断线修补方法和断线修补结构技术

技术编号:8452290 阅读:246 留言:0更新日期:2013-03-21 08:45
本发明专利技术公开了一种断线修补方法和断线修补结构,其中,断线修补方法包括步骤:形成连接扫描线的断线两端的第一修补线;形成覆盖所述第一修补线的绝缘层;形成连接数据线的断线两端的第二修补线,所述第二修补线与第一修补线的交叉处具有所述绝缘层。本发明专利技术通过在修补的第一修补线和第二修补线之间隔离绝缘层,有效避免了扫描线和数据线断线交叉处发生短路,实现了同时修补两个金属层交叉处断线,提高了断线修补良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及到液晶显示领域,特别涉及到一种液晶面板的断线修补方法和断线修补结构
技术介绍
TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)因其体积薄、重量轻、画面质量优异、功耗低、寿命长、数字化和无辐射等优点在各种大、中、小的产品上得到广泛应用,几乎涵盖了当今信息社会的主要电子产品,例如,电视、 电脑、手机、GPS (全球定位系统)、车载显示、公共显示等。TFT-IXD是半导体技术和液晶显示技术相结合的产物,TFT阵列的制作是整个 TFT-LCD制造中技术难度最大的部分。TFT阵列制程包括形成扫描线、绝缘层、半导体层、数据线、透明电极层等,在TFT阵列制程中,如图Ia至图Ic所示,在形成数据线12后,如果有杂质13残留在扫描线11与数据线12的交叉处时(如图Ia所示),需要对杂质13进行移除, 通常采用的方法是对杂质13进行激光照射以去除杂质13。但是在激光照射去除杂质13的同时,激光会打断其照射到的其他地方,如扫描线11、数据线12等,杂质13位于扫描线11 与数据线12的交叉处,因此在去除杂质1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种断线修补方法,其特征在于,包括步骤:形成连接扫描线的断线两端的第一修补线;形成覆盖所述第一修补线的绝缘层;形成连接数据线的断线两端的第二修补线,所述第二修补线与第一修补线的交叉处具有所述绝缘层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郑文达
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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