用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统及其方法技术方案

本发明专利技术公开了一种用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统及利用其制备电控衍射光学器件的方法，该系统包括用于发射单束激光束的激光器、用于固定刻蚀样品的可控载物台、激光倍频系统和光束整形系统，优点是通过激光倍频系统将激光器发射的单束激光束转换为紫外激光束，利用光束整形系统使从激光倍频系统输出的紫外激光束通过光束整形系统后形成为一聚焦光斑，使用时将刻蚀样品即聚合物分散液晶光开关放置于光束整形系统输出的聚焦光斑的焦平面上，这样光束整形系统输出的聚焦光斑照射于刻蚀样品上就完成了微米级的图案的刻蚀，不仅结构简单，而且操作方便；该方法能够在聚合物分散液晶光开关上刻蚀出各类一维、二维微结构及衍射光学器件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种激光直写技术及衍射光学器件制备技术，尤其是涉及一种用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统及利用其制备电控衍射光学器件的方法。
技术介绍
衍射光学器件是ー种在基片或传统光学元件表面上刻蚀产生两个或多个台阶深度的浮雕结构，形成同相位、同轴再现、具有极高衍射效率的ー类光 学元件。利用衍射光学元件制作的各类光学器件在光传感、光通信、光计算、光存储、光互连、激光医学等诸多领域中有着广泛的应用前景。同时，随着信息技术、集成光学、光学传感的快速发展，传统的衍射光学器件已满足不了实际的生产需求，而聚合物分散液晶(PDLC)在显示领域有着优异特性，因此人们逐步尝试将其用于各类衍射光学器件的设计和制作中。例如上海理工大学的庄松林等人已基于全息干涉的方法制作了一种高衍射效率的H-PDLC (全息聚合物分散液晶)体全息光栅，其还基于衍射效率理论设计并制作了一种电控聚合物分散液晶全息透镜。然而目前，直接基于TOLC的微结构加工技术鲜有报道，大多是基于H-PDLC材料的全息光刻技术来制备各种衍射光学器件。而由于H-PDLC中往往需要额外掺入各种光敏聚合物、交联剂等化学物质，因此相较于普通本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统，包括用于发射单束激光束的激光器和用于固定刻蚀样品的可控载物台，其特征在于还包括：激光倍频系统，将所述的激光器发射的单束激光束转换为紫外激光束；光束整形系统，从所述的激光倍频系统输出的紫外激光束通过所述的光束整形系统后形成为一聚焦光斑，所述的刻蚀样品位于所述的光束整形系统输出的聚焦光斑的焦平面上，所述的光束整形系统输出的聚焦光斑照射于所述的刻蚀样品上完成微米级的图案的刻蚀；所述的刻蚀样品为聚合物分散液晶光开关。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张斌，潘雪丰，胡银灿，陶卫东，董建峰，
申请(专利权)人：宁波大学，
类型：发明
国别省市：