氧化被膜的形成方法技术

本发明专利技术涉及一种氧化被膜的形成方法，其目的是在大面积的被处理物的表面有效地形成氧化被膜。通过将铝或铝合金构成的被处理物的一部分浸渍在电解液中进行微电弧氧化处理，形成氧化被膜后，在形成了上述氧化被膜的部位与其他部位的边界处不设置掩蔽材料，将形成了上述氧化被膜的部位和其他部位浸渍在上述电解液中进行微电弧氧化处理，由此，在上述其他部位形成氧化被膜。

【技术实现步骤摘要】
氧化被膜的形成方法
本专利技术涉及在由铝或铝合金构成的被处理物表面形成氧化被膜的方法。
技术介绍
本申请人以前提出了将大面积的被处理物表面加以分割，分数次进行微电弧氧化处理，由此，在被处理物的整个表面上形成氧化被膜(参照专利文献1)。该文献中公开的方法，利用掩蔽材料将被处理物的先处理的部位与后处理的部位分隔开，将先处理的部位浸渍在电解液中直到掩蔽材料的位置，形成氧化被膜，将被处理物从电解液中提起，除去掩蔽材料，将后处理的部位再度浸渍在电解液中进行氧化，通过将该工序反复进行，在1m2以上大小的被处理物的整个表面上形成氧化被膜。但是，在专利文献1公开的方法中，由于具有从电解液中提起被处理物，除去掩蔽材料的工序，因此存在效率差的问题。另外，由于掩蔽材料在被处理物表面不能均匀附着，存在电解液进入掩蔽材料的下面，先处理的部位与后处理的部位的边界变得不均匀的问题。另外，当掩蔽材料的去除不彻底时，存在杂质残留在边界附近的问题。进一步，存在被处理物的面积越大，产生这些问题的可能性越大的问题。因此，例如，专利文献2提出，一边运送从卷材引出的可挠性基材，一边不使液面晃动地进行定电流电解处理等。但是，在该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化被膜的形成方法，其特征在于，在通过将铝或铝合金构成的厚度1mm以上的被处理物的一部分浸渍在电解液中进行微电弧氧化处理形成氧化被膜后，在形成了上述氧化被膜的部位与其他部位的边界处不设置掩蔽材料，将形成了上述氧化被膜的部位和其他部位浸渍在上述电解液中进行微电弧氧化处理，由此，在上述其他部位形成氧化被膜。

【技术特征摘要】
2011.09.12 JP 2011-1982751.一种氧化被膜的形成方法，其特征在于，在通过将铝或铝合金构成的厚度1mm以上的被处理物的一部分浸渍在电解液中，将电流密度设为1～6A/dm2进行微电弧氧化处理形成氧化被膜，使电压为一定，进行定电压处理，在电流密度达到定电压处理开始时的电流密度的1/100～1/10后，在形成了上述氧化被膜的部位与其他部位的边界处不设置掩模材料，将形成了上述氧化被膜的...

【专利技术属性】
技术研发人员：石榑文昭，稻吉荣，石川裕一，佐藤洋志，
申请(专利权)人：日本爱发科泰克能株式会社，
类型：发明
国别省市：