一种D形光纤胶体晶体微纳结构的制备方法技术

一种D形光纤胶体晶体微纳结构的制备方法，涉及光电子技术领域，先是在D形光纤的平面上制备微纳结构，然后再利用胶体微粒在微纳结构内制备胶体晶体，具体过程包括涂胶、曝光、刻蚀、去胶以及在静电场作用和提拉作用结合下将胶体微粒组装到微纳结构中。本发明专利技术最终在D形光纤平面上制备了胶体晶体微纳结构，使D形光纤的消逝场同时接受微纳结构和胶体晶体光子带隙的调制，实现了对D形光纤内光场更强和可操控的调制，从而可以使D形光纤广泛应用在光信息处理，光学传感及光学集成等领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光电子
，具体涉及一种D形光纤胶体晶体微纳结构的制备方法。
技术介绍
折射率周期性调制结构近年来越来越受到光通讯及传感领域的重视。它们能够形成与变化周期相关的布拉格禁带，在光波的传输过程中起到反射作用。在介电系数呈周期性排列的三维介电材料中，电磁波经介电函数散射后，某些波段的电磁波强度会因破坏性干涉而呈指数衰减，无法在系统内传递，相当于在频谱上形 成能隙，于是色散关系也具有带状结构，此即所谓的光子能带结构(photonic band structures)。具有光子能带结构的介电物质，就称为光能隙系统(photonic band-gap system,简称PBG系统)，或简称光子晶体(photonic crystals)。层状周期结构正是基于光子晶体的概念发展起来的,胶体晶体也正是基于光子晶体的研究得到了广泛的研究和发展。在光纤上制作周期性的微纳结构有多种用途，例如利用消逝场检测环境介质的折射率变化，从而监测其化学浓度和PH值等性质。为了使消逝场强度增大，将普通光纤的包层进行腐蚀，减小包层的厚度，或者对光纤进行研磨，将包层的其中一面磨平成为D形平面，这样光纤将有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种D形光纤胶体晶体微纳结构的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：（1）、用硅胶将D形光纤的圆形面固定在底板上，在D形光纤平面上涂上光刻胶，然后烘干；（2）、将涂有光刻胶的D形光纤和所需掩膜板装在光刻机上，对D形光纤平面进行曝光，然后将D形光纤在30?60℃下加热3?5分钟，之后用丙酮显影除去曝光部分的光刻胶；（3）、搅拌条件下，用HF酸缓冲溶液刻蚀D形光纤平面，实现D形光纤平面上微纳结构的制备，刻蚀温度30?50℃，时间3?10分钟；（4）、用KOH溶液洗去D形光纤平面剩余的光刻胶，然后用去离子水超声清洗D形光纤并晾干；（5）、配制胶体微粒悬浊液，体积浓度为2?5%，然后超声震荡使胶体微粒分...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：闫海涛，汤正新，甄志强，赵晓艳，曹京晓，张智，郝希平，李慧娟，李秋泽，
申请(专利权)人：河南科技大学，
类型：发明
国别省市：