【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及紫外光/臭氧表面处理技术，更具体的说，涉及一种集紫外光/臭氧表面处理与电学性质原位测试的真空设备。
技术介绍
紫外光/臭氧表面处理技术能够有效清除大多数金属、半导体和绝缘材料的有机污染物，在材料生长、表面改性和器件制备等基础科研和产业应用领域发挥着重要的作用。 这项技术起源于二十世纪七十年代，它最初为紫外光照射空气或氧气，并逐步发展为真空紫外清洗技术以进一步降低空气中水汽、二氧化氮等气体对光化学反应的影响；在规模上也从最初的小功率基片清洗设备向大功率自动传输清洗设备发展。这种紫外光照清洗设备主要是基于低压汞灯能发射出主要波长位于184. 9nm和253. 7nm的紫外光，氧气在这两种紫外光的照射下生成氧原子和臭氧，并与处于激发态的有机分子发生光化学反应，生成水和二氧化碳等物质，达到表面清洗的目的。紫外光/臭氧表面处理技术不仅对基底具有清洗效应，氧原子的强氧化性还能够将一些金属材料(譬如银、铝等)氧化或者刻蚀碳族材料(如石墨烯、碳纳米管等)表面，实现材料改性。在这种光化学处理过程中，尽可能减少环境中非氧气分子的影响对获得高质量的样品至关重要。对于真空...
【技术保护点】
一种集紫外光/臭氧表面处理与电学性质原位测试的真空设备，其特征在于，主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空设备控制系统以及电子元件测试系统组成，其中，所述紫外光源系统包括控制电源和紫外灯管，所述真空腔室包括外腔室和内腔室，所述外腔室内安装所述紫外灯管，所述内腔室内设置样品台以及加热和水冷装置，并具有气体输入、输出端口，所述紫外灯管发射的光通过内腔室的石英窗口，照射到样品台上，所述内腔室具有一定压强的氧气，其经过紫外光照射后生成臭氧和氧原子，对样品台上的样品表面进行清洗和改性；所述真空泵系统和真空设备控制系统用于产生并控制真空腔室内的真空度，所述电子元件测试系统能够对...
【技术特征摘要】
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