基于双哈特曼传感器的全光路像差校正系统及校正方法技术方案

一种基于双哈特曼传感器的全光路像差校正系统及校正方法，该校正系统包括高能激光器、波前校正器、分光镜、光束质量评价系统、内光路哈特曼传感器、第一哈特曼传感器、第二哈特曼传感器、数据融合组件和高压放大器；该校正方法基于上述校正系统，它利用两台哈特曼传感器同时测量分光镜的反射和透射像差，并采用不依赖于响应矩阵的数据融合方法将分光镜像差传递给内光路哈特曼传感器，从而控制波前校正器实现全光路像差校正。本发明专利技术具有原理简单、实现简便等优点，能够解决现有技术受器件构造工艺制约的问题，可提高多传感器之间的数据融合效率，可有效提升高能激光系统出口光束质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术主要涉及到全光路像差校正系统及数据融合领域，特指一种。
技术介绍
在高能激光系统中，分光镜是用来连接强光光路和弱光测量系统的重要光学器件，系统依据分光镜透射出来的弱光来感知强光光路中高功率激光的波前像差，并采用自适应光学技术实施校正使系统出口光束质量达到最佳。在采用常规自适应光学技术的高能激光系统中，分光镜像差，包括自身静态像差和在高功率激光辐照下产生的动态像差，处于系统波前传感器的探测“盲区”，是影响系统出口光束质量的重要因素之一。目前，扫除分光镜像差探测盲区，实现全光路像差校正的途径之一是采用共光路/ 共模块(CP/CM)自适应光学技术。1999年，Kenneth ff. Billman首次发表CP/CM技术原理文章 0后续资料表明，CP/CM技术减小了分光镜像差影响，对提高机载激光武器(ABL)系统的集成性和可靠性都发挥了重要作用。但由于保密原因，公开文献资料比较少。中科院光电技术研究所和国防科学技术大学联合开展了 CP/CM 技术研究，在国内首次实现了基于CP/CM技术的自适应光学全系统像差校正。CP/CM技术在原理上较为成熟，但是实际工作效能受器件质量影响较大，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于双哈特曼传感器的全光路像差校正系统，其特征在于：它包括高能激光器(1)、波前校正器、分光镜(4)、光束质量评价系统(5)、内光路哈特曼传感器(6)、第一哈特曼传感器(7)、第二哈特曼传感器(8)、数据融合组件和高压放大器(11)；所述波前校正器包括倾斜镜(2)和变形镜(3)，所述高能激光器(1)发出的高功率激光依次先后入射至倾斜镜(2)和变形镜(3)，再以一定角度入射至分光镜(4)的前表面，其中一部分能量被分光镜(4)反射至光束质量评价系统(5)中，另一部分能量透射光被内光路哈特曼传感器(6)接收并用于探测高能激光器(1)的内部像差；所述第一哈特曼传感器(7)和第二哈特曼传感器(8)置...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：宁禹，舒柏宏，杜少军，侯静，许晓军，刘泽金，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科学技术大学，
类型：发明
国别省市：