一种吲哚方酸菁染料及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种吲哚方酸菁染料，所述吲哚方酸菁染料的结构通式为：其中，X为Br、Cl和I的任一种；R为以下结构的任一种：、、、、。本发明专利技术提供的吲哚方酸菁染料稳定性好，吸收强度大，可应用于五分类血球仪的配套试剂中，作为有核红细胞的染料，也可以应用于荧光标记等其它生命科学研究领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及化工领域中一种染料及其合成过程，尤其涉及。
技术介绍
方酸菁染料具有优异的存储性能，独特的光学性能及尚待开发的近红外吸收性能，是一类具有优异光学性能的吸收染料。由于方酸菁染料在近红外光区的吸收峰峰宽窄，吸收强度大，可以用来制备激光防护涂层，对抗激光侦察技术。自1959年Cohen S.在美国化学会志J. A. C. S报道合成出新化合物方酸以来，以它为原料与其他化合物的活性集团缩合得到了大量方酸菁染料，该类染料的研究发展十分迅速。目前大量关于方酸菁染料研究的文献多集中在方酸问世后的几年和近几年。虽然早在1968年，Teribs和Jakob就合成了非对称型方酸菁染料,但由于合成困难,关于这类染料的研究一直较少。近年来，基于方酸菁染料结构变化和功能改进的需要，方酸菁的研究日渐活跃。北京防化研究院杨小兵等制得了含喹喔啉环的方酸菁染料；杨成等研究了多臂方酸菁的合成方法；北京感光化学研究所林童探索了高溶解性方酸菁染料的合成，并研究了其光谱特性；上海交通大学陈建国合成了含叔丁基的吡喃鎗方酸菁染料；大连理工大学精细化国家重点实验室宋波研究了新型水溶性荧光标示剂吲哚方酸菁染料的合成及本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吲哚方酸菁染料，其特征在于：所述吲哚方酸菁染料的结构通式为：????????????????????????????????????????????????其中，X为Br、Cl和I的任一种；R为以下结构的任一种：、、、、。759694dest_path_image001.jpg,985883dest_path_image002.jpg,567037dest_path_image003.jpg,89154dest_path_image004.jpg,818075dest_path_image005.jpg,834573dest_path_image006.jpg

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：赵宏，刘栋，张娟凤，
申请(专利权)人：深圳市美凯特科技有限公司，
类型：发明
国别省市：