本发明专利技术涉及液晶显示面板及其制造方法。本发明专利技术提供一种能够在低成本和良好产量下制造具有以合成一体的方式形成的柱镜光栅式透镜和基板的液晶显示面板的结构和制造方法。当通过使用湿法蚀刻方法而将柱镜光栅式透镜形成到母CF基板上时，基板被浸入蚀刻溶液中，同时以如此方式被立起，即，使得掩模的狭缝开口部的长度方向与竖直方向对准，并且不具有任何掩模图案的区域到达底侧上。由此，能够沿着柱镜光栅式透镜形状朝向下侧排出由于玻璃杂质而产生的残余以将其排放到平坦区域，这使得能够抑制经蚀刻处理的形状的劣化。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种，该液晶显示面板具有安装在其显示表面上的柱镜光栅式透镜(lenticular lens)。
技术介绍
近来，在朝向多个视点提供不同图像的显示设备方面已经开展了活跃的研究。例如，日本未审查专利公开6-332354 (专利文献I :第0070-0073段、图10)公开了一种向位于不同位置处的多个观察者同时地提供不同图像的显示设备，并且日本未审查专利公开2005-208567 (专利文献2 :第0101段)公开了一种显示设备，向观察者的左眼和右眼发送不同的图像从而允许观察者将图像识别为立体图像。这两种显示设备均利用包括多个半圆柱状透镜的柱镜光栅式透镜，其中为每个方向提供的图像被合成并且图像被分配到相应的方向。图14是示出一种液晶显示面板的结构的截面视图，作为独立的部件的柱镜光栅式透镜被装入到该液晶显示面板。以下述结构形成图14所示的液晶显示面板，在该结构中，薄膜晶体管(在下文中被称作TFT)基板36和滤色器基板(color filter substrate) 30(在下文中被称作CF基板)经由密封构件32而被层叠，并且扭曲向列(在下文中被称作TN)液晶34被密封于两基板之间。面向CF基板30侧的表面，TFT基板36具有薄膜元件区域37，在其上形成TFT像素开关阵列、信号线、扫描线、像素电极、TFT驱动电路等。已经在其上进行摩擦处理的取向膜(alignment film) 39被印在TFT基板36的、面向CF基板30侧的表面的一部分上，在该侧密封有TN液晶34,并且偏振板38被设于相反侧表面上。同时，面向TFT基板36侧的表面，CF基板30具有在其上形成对向电极、金属光屏蔽膜等的对向电极形成层35。配置有色层、黑色矩阵(black matrix)、涂层等的CF层31被设于在密封有TN液晶34的TFT基板36侧的表面的一部分上，并且在该表面上涂覆已经进行摩擦处理的取向膜39。此外,偏振板38和柱镜光栅式透镜33被设于CF基板30的相反侧表面上。然而，因为通过将分开地形成的柱镜光栅式透镜33层叠到CF基板30上而形成这种液晶显示面板，所以在视差热膨胀、重量增加、叠层中的长期可靠性的缺乏等方面产生一些问题。日本未审查专利公开10-268247(专利文献3 :第0049-0052段、图2)和2004-4745(专利文献4:第0107-0116段、图I)公开了能够改进这种问题的技术实例。在专利文献3和专利文献4中公开的技术通过在玻璃基板上使用HF (氢氟酸)溶液执行湿法蚀刻而形成透镜形状。通过应用这种技术，能够以合成一体的方式在CF基板(玻璃基板)的表面上形成柱镜光棚式透镜形状。然而，不像仅仅利用SiO2形成的石英玻璃基板，用于液晶显示面板的普通玻璃基板除了具有SiO2之外，还含有作为杂质的例如Al (铝)、Ba (钡)、Ca (钙)、Sr (银)的氧化物。因此，当通过使用HF溶液执行湿法蚀刻工艺时，例如AIF3、BaF2、CaF2、SrF2等的残余被产生和保留，这引起蚀刻形状可控性降低。这导致每一个均具有使柱镜光栅式透镜合成一体的基板的液晶显示面板的生产率降低。为了避免残余的影响，专利文献3公开了一种不含有Ba的玻璃基板。然而，如上所述，在用于液晶显示面板的普通玻璃基板上形成的剩余的杂质不仅仅是Ba。此外，不含Ba的玻璃是昂贵的，从而成本增加。
技术实现思路
