【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种遮蔽装置及具有该遮蔽装置的观察窗。
技术介绍
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,简称PVD),是一种利用物理方式在基材上沉积薄膜的技术。物理气相沉积技术包括蒸发镀、溅射镀和离子镀等。无论那种镀膜方式，在基材沉积成膜的过程中，靶材原子或离子弥散于整个反应室内，因此凡是没有阻隔的地方，都会有靶材原子或离子沉积成膜，例如设备的转架、治具、反应室内壁等等部位。当上述部件上沉积的薄膜达到一定厚度时，会造成设备抽气速度下降，延长生产周期。因此需要对设备进行保养，采用喷砂去除上述部件表面膜层。同样，沉积过程中，靶材原子或离子也会在观察窗玻璃上沉积。尽管现有PVD镀膜设备本身对观察窗玻璃也有一定的保护措施，例如在观察窗玻璃前方设置一个旋转的挡片，通过打开或关闭挡片保护玻璃；或者通过可以旋转重迭的旋片来保护观察窗玻璃。但上述保护措施中挡片或旋片距离观察窗玻璃还有一定距离，由于离子的绕射性，最终还是有离子沉积到观察窗玻璃上成膜。当观察窗玻璃上离子沉积成膜以后，有以下几点不利影响(I)玻璃上沉积薄膜以后，难以观察到反应室内的状况，如靶...
【技术保护点】
一种遮蔽装置，用于保护观察窗的观察窗玻璃免受离子沉积，其特征在于，该遮蔽装置包括环形卡具、胶圈及普通玻璃：所述环形卡具外围环设有一第一凹槽，所述胶圈套设在该第一凹槽中；所述环形卡具内侧为一中空结构；及所述环形卡具内壁环设有一第二凹槽，所述普通玻璃卡设于该第二凹槽中。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄登聪，彭立全，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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