一种遮蔽装置，该遮蔽装置包括环形卡具、胶圈及普通玻璃，所述环形卡具外围环设有一第一凹槽，所述胶圈套设在该第一凹槽中；所述环形卡具内侧为一中空结构；及所述环形卡具内壁环设有一第二凹槽，所述普通玻璃卡设于该第二凹槽中。本发明专利技术还包括一种具有遮蔽装置的观察窗，该观察窗包括观察窗玻璃、反应室腔体及连接该观察窗玻璃和腔室的观察窗内壁，所述观察窗还包括一遮蔽装置，该遮蔽装置收容于观察窗内壁之间，并卡设于该观察窗玻璃和反应室腔体之间。利用本发明专利技术可保护PVD设备的观察窗玻璃免受沉积。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种遮蔽装置及具有该遮蔽装置的观察窗。
技术介绍
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,简称PVD),是一种利用物理方式在基材上沉积薄膜的技术。物理气相沉积技术包括蒸发镀、溅射镀和离子镀等。无论那种镀膜方式，在基材沉积成膜的过程中，靶材原子或离子弥散于整个反应室内，因此凡是没有阻隔的地方，都会有靶材原子或离子沉积成膜，例如设备的转架、治具、反应室内壁等等部位。当上述部件上沉积的薄膜达到一定厚度时，会造成设备抽气速度下降，延长生产周期。因此需要对设备进行保养，采用喷砂去除上述部件表面膜层。同样，沉积过程中，靶材原子或离子也会在观察窗玻璃上沉积。尽管现有PVD镀膜设备本身对观察窗玻璃也有一定的保护措施，例如在观察窗玻璃前方设置一个旋转的挡片，通过打开或关闭挡片保护玻璃；或者通过可以旋转重迭的旋片来保护观察窗玻璃。但上述保护措施中挡片或旋片距离观察窗玻璃还有一定距离，由于离子的绕射性，最终还是有离子沉积到观察窗玻璃上成膜。当观察窗玻璃上离子沉积成膜以后，有以下几点不利影响(I)玻璃上沉积薄膜以后，难以观察到反应室内的状况，如靶材上辉光或弧光的运行状况、基材上的镀膜情况等；(2)当观察窗玻璃上沉积薄膜到一定厚度以后，再也难以观察到反应室内情况，就需要更换观察窗玻璃。当进行大规模的量产时，操作员忘记将观察窗前方的挡片旋紧的失误时有发生，造成高频率地更换观察窗玻璃，从而造成停工的损失和制程的不稳定；(3)观察窗玻璃更换下来以后，常用的方法是将其用砂纸打磨，将表面薄膜去除，但由于砂纸的砂粒较大，会在观察窗玻璃上带来很多较深的划痕，影响观察窗玻璃的观察效果和美观。
技术实现思路
鉴于以上内容，有必要提供一种遮蔽装置及一种具有遮蔽装置的观察窗，其可保护PVD设备的观察窗玻璃免受沉积。一种遮蔽装置，用于保护观察窗的观察窗玻璃免受离子沉积，其中，该遮蔽装置包括环形卡具、胶圈及普通玻璃所述环形卡具外围环设有一第一凹槽，所述胶圈套设在该第一凹槽中；所述环形卡具内侧为一中空结构；及所述环形卡具内壁环设有一第二凹槽，所述普通玻璃卡设于该第二凹槽中。一种具有遮蔽装置的观察窗，包括观察窗玻璃、反应室腔体及连接该观察窗玻璃和腔室的观察窗内壁，其中所述观察窗还包括一遮蔽装置，该遮蔽装置包括环形卡具、胶圈及普通玻璃所述环形卡具外围环设有一第一凹槽，所述胶圈套设在该第一凹槽中；所述环形卡具内侧为一中空结构；及所述环形卡具内壁环设有一第二凹槽，所述普通玻璃卡设于该第二凹槽中。该遮蔽装置收容于观察窗内壁之间，并卡设于该观察窗玻璃和反应室腔体之间。上述遮蔽装置及具有该遮蔽装置的观察窗，可保护PVD设备的观察窗玻璃免受沉积，并可对更换下来的普通玻璃，达到完全去除表面薄膜，但又不损伤玻璃的目的。附图说明图I是本专利技术具有遮蔽装置的PVD设备观察窗的较佳实施方式的示意图。