已经鉴于前述的问题而设计出本专利技术，并且它是一种具有柱镜光栅式透镜的并且 是在以合成一体的方式形成的玻璃基板的表面上的液晶显示面板。它是本专利技术的示例性实施例，用于提供一种，能够通过避免所产生的残余的影响而改进质量和生产率，同时不增加在于制造面板期间执行湿法蚀刻时的成本。为了实现前述的示例性目的，根据本专利技术的一个示例性方面的液晶显示面板是以下面所述的结构形成的一种液晶显示面板，即，在所述结构中，液晶层被密封在第一玻璃基板和第二玻璃基板之间，其中第一玻璃基板具有柱镜光栅式透镜形状凹进部分，其中，平行地布置多个凹进半圆柱状透镜并且半圆柱状透镜的至少一个轴向端被打开，面向是液晶层侧的相反侧的表面，并且具有邻近于凹进柱镜光栅式透镜部分的打开端面侧设置的平坦部分；并且在该平坦部分中的基板厚度等于或者小于在该凹进透镜部分的底部中的基板厚度。此外，根据本专利技术另一示例性方面的液晶显示面板制造方法是这样一种液晶制造方法，该方法包括用于层叠第一玻璃基板和第二玻璃基板的基板层叠步骤，和用于在第一玻璃基板和第二玻璃基板之间注入并且密封液晶的液晶密封步骤。该特征方法被构造成用以执行用于在第一玻璃基板的表面上形成蚀刻掩模的掩模形成步骤，该表面是与第二玻璃基板层叠的表面的相反侧表面；用于在执行基板层叠步骤之后在层叠的两基板的每个外侧表面上应用湿法蚀刻的蚀刻步骤；和在完成蚀刻之后从第一玻璃基板玻璃移除掩模的掩模移除步骤。在掩模形成步骤中，如此形成掩模，其中，平行地布置多个狭缝状开口部，所述狭缝状开口部使端部至少之一被打开，所述多个狭缝状开口部面向打开的端的同一方向而取向。在蚀刻步骤中，层叠的两基板以如此方式被放置，即，使得掩模的狭缝状开口部的打开端侧面向下方并且狭缝长度方向悬于竖直方向，并且湿法蚀刻在这种状态中被应用于两玻璃基板的每个外侧表面，以在第一玻璃基板的表面上形成对应于掩模的形状的柱镜光栅式透镜凹进部分。附图说明图I是示出根据本专利技术的示例性实施例的液晶显示面板的结构的截面视图2是示出在图I中公开的液晶显示面板的结构的透视图；图3是示出作为本专利技术的示例性实施例的液晶显示面板制造方法的初始步骤的示意图；图4是作为本专利技术的示例性实施例的液晶显示面板的制造方法的掩模形成步骤；图5是作为本专利技术的示例性实施例的液晶显示面板的制造方法的基板层叠步骤；图6是作为本专利技术的示例 性实施例的液晶显示面板的制造方法的湿法蚀刻步骤；图7是示出在执行蚀刻的同时图6所示CF基板的X-X’截面的截面视图；图8是示出当完成蚀刻时图6所示CF基板的X-X’截面的截面视图；图9是示出当蚀刻失败时图6所示CF基板的X-X’截面的截面视图；图10是示出在填充透明树脂之后图6所示CF基板的X-X’截面的截面视图；图11是作为本专利技术的示例性实施例的液晶显示面板的制造方法的湿法蚀刻步骤的另一实例；图12是一种多视点显示设备的外观，在图I中公开的液晶显示面板被装入到该多视点显示设备；图13示出在图12中的多视点显示设备的显示屏幕的Y-Y’截面，它是用于描述其显示特性的原理的示意图；并且图14是示出现有技术的通用的液晶显示面板的结构的截面视图。具体实施例方式在下文中将参考附图描述本专利技术的示例性实施例。图I是示出根据这个示例性实施例的液晶显示(LCD)面板的结构的截面视图。图2是图I所示IXD面板的透视图。如在图I和图2中所示，这个示例性实施例的IXD面板100具有作为第一玻璃基板的滤色器基板20 (在下文中被称作CF基板)和作为第二玻璃基板的薄膜晶体管(在下文中被称作TFT)基板16，经由密封构件22层叠。液晶23被密封在两基板之间以形成液晶层23。TFT基板16的表面面积被形成为比CF基板20的更大，用于在TFT基板16上安装FPC(柔性印刷电路)。在CF基板20侧的表面上，TFT基板16具有薄膜元件区域17，本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种液晶显示面板，以液晶层被密封于第一玻璃基板和第二玻璃基板之间的结构而形成，其中：在所述液晶层侧的相反侧的表面上，所述第一玻璃基板具有柱镜光栅式透镜凹进部分，在所述柱镜光栅式透镜凹进部分中，平行地布置多个凹进半圆柱状并且凹进半圆柱状的端中的至少一个被打开，并且所述第一玻璃基板具有平坦部分，所述平坦部分垂直于所述柱镜光栅式透镜凹进部分的延伸方向并且邻近所述柱镜光栅式透镜凹进部分的所述被打开的端而设置；在所述平坦部分的第一玻璃基板厚度等于或者小于在所述柱镜光栅式透镜凹进部分的凹进的底部的基板厚度；并且当通过湿法蚀刻而将所述柱镜光栅式透镜凹进部分直接地形成到所述第一玻璃基板上时，沿着柱镜光栅式透镜形状排放由于所述第一玻璃基板的杂质所产生的残余，从而通过所述打开端将所述残余从所述平坦部分排出。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：奥村展，金子节夫，
申请(专利权)人：NLT科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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