【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及到液晶显示领域，特别涉及到TFT阵列基板中的断线修补方法、断线修补装置及断线修补结构。
技术介绍
TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)是AM-IXD (Active Matrix IXD，有源矩阵类型液晶显示器)中的一种。它具有低功耗、轻薄易用、高亮度、高对比度、高响应速度、无辐射、等特点，目前已成为平板显示产业的主流技术之一。如图Ia和图Ib所示，目前在TFT-IXD制作过程中，阵列基板的信号线经常会发生断线缺陷，需要进行修补动作，修补时，用激光清除断线处两端的覆盖物，然后由镀线装置形成连接断线两端的修补线，从而使信号线导通，如图Ia所示。然而，由于此时阵列基板上已经形成其他的结构，使阵列基板的表面凹凸不平，修补线形成在凹凸不平的表面上，当修补线下方的高度差较大时，修补线可能会发生断裂，如图Ib所示，从而造成断线修补失败，进而影响液晶面板的良率，甚至造成液晶面板的报废。
技术实现思路
本专利技术的主要目的为提供一种提高断线修补成功率的断线修补方法、断线修补装置...
【技术保护点】
一种断线修补方法，用于修补阵列基板中存在断路缺陷的信号线，其特征在于，包括步骤：根据断路缺陷的位置设定修补路径，并根据所述修补路径确定需要形成填充部的位置；在所述需要形成填充部的位置形成填充部；沿所述修补路径形成修补线。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：郑文达，吴础任，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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