图2是图I中具有遮蔽装置的观察窗沿A-A方向的剖面图。图3是图I中环形卡具沿B-B方向的剖面图。主要元件符号说明权利要求1.一种遮蔽装置，用于保护观察窗的观察窗玻璃免受离子沉积，其特征在于，该遮蔽装置包括环形卡具、胶圈及普通玻璃所述环形卡具外围环设有一第一凹槽，所述胶圈套设在该第一凹槽中；所述环形卡具内侧为一中空结构；及所述环形卡具内壁环设有一第二凹槽，所述普通玻璃卡设于该第二凹槽中。2.如权利要求I所述的遮蔽装置，其特征在于所述环形卡具的直径为普通玻璃的2倍至5倍。3.如权利要求I所述的遮蔽装置，其特征在于所述胶圈呈O型，该胶圈的大小为使环形卡具能方便的从观察窗中抽出和安装进观察窗。4.如权利要求I所述的遮蔽装置，其特征在于所述普通玻璃呈圆片状，其厚度为O.2厘米至O. 6厘米。5.一种具有遮蔽装置的观察窗，包括观察窗玻璃、反应室腔体及连接该观察窗玻璃和腔室的观察窗内壁，其特征在于所述观察窗还包括一遮蔽装置，所述遮蔽装置为权利要求1-4项中任意一项所述的遮蔽装置，该遮蔽装置收容于观察窗内壁之间，并位于该观察窗玻璃和反应室腔体之间。6.如权利要求5所述具有遮蔽装置的观察窗，其特征在于所述遮蔽装置应紧贴观察窗玻璃。7.如权利要求5所述具有遮蔽装置的观察窗，其特征在于所述遮蔽装置的高度比观察窗的内径小3毫米到5毫米。8.如权利要求5所述具有遮蔽装置的观察窗，其特征在于所述观察窗玻璃收容于观察窗内壁之间。9.如权利要求5所述具有遮蔽装置的观察窗，其特征在于所述观察窗玻璃呈圆片状，其厚度为O. 5厘米至I厘米。10.如权利要求5所述具有遮蔽装置的观察窗，其特征在于所述普通玻璃上会有离子所沉积成的薄膜，该薄膜采用以下步骤进行去除将该普通玻璃分别用清水、酒精清洗后，吹干；将该普通玻璃侵入药剂中，超声波清洗5至10分钟，该药剂的组分为浓度O. 2%至O. 5%的HF酸，浓度5%至15%的硫酸，浓度12%至20%的硝酸；取出清洗后的普通玻璃，用清水和酒精清洗，并吹干表面。全文摘要一种遮蔽装置，该遮蔽装置包括环形卡具、胶圈及普通玻璃，所述环形卡具外围环设有一第一凹槽，所述胶圈套设在该第一凹槽中；所述环形卡具内侧为一中空结构；及所述环形卡具内壁环设有一第二凹槽，所述普通玻璃卡设于该第二凹槽中。本专利技术还包括一种具有遮蔽装置的观察窗，该观察窗包括观察窗玻璃、反应室腔体及连接该观察窗玻璃和腔室的观察窗内壁，所述观察窗还包括一遮蔽装置，该遮蔽装置收容于观察窗内壁之间，并卡设于该观察窗玻璃和反应室腔体之间。利用本专利技术可保护PVD设备的观察窗玻璃免受沉积。文档编号C23C14/52GK102953040SQ201110237550公开日2013年3月6日 申请日期2011年8月18日 优先权日2011年8月18日专利技术者黄登聪, 彭立全 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种遮蔽装置，用于保护观察窗的观察窗玻璃免受离子沉积，其特征在于，该遮蔽装置包括环形卡具、胶圈及普通玻璃：所述环形卡具外围环设有一第一凹槽，所述胶圈套设在该第一凹槽中；所述环形卡具内侧为一中空结构；及所述环形卡具内壁环设有一第二凹槽，所述普通玻璃卡设于该第二凹槽中。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄登聪，彭立全，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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