本发明专利技术涉及一种零污泥排放的印染废水处理工艺，该工艺是将退浆废水经IC厌氧池处理后出水和好氧硝化液共同进入间歇缺氧池，使缺氧池中同时发生反硝化、硫氧化、污泥吸附增殖和污泥浓宿，回收好氧硝化液中的硝态氧、降低进入好氧池的硫离子浓度，使IC厌氧池出水中的悬浮颗粒得到吸附，澄清出水排入氧化池。好氧剩余污泥发挥吸附作用之后排入CSTR池消化减量，最终的剩余污泥经过压滤机处理后，通过柱塞泵泵入沸腾炉完成污泥焚烧。该工艺显著提高了沉降污泥的沉降性能，提高了COD的去除率，实现了剩余污泥的零排放，并且无有害气体产生，更加环保、高效，工艺可操作性强，一次性投资低，处理效果明显。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及难生物降解的工业废水处理领域，具体涉及一种零污泥排放的印染废水处理工艺。
技术介绍
印染废水中污染物主要是染料和表面活性剂，处理时常加入铁盐脱色，利用生化池处理后剩余污泥量大。如日排废水7000m3的印染厂，就会日产含水率80%的污泥IOOm3。采用填埋污染的方式，会污染地下水，不能满足环保的要求。采用深度脱水处理的方式，二次压滤投资大、效率低；烘干时尾气难以处理，并因水质腐蚀性强，造成设备使用寿命缩短。另外，即使干化后，因污染物自身的特殊性也不能随意排弃到环境中，所以如何找到一个最理想、最彻底的污泥处理的方式，是目前急需解决的问题。另外印染废水中的退浆废水COD浓度高达20g/l以上，水量为总水量的1/10，而仅COD负荷就占到了总负荷的1/2。其中退浆废水中主要污染物为PVA、羧甲基纤维素和表面活性剂及布面花毛，水质单一，可降解性差，较高的硫酸根含量(3-5g/l)及较高的含碱量(3-5g/l)使单独厌氧处理时难以形成沉降性能良好地活性污泥，COD去除率较低。依赖单一的物化处理工艺，已经成为印染废水处理的瓶颈。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术提出了一种零污泥排放的印染废水处理工艺，本工艺可提高废水中的COD去除率，达到剩余污泥的零排放，并且无有害气体产生，更加环保、闻效。本专利技术的技术方案是通过如下步骤来实现的 a、向IC厌氧池中加入接种污泥后，将印染退浆废水排入IC厌氧池，同时向IC厌氧池加入工业葡萄糖，加入量为原水浓度的1%_3%，接种污泥中的水解酸化菌、甲烷菌使退浆废水中的大部分溶解性污染物发生水解及甲烷化反应，生成甲烷和二氧化碳； b、印染退浆废水之外的原水排入好氧池，好氧池回流硝化液至缺氧池； c、IC厌氧池出水与好氧池排出的好氧硝化液共同排入间歇缺氧池，缺氧池中的上清液排入好氧池，缺氧池中的剩余污泥排入CSTR厌氧消化池，CSTR厌氧消化池中的上清液回排到间歇缺氧池，CSTR厌氧消化池中剩余污泥排入压滤机脱水； d、好氧池中的水COD达到500mg/l以下，外排；污泥经带式压滤机处理至含水率80%-90%，将处理后污泥通过柱塞泵泵入沸腾炉顶部，炉内温度控制在950-1050°C，污泥由沸腾炉顶部落下，完成污泥焚烧，成为灰分。其中IC厌氧池里面的水温控制在35_38°C，厌氧水力停留时间为4_4· 5天，上升流速为6-8 m/h, CSTR厌氧消化池采用上流式脉冲布水，水力停留15-17天，上升流速3m/h，好氧池采用的活性污泥法，水力停留时间I. 5-2天，曝气气水比为25-30:1，污泥浓度为5000-5500mg/l,间歇缺氧池中水力停留时间为2-2. 5天，采用曝气方式为微孔曝气。另外陶瓷柱塞泵经陶瓷衬层处理，耐腐蚀性和耐磨性优于一般金属泵；并可通过线性调整进油量，实现泥量处理的调整。本专利技术所属技术方案有以下有益效果本工艺可实现废水处理剩余污泥的零排放，避免剩余污泥排放到环境中对环境造成污染；利用IC厌氧池、间歇缺氧池、好氧池和CSTR厌氧消化池的生化回流处理设计，提高了废水中的COD去除率，避免带入污泥后焚烧产生有害气体；该工艺可操作性强，一次性投资低，处理效果明显，具有较高的经济效益和社会效益。附图说明附图I为本专利技术所述一种零污泥排放的印染废水处理工艺的工艺流程示意图，其中图中I为退浆废水，2为IC厌氧池，3为间歇缺氧池，4为好氧池，5为CSTR厌氧消化池，6为压滤机，7为退衆废水之外的废水,8为沸腾炉。 具体实施例方式为了使本专利技术的技术方案更加清楚明白，下面结合附图用实施例对本专利技术作进一步的说明。