用于制备中位取代的花菁染料、份菁染料和氧杂菁染料的中间体化合物制造技术

技术编号:5467008 阅读:203 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了能够制备N-中位取代的花菁染料、份菁染料或氧杂菁染料的新型中间体化合物,其中所述N-中位取代基包含吸电子基团并且其中在中间体水平上引入这样的N-中位取代基。这些中间体能够形成具有包含吸电子基团的中位N-取代基的染料,而不需要在染料水平上对所述中位取代基作进一步的衍生。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及式I的新型中间体化合物。本专利技术还涉及由新型中间体化合物制备花 菁染料、份菁染料或氧杂菁染料(oxonole dye)的方法。
技术介绍
花菁染料、份菁染料或氧杂菁染料为本领域所熟知。例如它们被广泛用于各种 成像系统、记录介质(例如光盘)或诊测工具中。关于这些染料的应用的更多信息,参 见例如“(色化学有机染料和色素的合成、性质和应用)COLOR CHEMISTRY synthesis, properties andapplications of organic dyes and pigments", Heinrich Zollinger, VHCA &Wiley-VCH,第三版修订版 2003。例如,花菁染料还用作平版印刷版前体中的红外(IR)辐射吸收染料(红外染料)。 这些红外染料吸收红外辐射,用于使平版印刷版前体以成像方式曝光,从而触发平版印刷 版前体的成像机制,例如聚合、热塑性颗粒的聚结、增溶或降低溶解度等。制备例如下式的具有氯原子作为中位取代基(meso-substituent)的花菁染料为本领域所熟知,式中R表示取代基和Γ使所述染料呈中性。权利要求式I的化合物,式I式I中Rb和Rc独立表示氢原子、任选取代的烷基或表示形成任选取代的环结构的必要原子;LG和LG’独立表示离去基团前体;A选自 NR1 CO R2 NR1 SO2 R3 NR4 SO R5 NR1 PO R6R7其中,R1表示氢原子、任选取代的烷基、 SO3 基团、 COOR8基团或任选取代的(杂)芳基,或者R1连同R9、R10和R11中的至少一个包含形成环结构的必要原子;R2表示任选取代的烷基或(杂)芳基、 OR9、 NR10R11或CF3;R3表示任选取代的烷基、任选取代的(杂)芳基、 OR9、 NR10R11或 CF3;R4表示氢原子、任选取代的烷基或任选取代的(杂)芳基;R5表示任选取代的烷基或任选取代的(杂)芳基;R6和R7独立表示任选取代的烷基、任选取代的芳基或 OR9;R8表示任选取代的芳基或任选烷基;R9表示任选取代的(杂)芳基或任选烷基;R10和R11独立表示氢原子、任选取代的烷基、任选取代的(杂)芳基或表示形成环结构的必要原子。FPA00001165720400011.tif2.权利要求1的化合物,其中A选自其中R1具有如权利要求1中的相同的含义,R9表示任选取代的支链烷基,并且R3表示_CF3、 任选取代的芳基或-NRl11,其中R"1和R11具有如式I中的相同的含义。3.权利要求1或2的化合物,其中所述离去基团前体LG选自4.前述权利要求中任一项的化合物,所述化合物具有式II、Ilia、Illb和IV的结构,5.前述权利要求中任一项的化合物,所述化合物具有式Ilia或Illb的结构,6.前述权利要求中任一项的化合物,所述化合物具有式V的结构,式V 其中A具有如式I中的相同的含义; X_使所述化合物呈中性。7.前述权利要求中任一项的化合物,所述化合物具有式XI的结构,8. 一种用于制备式XII的花菁染料的方法,9.权利要求8的方法,其中所述吲哚鐺或唑鐺化合物具有式XVIIIa和式XVIIIIb的结数。10.权利要求8的方法,其中所述吲哚鐺或唑鐺化合物具有式XlXa和式XlXb的结构,其中11.权利要求8的方法,其中式XIII和式XIV的吲哚鐺或唑鐺化合物是相同的。12.—种平版印刷版前体,所述平版印刷版前体包含用权利要求8-11所限定的方法制式全文摘要本专利技术提供了能够制备N-中位取代的花菁染料、份菁染料或氧杂菁染料的新型中间体化合物,其中所述N-中位取代基包含吸电子基团并且其中在中间体水平上引入这样的N-中位取代基。这些中间体能够形成具有包含吸电子基团的中位N-取代基的染料,而不需要在染料水平上对所述中位取代基作进一步的衍生。文档编号C07D413/08GK101952247SQ200880122688 公开日2011年1月19日 申请日期2008年12月18日 优先权日2007年12月20日专利技术者J·劳韦特, P·卡兰特 申请人:爱克发印艺公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
式Ⅰ的化合物,  *** 式Ⅰ  式Ⅰ中:  R↑[b]和R↑[c]独立表示氢原子、任选取代的烷基或表示形成任选取代的环结构的必要原子;  LG和LG’独立表示离去基团前体;  A选自:  -NR↑[1]-CO-R↑[2]-  NR↑[1]-SO↓[2]-R↑[3]  -NR↑[4]-SO-R↑[5]  -NR↑[1]-PO-R↑[6]R↑[7]  其中,R↑[1]表示氢原子、任选取代的烷基、-SO↓[3]↑[-]基团、-COOR↑[8]基团或任选取代的(杂)芳基,或者R↑[1]连同R↑[9]、R↑[10]和R↑[11]中的至少一个包含形成环结构的必要原子;  R↑[2]表示任选取代的烷基或(杂)芳基、-OR↑[9]、-NR↑[10]R↑[11]或CF↓[3];  R↑[3]表示任选取代的烷基、任选取代的(杂)芳基、-OR↑[9]、-NR↑[10]R↑[11]或-CF↓[3];  R↑[4]表示氢原子、任选取代的烷基或任选取代的(杂)芳基;  R↑[5]表示任选取代的烷基或任选取代的(杂)芳基;  R↑[6]和R↑[7]独立表示任选取代的烷基、任选取代的芳基或-OR↑[9];  R↑[8]表示任选取代的芳基或任选烷基;  R↑[9]表示任选取代的(杂)芳基或任选烷基;  R↑[10]和R↑[11]独立表示氢原子、任选取代的烷基、任选取代的(杂)芳基或表示形成环结构的必要原子。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:P卡兰特J劳韦特
申请(专利权)人:爱克发印艺公司
类型:发明
国别省市:BE[比利时]

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