一种粒子场瞬态多幅全息照相装置制造方法及图纸

技术编号:8472640 阅读:182 留言:0更新日期:2013-03-24 16:55
本实用新型专利技术涉及全息照相领域,尤其是涉及一种粒子场瞬态多幅全息照相装置。本实用新型专利技术针对现有技术中粒子场瞬态全息照相无法进行多幅连续照相,提出一种基于光致聚合物的粒子场瞬态多幅全息照相装置。本装置包括相干光产生装置、物光调节装置、参考光调节装置、同步控制装置、全息干板等,同步控制装置检测粒子场并发送信号给相干光产生装置和光束偏转装置,然后相干光产生装置根据信号,产生两路相干光,一路相干光经过物光调节装置后形成带有粒子场信息物光,另一路相干光经过参考光调节装置形成参考光,物光与参考光在全息干板形成干涉条纹,由光致聚合物全息干板进行记录。本实用新型专利技术应用于全息照相领域。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

一种粒子场瞬态多幅全息照相装置
本技术涉及全息照相领域,尤其是涉及一种粒子场瞬态多幅全息照相装置及方法。
技术介绍
全息术早已用于粒子场及流体场的单幅拍摄,而且已经为这些领域做出了巨大贡献。其非接触、大视场、大景深及三维再现等特点使其在粒子场诊断领域具有独特的优势。 采用全息术对粒子场进行检测通常包括记录、显影与再现三个环节。记录主要是指脉冲激光同一脉冲分出的两光束在记录介质(全息干板)表面形成的干涉场引起全息干板的光化学反应(曝光),曝光后的全息干板记录了干涉场的强度分布,这两束光中一束带有粒子场的信息(物光),另一束不带粒子场信息(参考光)。显影主要是针对于卤化银乳胶、重铬酸盐明胶、光致抗蚀剂这三类材料,显影过程使未发生光化学反应的部分被清洗掉,使发生了光化学反应的部分保留下来。再现是指采用上述两束光中的参考光以记录时的角度照射显影后的全息干板,从而使物光以衍射光的形式被再现出来。利用该方法可以重现某一时刻粒子场的三维分布。如果需要记录粒子场随时间的演化过程就需要完成多幅全息图的瞬态记录。一种办法是并列放置多张全息干板,在每一个干板对应的参考光与物光光路中放置超高速快门使本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种粒子场瞬态多幅全息照相装置,其特征在于包括相干光产生装置、物光调节装置、参考光调节装置、同步控制装置、全息干板,所述同步控制装置分别与相干光产生装置一端、参考光调节装置第一端口电连接,所述相干光产生装置另一端与物光调节装置一端、参考光调节装置另一端光连接,参考光调节装置第三端口、物光调节装置另一端在全息干板上形成干涉。

【技术特征摘要】
1.ー种粒子场瞬态多幅全息照相装置,其特征在于包括相干光产生装置、物光调节装置、參考光调节装置、同步控制装置、全息干板, 所述同步控制装置分别与相干光产生装置一端、參考光调节装置第一端ロ电连接,所述相干光产生装置另一端与物光调节装置一端、參考光调节装置另一端光连接,參考光调节装置第三端ロ、物光调节装置另一端在全息干板上形成干渉。2.根据权利要求I所述的ー种粒子场瞬态多幅全息照相装置,其特征在于所述相干光产生装置包括激光器、光束分束装置,所述激光器一端与同步控制装置电连接,激光器另一端与光束分束装置一端光连接,光束分束装置另一端分别与物光调节装置一端、參考光调节装置第二端ロ光连接。3.根据权利要求2所述的ー种粒子场瞬态多幅全息照相装置,其特征在于所述物光调节装置包括第一扩束准直装置、第二反射镜,所述第一扩束准直装置一端与光束分束装置光连接,第一扩束准直装置另一端输出光信号经过第二反射镜在全息干板上形成物光。4.根据权利要求3所述的ー种粒子场瞬态多幅全息照相装置,其特征在于所述物光调节装置还包括第二传像装置,所述第二传像装置放置于观测区域与全息干板之间,第二传像装置包括第三透镜、第四透镜两个透镜,所述第三透镜、第四透镜的焦距相等,所述第二传像装置与全息干板的距离比所述第二传像装置的后焦距长5mm 30mm或短5mm 30mm。5.根据权利要求4所述的ー种粒子场瞬态多幅全息照相装置,其特征在于所述參考光调节装置包括第一反射镜、声光偏转器、第二扩束准直装置、第一传像装置,所述光束分束装置通过第一反射镜与声光偏转器第二端光连接,所述声光偏转器第一端与同步控制装置电连接,所述声光偏转器第三端通过第二扩束准直装置、第一传像装置在全息干板形成參考光,其中第一传像装置包括第一透镜、第二透镜两个透镜,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:李泽仁赵宇李作友罗振雄刘振清蒙建华李军叶雁朱鹏飞魏明宾
申请(专利权)人:中国工程物理研究院流体物理研究所
类型:实用新型
国别省市:

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