标回波^⑴;并根据公式(8)计算目标RCSoT(f)权利要求1.一种，其特征在于，包括在时亥Ij，测量获取安装定标体支架后的测试场背景回波STC(f，ti)，Sbc (f, t1)=Hc(f, ti) · Bc(^t1)；在t2时刻，测量获取安装定标体后的定标体回波Sjf，t2)；在t3时亥lj，测量获取安装目标支架后的测试场背景回波Sbt (f，t3)，Sbt (f, t3) =Ht (f, t3) · Bt (f, t3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种目标雷达散射截面测量与定标处理的方法，其特征在于，包括：在t1时刻，测量获取安装定标体支架后的测试场背景回波SBC(f,t1)，SBC(f,t1)=HC(f,t1)·BC(f,t1)；在t2时刻，测量获取安装定标体后的定标体回波SC(f,t2)；在t3时刻，测量获取安装目标支架后的测试场背景回波SBT(f,t3)，SBT(f,t3)=HT(f,t3)·BT(f,t3)；在t4时刻，测量获取安装目标后的目标回波ST(f,t4)；采用公式（1）进行RCS定标处理：σT(f)=ST(f,t4)-SBT(f,t3)SC(f,t2)-SBC(f,t1)·σ...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：许小剑，
申请(专利权)人：北京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：