实施例 a、向IC厌氧池2中加入接种污泥后，将印染退浆废水I排入IC厌氧池2，同时向IC厌氧池2加入工业葡萄糖，加入量为原水浓度的2%，接种污泥中的水解酸化菌、甲烷菌使退浆废水中大部分(70%_85%)溶解性污染物发生水解及甲烷化反应，生成甲烷和二氧化碳； b、印染退浆废水之外的废水7排入好氧池4，好氧池4回流硝化液至缺氧池3； c、IC厌氧池2出水与好氧池4排出的好氧硝化液共同排入间歇缺氧池3，缺氧池3中的上清液排入好氧池4，缺氧池3中的剩余污泥排入CSTR厌氧消化池5，CSTR厌氧消化池5中的上清液回排到间歇缺氧池3，CSTR厌氧消化池5中剩余污泥排入压滤机6脱水； d、好氧池4中的水COD达到500mg/l以下，外排；污泥经带式压滤机6处理至含水率85%，将处理后污泥通过柱塞泵泵入沸腾炉8顶部，炉内温度控制在1000°C，污泥由沸腾炉8顶部落下，完成污泥焚烧，成为灰分。其中IC厌氧池2里面的水温控制在35_38°C，厌氧水力停留时间为5天，上升流速为8 m/h, CSTR厌氧消化池5采用上流式脉冲布水,水力停留20天，上升流速3m/h,好氧池4采用的活性污泥法，水力停留时间2天，曝气气水比为30:1，污泥浓度为5000mg/l，间歇缺氧池3中水力停留时间为2天，采用曝气方式为微孔曝气。另外柱塞泵经陶瓷衬层处理。权利要求1.一种零污泥排放的印染废水处理工艺，其特征在于工艺步骤为 a、向IC厌氧池中加入接种污泥后，将印染退浆废水排入IC厌氧池，同时向IC厌氧池加入工业葡萄糖，加入量为原水浓度的1%_3%，接种污泥中的水解酸化菌、甲烷菌使退浆废水中70%-80%的污染物发生水解及甲烷化反应，生成甲烷和二氧化碳； b、印染退浆废水之外的原水排入好氧池，好氧池排放回流硝化液至缺氧池； c、IC厌氧池出水与好氧池排放回流硝化液共同排入间歇缺氧池，缺氧池中的上清液排入好氧池，缺氧池中的剩余污泥排入CSTR厌氧消化池，CSTR厌氧消化池中的上清液回排到间歇缺氧池，CSTR厌氧消化池中剩余污泥排入压滤机脱水； d、好氧池中的水COD达到500mg/l以下，外排；污泥经带式压滤机处理至含水率80%-90%，将处理后污泥通过柱塞泵泵入沸腾炉顶部，保持流动性，炉内温度控制在950-1050°C，污泥由沸腾炉顶部落下，完成污泥焚烧，成为灰分。2.根据权利要求I所述的一种零污泥排放的印染废水处理工艺，其特征在于IC厌氧池里面的水温控制在35-38°C，厌氧水力停留时间为4-4. 5天，上升流速为6-8 m/h，CSTR厌氧消化池采用上流式脉冲布水，水力停留15-17天,上升流速3m/h,好氧池采用的活性污泥法，水力停留时间15. -2天，曝气气水比为25-30:1，污泥浓度为5000-5500mg/l，间歇缺氧池中水力停留时间为2-2. 5天，采用曝气方式为微孔曝气。3.根据权利要求I所述的一种零污泥排放的印染废水处理工艺，其特征在于柱塞泵中加陶瓷衬层。全文摘要本专利技术涉及一种零污泥排放的印染废水处理工艺，该工艺是将退浆废水经IC厌氧池处理后出水和好氧硝化液共同进入间歇缺氧池，使缺氧池中同时发生反硝化、硫氧化、污泥吸附增殖和污泥浓宿，回收好氧硝化液中的硝态氧、降低进入好氧池的硫离子浓度，使IC厌氧池出水中的悬浮颗粒得到吸附，澄清出水排入氧化池。好氧剩余污泥发挥吸附作用之后排入CSTR池消化减量，最终的剩余污泥经过压滤机处理后，通过柱塞泵泵入沸腾炉完成污泥焚烧。该工艺显著提高了沉降污泥的沉降性能，提高了COD的去除率，实现了剩余污泥的零排放，并且无有害气本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种零污泥排放的印染废水处理工艺，其特征在于：工艺步骤为：a、向IC厌氧池中加入接种污泥后，将印染退浆废水排入IC厌氧池，同时向IC厌氧池加入工业葡萄糖，加入量为原水浓度的1%？3%，接种污泥中的水解酸化菌、甲烷菌使退浆废水中70%？80%的污染物发生水解及甲烷化反应，生成甲烷和二氧化碳；b、印染退浆废水之外的原水排入好氧池，好氧池排放回流硝化液至缺氧池；c、IC厌氧池出水与好氧池排放回流硝化液共同排入间歇缺氧池，缺氧池中的上清液排入好氧池，缺氧池中的剩余污泥排入CSTR厌氧消化池，CSTR厌氧消化池中的上清液回排到间歇缺氧池，CSTR厌氧消化池中剩余污泥排入压滤机脱水；d、好氧池中的水COD达到500mg/l以下，外排；污泥经带式压滤机处理至含水率80%？90%，将处理后污泥通过柱塞泵泵入沸腾炉顶部，保持流动性，炉内温度控制在950？1050℃，污泥由沸腾炉顶部落下，完成污泥焚烧，成为灰分。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王力民，罗维新，孙国庆，周新民，李志海，张炳营，王希刚，孙中然，于涛，赵奇生，
申请(专利权)人：华纺股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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