钴铒双掺玻璃陶瓷自调Q激光材料及其制备制造技术

本发明专利技术公开钴铒双掺玻璃陶瓷自调Q激光材料及其制备，涉及光功能材料领域。该玻璃陶瓷的摩尔百分比组分为：SiO2：31.5-41.5%，Al2O3：20-28%，ZnO：5-15%，YF3：6-18%，NaF：0-18%，LiF：0-18%，Ga2O3：5-10%，CoO：0-0.5%，ErF3：0-5%。采用熔体急冷法制备。该材料在1.1-1.7微米波段具有强的吸收并在1.54微米波段具有强的发射，可用作1.54微米自调Q激光材料。

【技术实现步骤摘要】
钴铒双掺玻璃陶瓷自调Q激光材料及其制备
本专利技术涉及光功能材料领域，尤其是涉及一种可作为1.54微米波段自调Q激光材料的钴铒共掺玻璃陶瓷及其制备工艺。
技术介绍
自调Q激光材料兼具受激辐射与可饱和吸收二重性，做成的激光器具有结构紧凑、重复频率高、全固化、设计简单和成本低等优点。目前，通过将增益离子钕[S.zhou,K.K.Lee,Y.C.Chen,andS.Li,Opt.Lett.18(1993)511]或镱[J.Dong,P.Deng,Y.Liu,Y.Zhang,G.Huang,andF.Gan,Chin.Phys.Lett.19(2002)342]与饱和吸收离子铬共掺入基质材料中，已实现了在1-1.1微米波段的自调Q激光输出。但是针对人眼安全的1.54微米波段激光的自调Q材料却鲜见报道。1.54微米被动调Q激光因其在军事雷达、测距、污染监控和非线性光学处理等方面具有重要应用前景而被广泛研究。掺钴尖晶石晶体在0.9-1.8微米波长范围内有宽的吸收带且具有可饱和吸收特性而被用作掺铒玻璃（1.54微米）激光材料的饱和吸收体。近年来的研究发现掺钴含尖晶石纳米晶硅基玻璃陶瓷具有与掺钴尖晶本文档来自技高网...

【技术保护点】
钴铒双掺玻璃陶瓷自调Q激光材料，其特征在于：其化学组分摩尔百分比为：SiO2:31.5?41.5%，Al2O3:20?28%,?ZnO:5?15%,?YF3:6?18%,?NaF:0?18%,?LiF:0?18%,?Ga2O3:5?10%,?CoO:0?0.5%,?ErF3:0?5%。

【技术特征摘要】
1.钴铒双掺玻璃陶瓷自调Q激光材料，其特征在于：其化学组分摩尔百分比为：SiO2：31.5-41.5％，Al2O3：20-28％，ZnO：5-15％，YF3：6-18％，NaF：0-18％，LiF：0-18％，Ga2O3：5-10％，CoO：0-0.5％，ErF3：0-5％。2.权利要求1所述的激光材料的制备方法，采用...

【专利技术属性】
技术研发人员：余运龙，陈大钦，张瑞，王元生，
申请(专利权)人：中国科学院福建物质结构研究所，
类型：发明
国别省市：