生长在金属Ag衬底上的AlN薄膜及其制备方法、应用技术

技术编号:8367435 阅读:276 留言:0更新日期:2013-02-28 07:03
本发明专利技术公开了一种生长在金属Ag衬底上的AlN薄膜,其采用金属Ag为衬底,选择Ag衬底的(111)晶面偏向(100)方向0.5-1°的晶体取向,在金属单晶Ag(111)衬底上采用脉冲激光沉积生长法生长出外延AlN薄膜。本发明专利技术的生长在金属Ag衬底上的AlN薄膜可应用于LED器件、光电探测器、太阳能电池器件、激光器、薄膜体声波谐振器中。本发明专利技术采用了Ag作为衬底,且选择合适的晶体取向,无论是在缺陷密度、表面粗糙度、还是在结晶质量方面均具有优异性能,优于目前已经报道的应用传统衬底获得的AlN薄膜的相关结果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种AlN薄膜,具体涉及一种生长在金属Ag衬底上的AlN薄膜及其制备方法和应用。
技术介绍
发光二极管(即LED)作为一种新型固体照明光源和绿色光源,由于具有体积小、耗电量低、环保、使用寿命长、高亮度、低热量以及多彩等突出的特点,在室外照明、商业照明以及装饰工程等领域广泛应用。当前,在全球气候变暖问题日趋严峻的背景下,节约能源、 减少温室气体排放成为全球共同面对的重要问题。以低能耗、低污染、低排放为基础的低碳经济,将成为经济发展的重要方向。在照明领域,LED发光产品的应用正吸引着世人的目光。LED作为一种新型的绿色光源产品,必然是未来发展的趋势,二十一世纪将是以LED为代表的新型照明光源的时代。但是,现阶段LED的应用成本较高,发光效率较低,这些因素大大限制了 LED向高效节能环保的方向发展。III A族氮化物AlN (即是氮化铝)在电学、光学以及声学上具有极其优异的性质,近几年来受到广泛关注。AlN是直接带隙材料,其声波传输速度快、化学和热稳定性好,热导率高、热膨胀系数低、击穿介电强度高,是制造高效的薄膜体声波谐振器、LED器件等电器件的理想材料。目前,氮化物LED本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种生长在金属Ag衬底上的AlN薄膜的制备方法,其特征在于:采用金属Ag为衬底,选择Ag衬底的(111)晶面偏向(100)方向0.5-1°的晶体取向,在金属单晶Ag(111)衬底上生长出外延AlN薄膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李国强
申请(专利权)人:广州市众拓光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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